JP6879812B2 - リチウム塩錯化合物、電池用添加剤、電池用非水電解液、及びリチウム二次電池 - Google Patents

Description

本開示は、リチウム塩錯化合物、電池用添加剤、電池用非水電解液、及びリチウム二次電池に関する。

リチウム塩化合物は従来、反応試剤、合成反応触媒、各種電気化学デバイス用電解質、ドーピング剤、潤滑油の添加剤などの用途で有用に使用されてきていた。このリチウム塩化合物は熱的な安定性や水に対する安定性に乏しいものが多いことから、リチウム塩化合物を錯化可能な化合物と処理することにより安定性を向上させた錯化合物が開発されてきている。

リチウム塩錯化合物の具体的な例としてはこれまでに、ヘキサフルオロヒ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウムとアセトニトリルとの錯化合物（特許文献１参照）、ハロゲン化リチウムやテトラフルオロホウ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウム等のリチウム塩とＮ，Ｎ，Ｎ’,Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミン等の化合物との錯化合物（特許文献２参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとクラウンエーテルとの錯化合物（特許文献３参照）、ヘキサフルオロヒ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウムと２−メチルテトラヒドロフランとの錯化合物（特許文献４参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとピリジンとの錯化合物（特許文献５参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとジエチルカーボネートやエチレンカーボネートとの錯化合物（特許文献６参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムと１，４−ジオキサンとの錯化合物（特許文献７参照）等が開示されている。

特公昭４８−３３７３３号 特公昭５３−３１８５９号 特開昭５９−１５１７７９号 特公平６−１６４２１号 特表２００２−５１４１５３号 特許３５５５７２０号 特許５８６２０１５号

本開示の課題は、新規なリチウム塩錯化合物を提供することである。
また、本開示の課題は、電池抵抗を低減できる電池用添加剤及び電池用非水電解液、並びに、上記電池用非水電解液を含むリチウム二次電池を提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有するスルホン酸リチウム塩、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有する硫酸リチウム塩、及び硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩からなる群から選択される１種のリチウム塩と、
下記式（Ｉ）〜下記式（IV）で表される化合物群から選択される１種の化合物と、
からなるリチウム塩錯化合物。

（式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１及びＲ^３、又は、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。
式（II）中、Ｒ^４〜Ｒ^７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^４及びＲ^５、Ｒ^６及びＲ^７、又は、Ｒ^５及びＲ^６は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。
式（III）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^８及びＲ^９は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。
式（IV）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１０及びＲ^１１は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基又はスルホニルアルキレンスルホニル基を表してもよい。）

＜２＞ トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド、及びリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドからなる群から選択される１種のリチウム塩と、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、からなる＜１＞に記載のリチウム塩錯化合物。

＜３＞ メチル硫酸リチウムと、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
からなる＜１＞又は＜２＞に記載のリチウム塩錯化合物。

＜４＞ メチル硫酸リチウムと、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
からなる＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物。

＜５＞ ＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物を含む電池用添加剤。

＜６＞ ＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物を含む電池用非水電解液。
＜７＞ 正極と、
金属リチウム、リチウム含有合金、リチウムとの合金化が可能な金属若しくは合金、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な酸化物、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な遷移金属窒素化物、及び、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な炭素材料からなる群から選ばれる少なくとも１種を負極活物質として含む負極と、
＜６＞に記載の電池用非水電解液と、
を含むリチウム二次電池。
＜８＞ ＜７＞に記載のリチウム二次電池を充放電させて得られたリチウム二次電池。

本開示によれば、新規なリチウム塩錯化合物が提供される。
また、本開示によれば、電池抵抗を低減できる電池用添加剤及び電池用非水電解液、並びに、上記電池用非水電解液を含むリチウム二次電池が提供される。

本開示のリチウム二次電池の一例である、ラミネート型電池の一例を示す概略斜視図である。 図１に示すラミネート型電池に収容される積層型電極体の、厚さ方向の概略断面図である。 本開示のリチウム二次電池の別の一例である、コイン型電池の一例を示す概略断面図である。

本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。

〔リチウム塩錯化合物〕
本開示のリチウム塩錯化合物は、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有するスルホン酸リチウム塩、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有する硫酸リチウム塩、及び硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩からなる群から選択される１種のリチウム塩（以下、「特定リチウム塩」ともいう）と、
下記式（Ｉ）〜下記式（IV）で表される化合物群から選択される１種の化合物（以下、「特定化合物」ともいう）と、
からなるリチウム塩錯化合物である。

式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１及びＲ^３、又は、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（II）中、Ｒ^４〜Ｒ^７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^４及びＲ^５、Ｒ^６及びＲ^７、又は、Ｒ^５及びＲ^６は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（III）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^８及びＲ^９は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（IV）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１０及びＲ^１１は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基又はスルホニルアルキレンスルホニル基を表してもよい。

本開示のリチウム塩錯化合物は、特定リチウム塩と特定化合物とからなる新規なリチウム塩錯化合物である。

本開示のリチウム塩錯化合物は、原料化合物（特定リチウム塩及び特定化合物）には認められない融点が観測され、更にこの融点より高い温度で吸熱熱解離挙動が観測される。 即ち、本開示のリチウム塩錯化合物は、熱的安定性に優れた化合物である。

次に、本開示のリチウム塩錯化合物を形成する特定リチウム塩、及び特定化合物について順に説明する。

＜特定リチウム塩＞
特定リチウム塩は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有するスルホン酸リチウム塩、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌ（ただし、環状エステル基及びオキサラト基を除く）を有する硫酸リチウム塩、及び硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩から選択される１種のリチウム塩である。

置換基Ｌは、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される１種の置換基である。
置換基Ｌは１種であっても２種以上であってもよい。置換基Ｌが２種以上の場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基とは、無置換のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を意味する。
ハロゲン化アルキル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキル基を意味する。
無置換のアルキル基及びハロゲン化アルキル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキル基としては、例えば無置換の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などが挙げられる。
無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又はイソプロピル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
ハロゲン化アルキル基としては、例えば炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が挙げられ、具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソブチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモプロピル基、ヨウ化メチル基、ヨウ化エチル基、ヨウ化プロピル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のフルオロアルキル基が好ましく、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、又はパーフルオロヘキシル基がより好ましい。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基とは、無置換のアルコキシ基又はハロゲン化アルコキシ基を意味する。
ハロゲン化アルコキシ基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルコキシ基を意味する。
無置換のアルコキシ基及びハロゲン化アルコキシ基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルコキシ基としては、例えば無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基などが挙げられる。
無置換のアルコキシ基としては、エトキシ基又はメトキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ハロゲン化アルコキシ基としては、前述の無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基とは、無置換のアルケニル基又はハロゲン化アルケニル基を意味する。
ハロゲン化アルケニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルケニル基を意味する。
無置換のアルケニル基及びハロゲン化アルケニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルケニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基（２−プロペニル基）、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、ヘキセニル基などが挙げられる。
無置換のアルケニル基としては、ビニル基又はアリル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
ハロゲン化アルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基とは、無置換のアルキニル基又はハロゲン化アルキニル基を意味する。
ハロゲン化アルキニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキニル基を意味する。
無置換のアルキニル基及びハロゲン化アルキニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的には、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基と同義）、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１−ヘキシニル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキニル基としては、前述の無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。

ハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい環状エステル基としては、環状エステル基が少なくとも１個のハロゲン原子もしくはアルキル基によって置換されている構造の基が挙げられる。
環状エステル基としては、例えばラクトンから水素原子が１つ解離した基が挙げられる。ラクトンとしては、例えば、α−アセトラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトンが挙げられる。
ハロゲン原子は、前述のハロゲン原子と同義である。
アルキル基としては、前述の無置換の炭素数１〜６のアルキル基と同様のものが挙げられる。

オキサラト基としては、例えば下記式（ａ）で表される基が挙げられる。＊は結合位置を表す。

本開示における「アリール基」とは、無置換のアリール基と置換されたアリール基とのいずれをも含む。
アリール基としては、例えば、炭素数６〜２０の無置換のアリール基、炭素数７〜２０の置換されたアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基；アルキルベンゼンから水素原子が１個外れた基（例えば、ベンジル基、トリル基、キシリル基、メチシル基等）；ナフチル基；ナフタレンのアルキル基置換体から水素原子が１個外れた基；等が挙げられる。なお、置換されたアリール基における置換基としては上記に限定されず、例えば、前述のハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、無置換のアルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、無置換のアルキニル基、ハロゲン化アルキニル基などが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基が好ましい。

特定リチウム塩としてのスルホン酸リチウム塩の硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ビニル基、アリル基、又はフェニル基が好ましく、
特定リチウム塩としての硫酸リチウム塩の硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、メチル基又はドデシル基が好ましく、
特定リチウム塩としてのスルホニルイミド酸リチウム塩の硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基が好ましい。

（スルホン酸リチウム塩）
特定リチウム塩としてのスルホン酸リチウム塩としては、例えば、フルオロスルホン酸リチウム、メタンスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビニルスルホン酸リチウム、アリルスルホン酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウムなどが挙げられる。
特定リチウム塩としてのスルホン酸リチウム塩としては、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム又はベンゼンスルホン酸リチウムが好ましい。

（硫酸リチウム塩）
特定リチウム塩としての硫酸リチウム塩としては、例えば、メチル硫酸リチウム、ドデシル硫酸リチウムなどが挙げられる。
特定リチウム塩としての硫酸リチウム塩としては、メチル硫酸リチウムが好ましい。

（スルホニルイミド酸リチウム塩）
特定リチウム塩としてのスルホニルイミド酸リチウム塩としては特に制限はないが、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド、又はリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドが好ましい。

＜特定化合物＞
特定化合物は、式（Ｉ）〜式（IV）で表される化合物群から選択される１種である。

（式（Ｉ）で表される化合物）
本開示のリチウム塩錯化合物は、特定リチウム塩と、式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物Ｉ」ともいう）とで形成され得る。

式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１及びＲ^３、又は、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基と同義である。
式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基と同義である。
式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基としては、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルコキシ基が好ましい。

式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基と同義である。
式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましく、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、又はイソプロペニル基がより好ましく、ビニル基が更に好ましい。

式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基と同義である。
式（Ｉ）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。

式（Ｉ）中、アリール基は、置換基Ｌの項で例示したアリール基と同義である。
式（Ｉ）中、アリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^３、又は、Ｒ^２及びＲ^３が一体となって炭素数２〜９のアルキレン基を表す場合における炭素数２〜９のアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
炭素数２〜９のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基などが挙げられる。
上記アルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基がより好ましく、プロピレン基が更に好ましい。
本開示における「炭素数２〜９のアルキレン基」とは、無置換の炭素数２〜９のアルキレン基と置換された炭素数２〜９のアルキレン基とのいずれをも含む。置換基としては、例えば、前述のハロゲン原子、無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、無置換のアルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、無置換のアルキニル基、及びハロゲン化アルキニル基として例示したものと同様のものが挙げられる。

化合物Ｉとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
化合物Ｉとしては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、又はＮ−ビニルピロリドンが好ましく、Ｎ−メチルピロリドンがより好ましい。

（式（II）で表される化合物）
本開示のリチウム塩錯化合物は、特定リチウム塩と、式（II）で表される化合物（以下、「化合物II」ともいう）とで形成され得る。

式（II）中、Ｒ^４〜Ｒ^７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^４及びＲ^５、Ｒ^６及びＲ^７、又は、Ｒ^５及びＲ^６は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基と同義である。
式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、無置換の炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基と同義である。
式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましい。

式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基と同義である。
式（II）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。

式（II）中、アリール基は、置換基Ｌの項で例示したアリール基と同義である。
式（II）中、アリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

式（II）中、Ｒ^４及びＲ^５、Ｒ^６及びＲ^７、又は、Ｒ^５及びＲ^６が一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表す場合における炭素数２〜９のアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、式（Ｉ）中における炭素数２〜９のアルキレン基と同様のものが挙げられる。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基が更に好ましい。

化合物IIとしては、例えば、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、テトラメチル尿素などが挙げられる。
化合物IIとしては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが好ましい。

（式（III）で表される化合物）
本開示のリチウム塩錯化合物は、特定リチウム塩と、式（III）で表される化合物（以下、「化合物III」ともいう）とで形成され得る。

式（III）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^８及びＲ^９は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表してもよい。

式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基と同義である。
式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、メチル基又はトリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基と同義である。
式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましく、ビニル基又はアリル基がより好ましい。

式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基と同義である。
式（III）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。

式（III）中、アリール基は、置換基Ｌの項で例示したアリール基と同義である。
式（III）中、アリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基又は炭素数７〜１０のアルキルアリール基が好ましく、フェニル基又はメチルフェニル基がより好ましい。

式（III）中、Ｒ^８及びＲ^９が一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表す場合における炭素数２〜９のアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、式（Ｉ）中における炭素数２〜９のアルキレン基と同様のものが挙げられる。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基がより好ましい。

化合物IIIとしては、例えば、ジメチルスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド、フェニルトリフルオロメチルスルホキシド、フェニルビニルスルホキシド、アリル（４−メチルフェニル）スルホキシドなどが挙げられる。
化合物IIIとしては、ジメチルスルホキシドが好ましい。

（式（IV）で表される化合物）
本開示のリチウム塩錯化合物は、特定リチウム塩と、式（IV）で表される化合物（以下、「化合物IV」ともいう）とで形成され得る。

式（IV）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１０及びＲ^１１は、一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基又はスルホニルアルキレンスルホニル基を表してもよい。

式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基と同義である。
式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。

式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基と同義である
式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましい。

式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基と同義である
式（IV）中、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。

式（IV）中、アリール基は、置換基Ｌの項で例示したアリール基と同義である。
式（IV）中、アリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

式（IV）中、Ｒ^１０及びＲ^１１が一体となって、炭素数２〜９のアルキレン基を表す場合における炭素数２〜９のアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、式（Ｉ）中における炭素数２〜９のアルキレン基と同様のものが挙げられる。
上記炭素数２〜９のアルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基がより好ましく、炭素数２〜３のアルキレン基が更に好ましい。
式（IV）中、スルホニルアルキレンスルホニル基は、下記式（ｂ）で表される基である。式（ｂ）中、ｎは１〜６の整数である。＊は結合位置を表す。
ｎは、１〜３の整数であることが好ましく、１の整数であることがより好ましい。

化合物IVとしては、例えば、ジメトキシメタン、メトキシエトキシメタン、ジエトキシメタン、メトキシフェノキシメタン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキセパン、(メトキシメトキシ)ベンゼン、１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドなどが挙げられる。
化合物IVとしては、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、又は１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドジメチルスルホキシドが好ましい。

特定化合物としては、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物が好ましい。

〔リチウム塩錯化合物の好ましい態様〕
本開示のリチウム塩錯化合物の好ましい態様は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド、及びリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドからなる群から選択される１種のリチウム塩と、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
からなる錯化合物である。

即ち、本開示のリチウム塩錯化合物の好ましい態様は、以下の錯化合物Ｓ１〜錯化合物Ｓ５４である。

・錯化合物Ｓ１
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ６
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ７
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ８
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ９
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

・錯化合物Ｓ１０
メチル硫酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１１
メチル硫酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１２
メチル硫酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１３
メチル硫酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１４
メチル硫酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１５
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１６
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１７
メチル硫酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１８
メチル硫酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

・錯化合物Ｓ１９
ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２０
ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２１
ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２２
ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２３
ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２４
ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２５
ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２６
ベンゼンスルホン酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２７
ベンゼンスルホン酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

・錯化合物Ｓ２８
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ２９
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３０
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３１
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３２
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３３
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３４
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３５
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３６
リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

・錯化合物Ｓ３７
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３８
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ３９
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４０
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４１
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４２
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４３
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４４
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４５
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

・錯化合物Ｓ４６
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４７
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４８
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ４９
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５０
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５１
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５２
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５３
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ５４
リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

以下、錯化合物Ｓ１〜Ｓ５４を具体的に示す。なお、以下に示す番号（Ｓ１）〜（Ｓ５４）は、上記錯化合物Ｓ１〜Ｓ５４にそれぞれ対応するものである。
なお、本開示のリチウム塩錯化合物は、以下の錯化合物及びその構造に限定されない。

本開示のリチウム塩錯化合物のより好ましい態様は、メチル硫酸リチウムと、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
からなる錯化合物である。

即ち、本開示のリチウム塩錯化合物のより好ましい態様は、前述の錯化合物Ｓ１〜Ｓ５４のうち、以下の錯化合物である。
・錯化合物Ｓ１０
メチル硫酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１５
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１６
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１７
メチル硫酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１８
メチル硫酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物。

本開示のリチウム塩錯化合物の更に好ましい態様は、メチル硫酸リチウムと、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
からなる錯化合物である。

即ち、本開示のリチウム塩錯化合物の更に好ましい態様は、前述の錯化合物Ｓ１〜Ｓ５４のうち、以下の錯化合物である。
・錯化合物Ｓ１０
メチル硫酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１５
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１６
メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物。
・錯化合物Ｓ１７
メチル硫酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物。

〔リチウム塩錯化合物の製造方法〕
本開示のリチウム塩錯化合物の製造方法は、一般的に錯化合物を得るための従来公知の方法を適用することができる。本開示のリチウム塩錯化合物は、通常、特定リチウム塩と特定化合物とを混合させることで得ることができるが、均質な生成物としてリチウム塩錯化合物を得ることが満たされるのであれば、その混合方法、条件は任意に選択することができる。

特定リチウム塩と特定化合物とを混合する際の、特定リチウム塩に対する特定化合物の混合モル比（特定化合物／特定リチウム塩）は、リチウム塩錯化合物を安定して形成する観点から、１〜６であることが好ましく、１〜４であることがより好ましい。
上記混合モル比が１以上であると、特定リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。
上記混合モル比が６以下であると、特定化合物が過剰となる状態を回避しやすい。

特定リチウム塩と特定化合物との混合方法は特に制限されず、両者を直接混合して得てもよいし、溶媒を用いて両者の混合を行ってもよい。

溶媒としては、非水溶媒であって目的とするリチウム塩錯化合物の生成を阻害しなければどのような溶媒でも用いることができる。
上記溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、アセトニトリル、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、トルエン、キシレン（オルト、メタ、パラ）、エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン（キュメン）、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、メシチレンメチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン等が挙げられる。

原料化合物である特定リチウム塩及び特定化合物がどちらも固体の場合には、均質な生成物（リチウム塩錯化合物）を得るために、原料化合物の少なくとも一方を溶解することのできる溶媒を使用することが好ましい。

特定リチウム塩と特定化合物との混合は、常圧下、減圧下のいずれでも行えるが、リチウム塩錯化合物の生成を阻害する成分（例えば水分）の混入を防ぐために、反応系内を窒素、アルゴン等の不活性雰囲気として行うことが好ましい。

特定リチウム塩と特定化合物とを混合する際の温度は、０℃〜１５０℃であることが好ましく、１０℃〜１００℃であることがより好ましく、２０℃〜８０℃であることがさらに好ましい。
温度が０℃以上であると、リチウム塩錯化合物の生成が促進されやすく、温度が１５０℃以下であると、生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、生成率が向上しやすい。

特定リチウム塩と特定化合物との混合時間は、反応を効率よく進行させる観点から、３０分〜１２時間であることが好ましく、１時間〜８時間であることがより好ましい。

特定リチウム塩と特定化合物とを混合した後、本開示のリチウム塩錯化合物を取り出す方法については特に制限はなく、従来公知の方法を任意に選択し実施することができる。例えば、リチウム塩錯化合物がその目的の成分のみの固体として得られた場合には、それを特段の処理なく取り出すこともできるし、溶媒に分散したスラリー状態の固体として得られた場合には、溶媒を分離、乾燥で除去して取り出すこともできる。
また例えば、リチウム塩錯化合物が溶媒に溶解した状態で得られた場合には、該溶液を加熱濃縮して溶媒を留去し取り出す方法や、生成したリチウム塩錯化合物が溶解しない溶媒を該溶液に加えて析出させ、溶媒を分離、乾燥で除去して取り出す方法を行うこともできる。

取り出されたリチウム塩錯化合物の乾燥方法としては、従来公知の方法を任意に選択し実施することができる。例えば、棚段式乾燥機での静置乾燥法；コニカル乾燥機での流動乾燥法；ホットプレート、オーブン等の装置を用いて乾燥させる方法；ドライヤーなどの乾燥機で温風又は熱風を供給する方法；等が挙げられる。

取り出されたリチウム塩錯化合物を乾燥する際の圧力は、常圧、減圧のいずれの条件でも行えるが、乾燥する際の温度は０℃〜１５０℃であることが好ましく、１０℃〜１００℃であることがより好ましく、２０℃〜８０℃であることがさらに好ましい。温度が０℃以上であると乾燥効率がよく、温度が１５０℃以下であると生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、リチウム塩錯化合物を安定して取り出しやすい。

取り出されたリチウム塩錯化合物は、そのまま用いてもよいし、例えば、溶媒中に分散して、又は溶解して用いてもよいし、他の固体物質と混合して用いてもよい。

本開示のリチウム塩錯化合物は、電池用添加剤、反応試剤、合成反応触媒、各種電気化学デバイス用電解質、ドーピング剤、潤滑油の添加剤などの用途で有用に使用できる。
上記リチウム塩錯化合物としては、リチウム電池用添加剤として用いることが好ましく、特にリチウム二次電池用の添加剤として用いることがよい。

〔電池用添加剤〕
〔電池用添加剤〕
本開示の電池用添加剤は、本開示のリチウム塩錯化合物を含む。
本開示の電池用添加剤によれば、電池抵抗を低減できる。
本開示の電池用添加剤は、リチウム二次電池用添加剤であることが好ましく、リチウム二次電池の非水電解液用添加剤であることがより好ましい。

〔電池用非水電解液〕
本開示の電池用非水電解液（以下、単に「非水電解液」ともいう）は、本開示のリチウム塩錯化合物を含む。
本開示の非水電解液は、本開示のリチウム塩錯化合物を含有することにより、電池抵抗を低減できる。

本開示の非水電解液は、上記リチウム塩錯化合物を１種のみ含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
本開示の非水電解液は、上記リチウム塩錯化合物を電池用添加剤として含んでもよいし、電解質の供給源として含んでもよい。

本開示の非水電解液が、上記リチウム塩錯化合物を電池用添加剤として含む場合、電池用添加剤の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、非水電解液の全量に対し、０．００１質量％〜１０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．０５質量％〜５質量％が更に好ましく、０．１質量％〜５質量％が更に好ましく、０．５質量％〜５質量％が更に好ましく、０．５質量％〜３質量％が更に好ましく、０．５質量％〜２質量％が更に好ましい。

本開示の非水電解液が、上記リチウム塩錯化合物を電解質の供給源として含む場合、電解質の濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌ〜３ｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ〜２ｍｏｌ／Ｌがより好ましい。

なお、実際に電池を解体して採取した非水電解液を分析しても、上記リチウム塩錯化合物の量が、非水電解液への添加量と比較して減少している場合がある。従って、電池から取り出した非水電解液中に少量でも上記リチウム塩錯化合物が検出できる場合には、本開示の非水電解液の範囲に含まれる。
また、非水電解液から上記リチウム塩錯化合物が検出できない場合であっても、非水電解液中や電極の被膜中に、上記リチウム塩錯化合物の分解物由来の化合物が検出される場合も、本開示の非水電解液の範囲に含まれるとみなされる。
これらの取り扱いは、非水電解液に含有され得る上記リチウム塩錯化合物以外の化合物についても同様である。

次に、非水電解液の他の成分について説明する。
非水電解液は、一般的には、非水溶媒を含有する。

＜非水溶媒＞
非水溶媒としては、種々公知のものを適宜選択することができるが、環状の非プロトン性溶媒及び鎖状の非プロトン性溶媒から選ばれる少なくとも一方を用いることが好ましい。
電池の安全性の向上のために、溶媒の引火点の向上を志向する場合は、非水溶媒として環状の非プロトン性溶媒を使用することが好ましい。

（環状の非プロトン性溶媒）
環状の非プロトン性溶媒としては、環状カーボネート、環状カルボン酸エステル、環状スルホン、環状エーテルを用いることができる。

環状の非プロトン性溶媒は単独で使用してもよいし、複数種混合して使用してもよい。
環状の非プロトン性溶媒の非水溶媒中の混合割合は、１０質量％〜１００質量％、さらに好ましくは２０質量％〜９０質量％、特に好ましくは３０質量％〜８０質量％である。このような比率にすることによって、電池の充放電特性に関わる電解液の伝導度を高めることができる。

環状カーボネートの例として具体的には、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、１，２−ブチレンカーボネート、２，３−ブチレンカーボネート、１，２−ペンチレンカーボネート、２，３−ペンチレンカーボネートなどが挙げられる。これらのうち、誘電率が高いエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートが好適に使用される。負極活物質に黒鉛を使用した電池の場合は、エチレンカーボネートがより好ましい。また、これら環状カーボネートは２種類以上を混合して使用してもよい。

環状カルボン酸エステルとして、具体的にはγ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、あるいはメチルγ−ブチロラクトン、エチルγ−ブチロラクトン、エチルδ−バレロラクトンなどのアルキル置換体などを例示することができる。

環状カルボン酸エステルは、蒸気圧が低く、粘度が低く、かつ誘電率が高く、電解液の引火点と電解質の解離度を下げることなく電解液の粘度を下げることができる。このため、電解液の引火性を高くすることなく電池の放電特性に関わる指標である電解液の伝導度を高めることができるという特徴を有するので、溶媒の引火点の向上を指向する場合は、上記環状の非プロトン性溶媒として環状カルボン酸エステルを使用することが好ましい。環状カルボン酸エステルの中でも、γ−ブチロラクトンが最も好ましい。
また、環状カルボン酸エステルは、他の環状の非プロトン性溶媒と混合して使用することが好ましい。例えば、環状カルボン酸エステルと、環状カーボネート及び／又は鎖状カーボネートとの混合物が挙げられる。

環状スルホンの例としては、スルホラン、２−メチルスルホラン、３―メチルスルホラン、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジプロピルスルホン、メチルエチルスルホン、メチルプロピルスルホンなどが挙げられる。
環状エーテルの例としてジオキソランを挙げることができる。

（鎖状の非プロトン性溶媒）
鎖状の非プロトン性溶媒としては、鎖状カーボネート、鎖状カルボン酸エステル、鎖状エーテル、鎖状リン酸エステルなどを用いることができる。

鎖状の非プロトン性溶媒の非水溶媒中の混合割合は、１０質量％〜１００質量％、さらに好ましくは２０質量％〜９０質量％、特に好ましくは３０質量％〜８０質量％である。

鎖状カーボネートとして具体的には、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルプロピルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、エチルプロピルカーボネート、ジプロピルカーボネート、メチルブチルカーボネート、エチルブチルカーボネート、ジブチルカーボネート、メチルペンチルカーボネート、エチルペンチルカーボネート、ジペンチルカーボネート、メチルヘプチルカーボネート、エチルヘプチルカーボネート、ジヘプチルカーボネート、メチルヘキシルカーボネート、エチルヘキシルカーボネート、ジヘキシルカーボネート、メチルオクチルカーボネート、エチルオクチルカーボネート、ジオクチルカーボネート、メチルトリフルオロエチルカーボネートなどが挙げられる。これら鎖状カーボネートは２種類以上を混合して使用してもよい。

鎖状カルボン酸エステルとして具体的には、ピバリン酸メチルなどが挙げられる。
鎖状エーテルとして具体的には、ジメトキシエタンなどが挙げられる。
鎖状リン酸エステルとして具体的には、リン酸トリメチルなどが挙げられる。

（溶媒の組み合わせ）
本開示の非水電解液で使用する非水溶媒は、１種類でも複数種類を混合して用いてもよい。また、環状の非プロトン性溶媒のみを１種類又は複数種類用いても、鎖状の非プロトン性溶媒のみを１種類又は複数種類用いても、又は環状の非プロトン性溶媒及び鎖状のプロトン性溶媒を混合して用いてもよい。電池の負荷特性、低温特性の向上を特に意図した場合は、非水溶媒として環状の非プロトン性溶媒と鎖状の非プロトン性溶媒を組み合わせて使用することが好ましい。

さらに、電解液の電気化学的安定性から、環状の非プロトン性溶媒には環状カーボネートを、鎖状の非プロトン性溶媒には鎖状カーボネートを適用することが最も好ましい。また、環状カルボン酸エステルと環状カーボネート及び／又は鎖状カーボネートの組み合わせによっても電池の充放電特性に関わる電解液の伝導度を高めることができる。

環状カーボネートと鎖状カーボネートの組み合わせとして、具体的には、エチレンカーボネートとジメチルカーボネート、エチレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、エチレンカーボネートとジエチルカーボネート、プロピレンカーボネートとジメチルカーボネート、プロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、プロピレンカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネート、エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、エチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネートなどが挙げられる。

環状カーボネートと鎖状カーボネートの混合割合は、質量比で表して、環状カーボネート：鎖状カーボネートが、５：９５〜８０：２０、さらに好ましくは１０：９０〜７０：３０、特に好ましくは１５：８５〜５５：４５である。このような比率にすることによって、電解液の粘度上昇を抑制し、電解質の解離度を高めることができるため、電池の充放電特性に関わる電解液の伝導度を高めることができる。また、電解質の溶解度をさらに高めることができる。よって、常温又は低温での電気伝導性に優れた電解液とすることができるため、常温から低温での電池の負荷特性を改善することができる。

環状カルボン酸エステルと環状カーボネート及び／又は鎖状カーボネートの組み合わせの例として、具体的には、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとジメチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトンとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとプロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとプロピレンカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとジメチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとジメチルカーボネートとメチルエチルカーボネートとジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンとスルホラン、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとスルホラン、γ−ブチロラクトンとプロピレンカーボネートとスルホラン、γ−ブチロラクトンとエチレンカーボネートとプロピレンカーボネートとスルホラン、γ−ブチロラクトンとスルホランとジメチルカーボネートなどが挙げられる。

（その他の溶媒）
非水溶媒としては、上記以外のその他の溶媒も挙げられる。
その他の溶媒としては、具体的には、ジメチルホルムアミドなどのアミド、メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルカーバメートなどの鎖状カーバメート、Ｎ−メチルピロリドンなどの環状アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノンなどの環状ウレア、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリオクチル、ホウ酸トリメチルシリル等のホウ素化合物、及び下記の一般式で表されるポリエチレングリコール誘導体などを挙げることができる。
ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ａＨ
ＨＯ［ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ］_ｂＨ
ＣＨ_３Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｃＨ
ＣＨ_３Ｏ［ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ］_ｄＨ
ＣＨ_３Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｅＣＨ_３
ＣＨ_３Ｏ［ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ］_ｆＣＨ_３
Ｃ_９Ｈ_１９ＰｈＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｇ［ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ］_ｈＣＨ_３
（Ｐｈはフェニル基）
ＣＨ_３Ｏ［ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ］_ｉＣＯ［ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２］_ｊＯＣＨ_３
上記式中、ａ〜ｆは、５〜２５０の整数、ｇ〜ｊは２〜２４９の整数、５≦ｇ＋ｈ≦２５０、５≦ｉ＋ｊ≦２５０である。

＜電解質＞
本開示の非水電解液は、種々の公知の電解質を含んでいてもよい。電解質は、通常、非水電解液用電解質として使用されているものであれば、いずれをも使用することができる。電解質としては、リチウム塩が好ましい。

リチウム塩の具体例としては、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＡｓＦ_６Ｌｉ_２ＳｉＦ_６、ＬｉＯＳＯ_２Ｃ_ｋＦ_{(２ｋ＋１)}（ｋ＝１〜８の整数）、ＬｉＮ(ＳＯ_２Ｆ)_２、ＬｉＮ(ＳＯ_２Ｃ_ｋＦ_{(２ｋ＋１)})_２（ｋ＝１〜８の整数）、ＬｉＰＦ_ｎ(Ｃ_ｋＦ_{(２ｋ＋１)})_(６−ｎ)（ｎ＝１〜５の整数、ｋ＝１〜８の整数）、ＬｉＢＦ_ｎＣ_ｋＦ_{(２ｋ＋１)}（ｎ＝１〜３の整数、ｋ＝１〜８の整数）、ＬｉＢ(Ｃ_２Ｏ_４)_２ （リチウムビスオキサリルボレート）、ＬｉＢＦ_２(Ｃ_２Ｏ_４)（リチウムジフルオロオキサリルボレート）、ＬｉＰＦ_３(Ｃ_２Ｏ_４)（リチウムトリフルオロオキサリルフォスフェート）；下記一般式で示されるリチウム塩；が挙げられる。
ＬｉＣ(ＳＯ_２Ｒ^１１)(ＳＯ_２Ｒ^１２)(ＳＯ_２Ｒ^１３)
ＬｉＮ(ＳＯ_２ＯＲ^１４)(ＳＯ_２ＯＲ^１５)
ＬｉＮ(ＳＯ_２Ｒ^１６)(ＳＯ_２ＯＲ^１７)
式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７は、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１１〜Ｒ^１３は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^１４とＲ^１５は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^１６とＲ^１７は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

リチウム塩としては、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＮ(ＳＯ_２Ｃ_ｋＦ_{(２ｋ＋１)})_２（ｋ＝１〜８の整数）が好ましい。

本開示の非水電解液のリチウム塩濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌ〜３ｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ〜２ｍｏｌ／Ｌがより好ましい。
リチウム塩は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

本開示の非水電解液は、電池用の非水電解液として好適であるばかりでなく、一次電池用及び二次電池用の非水電解液、電気化学キャパシタ用の非水電解液、電気二重層キャパシタ、アルミ電解コンデンサー用の電解液としても用いることができる。

〔リチウム二次電池〕
本開示のリチウム二次電池は、正極と、負極と、本開示の非水電解液と、を含む。
本開示のリチウム二次電池によれば、本開示の非水電解液を含むことにより、電池抵抗が低減される。

（負極）
負極は、負極活物質及び負極集電体を含んでもよい。
負極における負極活物質としては、金属リチウム、リチウム含有合金、リチウムとの合金化が可能な金属もしくは合金、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な酸化物、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な遷移金属窒素化物、及び、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な炭素材料からなる群から選ばれた少なくとも１種（単独で用いてもよいし、これらの２種以上を含む混合物を用いてもよい）を用いることができる。
リチウム（又はリチウムイオン）との合金化が可能な金属もしくは合金としては、シリコン、シリコン合金、スズ、スズ合金などを挙げることができる。また、チタン酸リチウムでもよい。
これらの中でもリチウムイオンをドープ・脱ドープすることが可能な炭素材料が好ましい。このような炭素材料としては、カーボンブラック、活性炭、黒鉛材料（人造黒鉛、天然黒鉛）、非晶質炭素材料、等が挙げられる。上記炭素材料の形態は、繊維状、球状、ポテト状、フレーク状いずれの形態であってもよい。

上記非晶質炭素材料として具体的には、ハードカーボン、コークス、１５００℃以下に焼成したメソカーボンマイクロビーズ（ＭＣＭＢ）、メソフェーズピッチカーボンファイバー（ＭＣＦ）などが例示される。
上記黒鉛材料としては、天然黒鉛、人造黒鉛が挙げられる。人造黒鉛としては、黒鉛化ＭＣＭＢ、黒鉛化ＭＣＦなどが用いられる。また、黒鉛材料としては、ホウ素を含有するものなども用いることができる。また、黒鉛材料としては、金、白金、銀、銅、スズなどの金属で被覆したもの、非晶質炭素で被覆したもの、非晶質炭素と黒鉛を混合したものも使用することができる。

これらの炭素材料は、１種類で使用してもよく、２種類以上混合して使用してもよい。
上記炭素材料としては、特にＸ線解析で測定した（００２）面の面間隔ｄ（００２）が０．３４０ｎｍ以下の炭素材料が好ましい。また、炭素材料としては、真密度が１．７０ｇ／ｃｍ^３以上である黒鉛又はそれに近い性質を有する高結晶性炭素材料も好ましい。以上のような炭素材料を使用すると、電池のエネルギー密度をより高くすることができる。

負極における負極集電体の材質には特に制限はなく、公知のものを任意に用いることができる。
負極集電体の具体例としては、銅、ニッケル、ステンレス鋼、ニッケルメッキ鋼等の金属材料が挙げられる。中でも、加工しやすさの点から特に銅が好ましい。

（正極）
正極は、正極活物質及び正極集電体を含んでもよい。
正極における正極活物質としては、ＭｏＳ_２、ＴｉＳ_２、ＭｎＯ_２、Ｖ_２Ｏ_５などの遷移金属酸化物又は遷移金属硫化物、ＬｉＣｏＯ_２、ＬｉＭｎＯ_２、ＬｉＭｎ_２Ｏ_４、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＮｉ_ＸＣｏ_{（１−Ｘ）}Ｏ_２〔０＜Ｘ＜１〕、α−ＮａＦｅＯ_２型結晶構造を有するＬｉ_１＋αＭｅ_１−αＯ_２（Ｍｅは、Ｍｎ、Ｎｉ及びＣｏを含む遷移金属元素、１．０≦（１＋α）／（１−α）≦１．６）、ＬｉＮｉ_ｘＣｏ_ｙＭｎ_ｚＯ_２〔ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１、０＜ｚ＜１〕（例えば、ＬｉＮｉ_０．３３Ｃｏ_０．３３Ｍｎ_０．３３Ｏ_２、ＬｉＮｉ_０．５Ｃｏ_０．２Ｍｎ_０．３Ｏ_２等）、ＬｉＦｅＰＯ_４、ＬｉＭｎＰＯ_４などのリチウムと遷移金属とからなる複合酸化物、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリアセン、ジメルカプトチアジアゾール、ポリアニリン複合体などの導電性高分子材料等が挙げられる。これらの中でも、特にリチウムと遷移金属とからなる複合酸化物が好ましい。負極がリチウム金属又はリチウム合金である場合は、正極として炭素材料を用いることもできる。また、正極として、リチウムと遷移金属との複合酸化物と、炭素材料と、の混合物を用いることもできる。
正極活物質は、１種類で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。正極活物質は導電性が不充分である場合には、導電性助剤とともに使用して正極を構成することができる。導電性助剤としては、カーボンブラック、アモルファスウィスカー、グラファイトなどの炭素材料を例示することができる。

正極における正極集電体の材質には特に制限はなく、公知のものを任意に用いることができる。
正極集電体の具体例としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、ニッケル、チタン、タンタルなどの金属材料；カーボンクロス、カーボンペーパーなどの炭素材料；等が挙げられる。

（セパレータ）
本開示のリチウム二次電池は、負極と正極との間にセパレータを含むことが好ましい。
セパレータは、正極と負極とを電気的に絶縁し且つリチウムイオンを透過する膜であって、多孔性膜や高分子電解質が例示される。
多孔性膜としては微多孔性高分子フィルムが好適に使用され、材質としてポリオレフィン、ポリイミド、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステル等が例示される。
特に、多孔性ポリオレフィンが好ましく、具体的には多孔性ポリエチレンフィルム、多孔性ポリプロピレンフィルム、又は多孔性のポリエチレンフィルムとポリプロピレンフィルムとの多層フィルムを例示することができる。多孔性ポリオレフィンフィルム上には、熱安定性に優れる他の樹脂がコーティングされてもよい。
高分子電解質としては、リチウム塩を溶解した高分子や、電解液で膨潤させた高分子等が挙げられる。
本開示の非水電解液は、高分子を膨潤させて高分子電解質を得る目的で使用してもよい。

（電池の構成）
本開示のリチウム二次電池は、種々公知の形状をとることができ、円筒型、コイン型、角型、ラミネート型、フィルム型その他任意の形状に形成することができる。
なお、電池の基本構造は、形状によらず同じであり、目的に応じて設計変更を施すことができる。

本開示のリチウム二次電池の例として、ラミネート型電池が挙げられる。
図１は、本開示のリチウム二次電池の一例であるラミネート型電池の一例を示す概略斜視図であり、図２は、図１に示すラミネート型電池に収容される積層型電極体の厚さ方向の概略断面図である。
図１に示すラミネート型電池は、内部に非水電解液（図１中では不図示）及び積層型電極体（図１中では不図示）が収納され、且つ、周縁部が封止されることにより内部が密閉されたラミネート外装体１を備える。ラミネート外装体１としては、例えばアルミニウム製のラミネート外装体が用いられる。
ラミネート外装体１に収容される積層型電極体は、図２に示されるように、正極板５と負極板６とがセパレータ７を介して交互に積層されてなる積層体と、この積層体の周囲を囲むセパレータ８と、を備える。正極板５、負極板６、セパレータ７、及びセパレータ８には、本開示の非水電解液が含浸されている。
上記積層型電極体における複数の正極板５は、いずれも正極タブを介して正極端子２と電気的に接続されており（不図示）、この正極端子２の一部が上記ラミネート外装体１の周端部から外側に突出している（図１）。ラミネート外装体１の周端部において正極端子２が突出する部分は、絶縁シール４によってシールされている。
同様に、上記積層型電極体における複数の負極板６は、いずれも負極タブを介して負極端子３と電気的に接続されており（不図示）、この負極端子３の一部が上記ラミネート外装体１の周端部から外側に突出している（図１）。ラミネート外装体１の周端部において負極端子３が突出する部分は、絶縁シール４によってシールされている。
なお、上記一例に係るラミネート型電池では、正極板５の数が５枚、負極板６の数が６枚となっており、正極板５と負極板６とがセパレータ７を介し、両側の最外層がいずれも負極板６となる配置で積層されている。
しかし、ラミネート型電池における、正極板の数、負極板の数、及び配置については、この一例には限定されず、種々の変更がなされてもよいことは言うまでもない。例えば、ラミネート外装体１に収容される積層型電極体は、１枚の正極板５と１枚の負極板６とが１枚のセパレータ７を介して積層された積層型電極体であってもよい。

本開示のリチウム二次電池の別の一例として、コイン型電池も挙げられる。
図３は、本開示のリチウム二次電池の別の一例であるコイン型電池の一例を示す概略斜視図である。
図３に示すコイン型電池では、円盤状負極１２、非水電解液を注入したセパレータ１５、円盤状正極１１、必要に応じて、ステンレス、又はアルミニウムなどのスペーサー板１７、１８が、この順序に積層された状態で、正極缶１３（以下、「電池缶」ともいう）と封口板１４（以下、「電池缶蓋」ともいう）との間に収納される。正極缶１３と封口板１４とはガスケット１６を介してかしめ密封する。
この一例では、セパレータ１５に注入される非水電解液として、本開示の非水電解液を用いることができる。

なお、本開示のリチウム二次電池は、負極と、正極と、上記本開示の非水電解液と、を含むリチウム二次電池（充放電前のリチウム二次電池）を、充放電させて得られたリチウム二次電池であってもよい。
即ち、本開示のリチウム二次電池は、まず、負極と、正極と、上記本開示の非水電解液と、を含む充放電前のリチウム二次電池を作製し、次いで、この充放電前のリチウム二次電池を１回以上充放電させることによって作製されたリチウム二次電池（充放電されたリチウム二次電池）であってもよい。

本開示のリチウム二次電池の用途は特に限定されず、種々公知の用途に用いることができる。例えば、ノート型パソコン、モバイルパソコン、携帯電話、ヘッドホンステレオ、ビデオムービー、液晶テレビ、ハンディークリーナー、電子手帳、電卓、ラジオ、バックアップ電源用途、モーター、自動車、電気自動車、バイク、電動バイク、自転車、電動自転車、照明器具、ゲーム機、時計、電動工具、カメラ等、小型携帯機器、大型機器を問わず広く利用可能なものである。

以下、本開示の実施例を示すが、本開示は以下の実施例には限定されない。
なお、以下の実施例では、リチウム塩錯化合物を、単に「錯化合物」ともいう。錯化合物の番号は、既述の錯化合物の番号に対応している。
以下の実施例及び比較例において、「ｗｔ％」は質量％を表す。
以下の実施例及び比較例において、「添加量」は、最終的に得られる非水電解液中における含有量（即ち、最終的に得られる非水電解液全量に対する量）を表す。

〔実施例１〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ１
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた５０ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル２５ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体７．６４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−メチルピロリドンとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１３０℃および２７９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ２
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．０９ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２９℃および３７０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ３
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．８６ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１８８℃および３２２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ４
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．６４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点８５℃および２６９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ５
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．００ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−ビニルピロリドンとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１６℃および３６５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例６〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ６
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．８８ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキソランとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１９０℃および３２１℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例７〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ７
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．３２ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキサンとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１９℃および２１９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例８〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ８
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．０１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（−）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、ジメチルスルホキシドとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１３２℃および３１３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例９〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ９
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１０．３１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ。
それぞれ、１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとトリフルオロメタンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４３９℃および４７８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１０〕メチル硫酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ１０
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた５０ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、メチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル２０ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体６．５１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）。
Ｎ−メチルピロリドンとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１０３℃および２０３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１１〕メチル硫酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ１１
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．９６ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）。
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１５℃および２７６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１２〕メチル硫酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ１２
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体５．７１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２１℃および２０７℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１３〕メチル硫酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ１３
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．５１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４０℃および３２４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１４〕メチル硫酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ１４
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．８６ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）。
Ｎ−ビニルピロリドンとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点６０℃および２７５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１５〕メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ１５
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体５．７５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）。
１，３−ジオキソランとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１４℃および２１３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１６〕メチル硫酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ１６
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体６．１７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）。
１，３−ジオキサンとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点９３℃および２１２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１７〕メチル硫酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ１７
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体５．８７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（６Ｈ）、３．５ｐｐｍ（３Ｈ）。
ジメチルスルホキシドとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２６℃および２２８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１８〕メチル硫酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ１８
実施例１０と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体９．１８ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）。
１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとメチル硫酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４３５℃および４６２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例１９〕ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ１９
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた５０ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、ベンゼンスルホン酸リチウム４．９２ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル３０ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体７．８８ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
Ｎ−メチルピロリドンとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１０３℃および２１８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２０〕ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ２０
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．３３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点９５℃および２６６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２１〕ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ２１
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．１０ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２４℃および２２１℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２２〕ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ２２
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．８８ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点５１℃および３１６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２３〕ベンゼンスルホン酸リチウムとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ２３
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．２４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
Ｎ−ビニルピロリドンとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点７８℃および２６４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２４〕ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ２４
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．１３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
１，３−ジオキソランとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２０℃および３４１℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２５〕ベンゼンスルホン酸リチウムと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ２５
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．５５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
１，３−ジオキサンとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１０℃および３２４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２６〕ベンゼンスルホン酸リチウムとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ２６
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．２５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（６Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
ジメチルスルホキシドとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１１２℃および２７６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２７〕ベンゼンスルホン酸リチウムと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ２７
実施例１９と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１０．５６ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）、７．５〜７．９ｐｐｍ（５Ｈ）。
１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとベンゼンスルホン酸リチウム単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４３６℃および４７０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２８〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ２８
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた１００ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド８．６１ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル５０ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体１１．５７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−メチルピロリドンとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点２７９℃および３５２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例２９〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ２９
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１２．０３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点２５２℃および３４８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３０〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ３０
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１０．７９ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点２８７℃および３４９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３１〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ３１
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１１．５６ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４１℃および２２０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３２〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ３２
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１１．９３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−ビニルピロリドンとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４８℃および１９２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３３〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ３３
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１０．８１ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキソランとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４２℃および１６３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３４〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ３４
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１１．２４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキサンとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４９℃および１８８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３５〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ３５
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１０．９４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（−）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、ジメチルスルホキシドとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点７６℃および２８０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３６〕リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ３６
実施例２８と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１４．２４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−７９ｐｐｍ。
それぞれ、１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４２４℃および４６６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３７〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ３７
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた１００ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド５．６１ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル５０ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体８．５７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−メチルピロリドンとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１５０℃および２８４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３８〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ３８
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体９．０３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１２５℃および３０１℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例３９〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ３９
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．７８ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１７８℃および３００℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４０〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ４０
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．５７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４２℃および２８２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４１〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ４１
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．９３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、Ｎ−ビニルピロリドンとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点８８℃および２９３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４２〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ４２
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．８２ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキソランとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１６４℃および２８６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４３〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ４３
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体８．２４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、１，３−ジオキサンとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１４５℃および２８１℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４４〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ４４
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体７．９４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（−）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、ジメチルスルホキシドとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点５４℃および２７８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４５〕リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ４５
実施例３７と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１１．２５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：５５ｐｐｍ。
それぞれ、１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点３９６℃および４４２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４６〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ４６
撹拌装置、温度計、ガスの導入および排気ラインを備えた１００ｍＬのフラスコに、乾燥窒素ガスでパージした後に、リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド１１．６１ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル６５ｇを入れ、撹拌混和させた。この液中にＮ−メチルピロリドン２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）を注ぎ入れ、１時間撹拌した後に、撹拌したまま１０ｋＰａ以下に減圧、６０℃に加温して酢酸エチルを留去させた。得られた固体を更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理して生成物となる固体１４．５７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、Ｎ−メチルピロリドンとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点２３１℃および２８２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４７〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとからなる錯化合物Ｓ４７
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３．４２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１５．０２ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．１ｐｐｍ（６Ｈ）、３．４ｐｐｍ（４Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１８０℃および３０４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４８〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなる錯化合物Ｓ４８
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．１９ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１３．８０ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．９ｐｐｍ（６Ｈ）、８．０ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点２５３℃および２９５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例４９〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとからなる錯化合物Ｓ４９
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２．９７ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１４．５７ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．０ｐｐｍ（６Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．６ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１３７℃および２５６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５０〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとＮ−ビニルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ５０
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをＮ−ビニルピロリドン３．３３ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１４．９３ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．１ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３ｐｐｍ（２Ｈ）、５．０ｐｐｍ（１Ｈ）、６．３ｐｐｍ（１Ｈ）、６．９ｐｐｍ（１Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、Ｎ−ビニルピロリドンとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１６６℃および２７４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５１〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物Ｓ５１
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキソラン２．２２ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１３．８２ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：３．９ｐｐｍ（４Ｈ）、４．９ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、１，３−ジオキソランとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１８８℃および３２８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５２〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，３−ジオキサンとからなる錯化合物Ｓ５２
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，３−ジオキサン２．６４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１４．２４ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：１．７ｐｐｍ（２Ｈ）、３．８ｐｐｍ（４Ｈ）、４．７ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、１，３−ジオキサンとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１３０℃および３０４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５３〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドとジメチルスルホキシドとからなる錯化合物Ｓ５３
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンをジメチルスルホキシド２．３４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１３．９５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：２．５ｐｐｍ（−）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、ジメチルスルホキシドとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点１５４℃および２７４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

〔実施例５４〕リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドと１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとからなる錯化合物Ｓ５４
実施例４６と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドンを１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシド５．６５ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更して処理を行った。最終的に生成物となる固体１７．２５ｇを得た。

得られた固体を重水溶媒に溶解し^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行った。得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ：４．７ｐｐｍ（２Ｈ）、５．８ｐｐｍ（２Ｈ）。
また、^１９Ｆ−ＮＭＲ分析も行い、得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕と（積分値（比））は以下の通りであった。
^１９Ｆ−ＮＭＲ：−８０ｐｐｍ（６Ｆ）、−１１９ｐｐｍ（４Ｆ）。
それぞれ、１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドとリチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド単独のスペクトルパターンと同じパターンが確認され、生成物が両構造単位を有することが示された。
また得られた固体の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体は、原料化合物には認められない融点４５８℃および５１５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。

以上に示すように、各実施例では、新規なリチウム塩錯化合物が得られた。
また、各実施例で得られたリチウム塩錯化合物は、原料化合物（特定リチウム塩及び特定化合物）には認められない融点が観測され、更にこの融点より高い温度で吸熱熱解離挙動が観測された。即ち、得られたリチウム塩錯化合物は、熱的安定性に優れることが確認された。

〔実施例１０１〕
以下の手順にて、リチウム二次電池であるコイン型電池（試験用電池）を作製した。

＜負極の作製＞
天然黒鉛系黒鉛１００質量部、カルボキシメチルセルロース１質量部及びＳＢＲラテックス２質量部を水溶媒で混錬してペースト状の負極合剤スラリーを調製した。
次に、この負極合剤スラリーを厚さ１８μｍの帯状銅箔製の負極集電体に塗布し乾燥した後に、ロールプレスで圧縮して負極集電体と負極活物質層とからなるシート状の負極を得た。このときの負極活物質層の塗布密度は１２ｍｇ／ｃｍ^２であり、充填密度は１．５ｇ／ｍｌであった。

＜正極の作製＞
ＬｉＮｉ_０．５Ｍｎ_０．３Ｃｏ_０．２Ｏ_２を９０質量部、アセチレンブラック５質量部及びポリフッ化ビニリデン５質量部を、Ｎ−メチルピロリドンを溶媒として混錬してペースト状の正極合剤スラリーを調製した。
次に、この正極合剤スラリーを厚さ２０μｍの帯状アルミ箔の正極集電体に塗布し乾燥した後に、ロールプレスで圧縮して正極集電体と正極活物質とからなるシート状の正極を得た。このときの正極活物質層の塗布密度は２２ｍｇ／ｃｍ^２であり、充填密度は２．９ｇ／ｍｌであった。

＜非水電解液の調製＞
非水溶媒としてエチレンカーボネート（ＥＣ）とジメチルカーボネート（ＤＭＣ）とメチルエチルカーボネート（ＥＭＣ）とをそれぞれ３０：３５：３５（質量比）の割合で混合し、混合溶媒を得た。
得られた混合溶媒中に、電解質であるヘキサフルオロリン酸リチウムを、最終的に得られる非水電解液中における電解質濃度が１モル／リットルとなるように溶解させた。
上記で得られた溶液に対して、添加剤として、メチル硫酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物Ｓ１０（添加量０．５質量％）を添加し、非水電解液を得た。

＜コイン型電池の作製＞
上述の負極を直径１４.５ｍｍで、上述の正極を直径１３ｍｍで、それぞれ円盤状に打ち抜いて、コイン状の電極（負極及び正極）を得た。また、厚さ２０μｍの微多孔性ポリエチレンフィルムを直径１６ｍｍの円盤状に打ち抜きセパレータを得た。
得られたコイン状の負極、セパレータ及びコイン状の正極を、この順序でステンレス製の電池缶（２０３２サイズ）内に積層し、上記非水電解液４０μｌを注入してセパレータと正極と負極に含漬させた。
さらに、正極上にアルミニウム製の板（厚さ１．２ｍｍ、直径１６ｍｍ）及びバネを乗せ、ポリプロピレン製のガスケットを介して、電池缶蓋をかしめることにより電池を密封し、直径２０ｍｍ、高さ３．２ｍｍの図３で示す構成を有するコイン型電池（試験用電池）を作製した。

〔電池試験〕
得られたコイン型電池（試験用電池）について、ＡＳＫＡ充放電装置（ＡＳＫＡ ＣＨＡＲＧＥ ＤＩＳＣＨＡＲＧＥ ＳＹＳＴＥＭ ＡＣＤ−Ｍ０１Ａ， ＡＳＫＡ ＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＣｏ．，Ｌｔｄ．，Ｊａｐａｎ）と恒温槽（ＬＵ−１１３，ＥＳＰＥＣ ＣＯＲＰ．，Ｊａｐａｎ）とを用いて、各測定を実施した。
電池試験はコンディショニングを含む。

＜コンディショニング＞
上記コイン型電池を恒温槽内で２５℃にて０．２ＣでＣＣ−ＣＶ電圧４．２Ｖまで充電してから、０．２ＣでＣＣ放電し、以上の工程を４回繰り返した。

＜直流抵抗＞
コンディショニング後のコイン型電池を用いて、以下の方法により２５℃にて直流抵抗を測定した。
まず、ＳＯＣ（Ｓｔａｔｅ ｏｆ Ｃｈａｒｇｅの略）５０％から０．２ＣでＣＣ１０ｓ放電を行い、０．２ＣでＣＣ−ＣＶ１０ｓ充電を行った。
次に、１ＣでＣＣ１０ｓ放電を行い、１ＣでＣＣ−ＣＶ１０ｓ充電を行った。
次に、２ＣでＣＣ１０ｓ放電を行い、２ＣでＣＣ−ＣＶ１０ｓ充電を行った。
次に、５ＣでＣＣ１０ｓ放電を行い、５ＣでＣＣ−ＣＶ１０ｓ充電を行った。
なお、ＣＣ１０ｓ放電とは、定電流（ｃｏｎｓｔａｎｔ ｃｕｒｒｅｎｔ）にて１０秒間放電することを意味する。ＣＣ−ＣＶ１０ｓ充電とは、定電流定電圧（ｃｏｎｓｔａｎｔ ｃｕｒｒｅｎｔ−ｃｏｎｓｔａｎｔ ｖｏｌｔａｇｅ）にて１０秒間充電することを意味する。
各充放電休止電流と休止電圧とから直流抵抗を求めた。
結果を表１に示す。

〔実施例１０２〕
非水電解液の調製において、添加剤の添加量を１．０質量％としたこと以外は実施例１０１と同様の操作を行った。
結果を表１に示す。

〔比較例１０１〕
非水電解液の調製において、添加剤を添加しなかったこと以外は実施例１０１と同様の操作を行った。
結果を表１に示す。

添加剤として、錯化合物Ｓ１０を含む非水電解液を用いた実施例１０１〜１０２は、添加剤を含まない非水電解液を用いた比較例１０１と比較して、電池抵抗（直流抵抗）が低減されていることがわかる。
また、添加剤の添加量が１．０ｗｔ％の実施例１０２は、かかる添加量が０．５ｗｔ％の実施例１０１と比較して、電池抵抗（直流抵抗）がより低減されていることがわかる。

１ ラミネート外装体
２ 正極端子
３ 負極端子
４ 絶縁シール
５ 正極板
６ 負極板
７、８ セパレータ
１１ 正極
１２ 負極
１３ 正極缶
１４ 封口板
１５ セパレータ
１６ ガスケット
１７、１８ スペーサー板

Claims (8)

1. トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、及びリチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミドからなる群から選択される１種のリチウム塩と、
   Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、からなるリチウム塩錯化合物（但し、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドと１，３−ジオキソランとからなるリチウム塩錯化合物、及び、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとからなるリチウム塩錯化合物を除く）。
2. トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、及びリチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミドからなる群から選択される１種のリチウム塩と、
   Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、からなる請求項１に記載のリチウム塩錯化合物。
3. メチル硫酸リチウムと、
   Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、及び１，５，２，４−ジオキサジチアン−２，２，４，４−テトラオキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
   からなる請求項１又は請求項２に記載のリチウム塩錯化合物。
4. メチル硫酸リチウムと、
   Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される１種の化合物と、
   からなる請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のリチウム塩錯化合物。
5. 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のリチウム塩錯化合物を含む電池用添加剤。
6. 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のリチウム塩錯化合物を含む電池用非水電解液。
7. 正極と、
   金属リチウム、リチウム含有合金、リチウムとの合金化が可能な金属若しくは合金、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な酸化物、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な遷移金属窒素化物、及び、リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な炭素材料からなる群から選ばれる少なくとも１種を負極活物質として含む負極と、
   請求項６に記載の電池用非水電解液と、
   を含むリチウム二次電池。
8. 請求項７に記載のリチウム二次電池を充放電させて得られたリチウム二次電池。

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