JP6877366B2 - ラジカル重合を直ちに停止させるための組成物 - Google Patents

Description

発明の詳細な説明
本発明は、ラジカル重合を直ちに停止させるための組成物、ラジカル重合可能なモノマーをラジカル重合に対して安定化させるための、この組成物の使用、およびラジカル重合を直ちに停止させるための方法に関する。

暴走反応におけるアクリルモノマーの早すぎる重合は、反応エンタルピーが大きいためモノマーの蒸発をもたらすことがある。それに伴う圧力上昇により、例えば保管器が破裂したり、その際に生じた蒸気が発火したりすることがあるため、このような事象の場合には爆発が起こりうる。このことは、人、物および環境を危険にさらす。ここで安全技術の上では、アクリル酸が特に重要である。それと言うのもアクリル酸は、ビニルモノマー密度が大きいことに基づき、比反応エンタルピーが高く、１４１℃の沸点で暴走反応中に気化しやすいからである。開始した暴走反応を停止させる１つの方策は、重合している系に抑制剤を添加することである。

独国特許出願公開第１００３６９５９号明細書（DE10036959A1）からは、抑制剤、例えばヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ニトロソフェノール（ＰＮＰ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジン（ＯＨ−Ｔｅｍｐｏ）またはメチレンブルーを、不所望のラジカル重合に対してアクリル酸およびメタクリル酸を安定化するために使用することが公知である。

フェノチアジンは、ラジカル重合の効果的な抑制剤である。ただし、フェノチアジンは、慣用の溶媒への溶解度がきわめて低い。しかしながら、高度に希釈された溶液を用いると、大量の抑制剤を短時間に導入しなければならない緊急時には、不便である。

欧州特許出願公開第２０１７２９３号明細書（EP2017293A1）は、ラジカル重合の抑制剤とイオン液体とを含む混合物、ならびにラジカル重合可能なモノマーを安定化するためのその使用を開示している。イオン液体は、フェノチアジンに対して高い溶解能力を有しているものの、溶液の高い粘度は、緊急時におけるモノマーへの迅速な混入には不便である。

国際公開第９９／２１８９３号（WO99/21893）は、フェノチアジンを含む溶液の添加により、ラジカル重合を直ちに停止させるための方法を開示しており、この溶液の溶媒は、その質量の少なくとも５０％がＮ−アルキルピロリドンからなる。Ｎ−アルキルピロリドン、例えばＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）は、毒性学的に憂慮すべきものであるため、代替的な溶媒を使用できることが望ましい。

本発明の基礎をなす課題は、高い抑制剤濃度および適切な粘度を有し、その溶媒系がモノマー、例えばアクリル酸に対して不活性である、ラジカル重合の迅速に止めるための組成物を提供することである。

本課題は、ａ）フェノチアジンから選択されるラジカル重合の抑制剤と、ｂ）非プロトン性溶媒と、ｃ）イオン液体とを含む組成物によって解決される。

本発明はさらに、上記組成物をラジカル重合している系に添加する、ラジカル重合を直ちに停止させるための方法に関する。

本発明による組成物は、０℃から４０℃までの温度範囲にわたって、溶解していない抑制剤を含まないのが好ましい。本発明による組成物は、（標準気圧で）０℃から４０℃までの温度範囲にわたって、好ましくは単相で、すなわち、相分離の無い均一混合物として存在している。しかしながら、本発明による組成物は、二相の液体系の形態で存在していてもよい。

本発明による組成物は、少なくとも１つ、とりわけ正確に１つの、フェノチアジンから選択されるラジカル重合の抑制剤を含む。

ラジカル重合は公知のように、開始段階でラジカルが形成される連鎖反応であり、２つのマクロラジカルの組み合わせもしくは不均化によって、またはマクロラジカルと、調節剤物質もしくは不純物（例えば酸素）との反応によって中断が生じるまで、重合されるモノマーはそのラジカルに付加する（Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎｌｉｎｅ、２００７、「Ｒａｄｉｋａｌｉｓｃｈｅ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｔｉｏｎ」も参照）。

抑制剤は公知のように、ラジカル捕捉剤として作用し、こうして連鎖反応の開始段階においてラジカルの形成を抑制する（Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎｌｉｎｅ、２００７、「Ｉｎｈｉｂｉｅｒｕｎｇ」も参照）。

フェノチアジンは、ラジカル重合の効果的な抑制剤である。好適なフェノチアジンは、一般式Ｉ：

［式中、Ｒ¹およびＲ²は、互いに無関係に、水素、Ｃ₆〜Ｃ₁₀−アリール、Ｃ₇〜Ｃ₁₁−アラルキル、Ｃ₇〜Ｃ₁₆−アルカリールまたはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキルを表す］
のフェノチアジンである。

好適なフェノチアジンは、フェノチアジン、２−メチルフェノチアジン、２−オクチルフェノチアジン、２−ノニルフェノチアジン、２，８−ジメチルフェノチアジン、３，７−ジメチルフェノチアジン、３，７−ジエチルフェノチアジン、３，７−ジブチルフェノチアジン、３，７−ジオクチルフェノチアジンおよび２，８−ジオクチルフェノチアジン、３，７−ジノニルフェノチアジン、２，８−ジノニルフェノチアジン、２−（α，α−ジメチルベンジル）フェノチアジン、３，７−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノチアジンおよび２，８−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノチアジンである。

本発明による組成物では抑制剤として、好ましくはフェノチアジン（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｈ）が使用される。

本組成物は、非プロトン性溶媒または非プロトン性溶媒の組み合わせを含む。非プロトン性溶媒は、酸性水素原子を含まない。すなわち、酸素原子または窒素原子に結合した水素原子を有していない。

非プロトン性溶媒は一般的に、標準気圧で少なくとも８０℃、好ましくは少なくとも１００℃、とりわけ少なくとも１５０℃の沸点を有する。

好ましくは、非プロトン性溶媒は、炭素、酸素、窒素および／または水素以外の原子を含まない；とりわけ、炭素、酸素および／または水素以外の原子を含まない。

非プロトン性溶媒は通常、液状の純粋物質として、２９３．１５Ｋの温度および１．０１３３・１０⁵Ｐａの圧力（＝標準気圧）において、３から５０まで、好ましくは４から３８まで、特に好ましくは５から２０までの範囲の静的比誘電率ε_r（電媒定数、電媒数または誘電率とも呼ばれる）を有する（真空の静的比誘電率＝１）。関連する好適な非プロトン性物質の静的比誘電率に関する記載を有する好適な出典は、例えばＨＡＮＤＢＯＯＫ ｏｆ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ ａｎｄ ＰＨＹＳＩＣＳ、９２ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２０１０−２０１１）、ＣＲＣ ＰＲＥＳＳである。

代替的に、またはさらに、非プロトン性溶媒は、

により示される、ハンセン溶解空間における位置を有する。

この値は、以下において溶解距離Ｒ_aとも呼ぶ。三次元ハンセン溶解空間における溶解度パラメーターの定義および計算法は、Ｃ．Ｍ．Ｈａｎｓｅｎ：「Ｔｈｅ ｔｈｒｅｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ」 Ｊ．Ｐａｉｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌ．３９、１０５（１９６７）に記載されている。このハンセン空間によれば、δ_Dは、ロンドン分散力を示し、δ_Pは、永久双極子の間のデバイ力ならびに誘起双極子と永久双極子との間のケーソム力を示し、δ_Hは、比相互力（水素結合、酸／塩基、供与体／受容体など）を示す。パラメーターの成分の単位は、それぞれ［ＭＰａ^1/2］である。

多くの溶媒のハンセン溶解度パラメーターは、標準文献、例えばＨａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ：Ａ Ｕｓｅｒ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｃ．Ｍ．Ｈａｎｓｅｎ、２００７、２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎで表に示されている。公知のモデリングソフトウェア、例えばＣ．Ｍ．Ｈａｎｓｅｎにより開発および販売されているＨＳＰＩ Ｐ ３．１．１４（３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）は、ハンセン溶解度パラメーターを溶媒の化学構造に基づいて算出するために使用できる。ここで使用されるハンセン溶解度パラメーターは、室温、約２３℃を基準としている。

例えば、以下の表には、種々の溶媒の溶解度パラメーターの各成分（δ_D、δ_P、δ_H）および式１から算出された溶解度距離が記載されている。

非プロトン性溶媒として、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、エーテル、エステル（環状エステルを含む）、アミド（環状アミドを含む）、ニトリル、アセタールまたはそれらの混合物が好適である。

芳香族炭化水素の例は、ベンゼン、ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ｍ−ターフェニル、ナフタレン、１回または複数回Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル置換された芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン、ドデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン、ヘキサデシルベンゼン、メチルナフタレン、ジイソプロピルナフタレン、ヘキシルナフタレンまたはデシルナフタレンである。前述の芳香族炭化水素の混合物も、とりわけ工業用芳香族化合物混合物も好適である。

脂肪族炭化水素の例は、分岐鎖、環式または直鎖である飽和または不飽和のＣ₅〜Ｃ₄₀−炭化水素、とりわけＣ₁₀〜Ｃ₄₀−炭化水素、例えばｎ−テトラデカン、ｎ−ペンタデカン、ｎ−ヘキサデカン、ｎ−ヘプタデカン、ｎ−オクタデカン、ｎ−ノナデカン、ｎ−エイコサン、ｎ−ヘンエイコサン、ｎ−ドコサン、ｎ−トリコサン、ｎ−テトラコサン、ｎ−ペンタコサン、ｎ−ヘキサコサン、ｎ−ヘプタコサン、ｎ−オクタコサン、鉱油または高圧水素化鉱油（いわゆるホワイトオイル）である。前述の脂肪族炭化水素の混合物も好適である。

エステルの例は、Ｃ₂〜Ｃ₄₀−アルカン酸のＣ₁〜Ｃ₄₀−アルキルエステル、Ｃ₆〜Ｃ₂₄−アルコールと芳香族カルボン酸とのエステル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−ジカルボン酸と１個から２２個までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルコールとのエステル、またはＣ₂〜Ｃ₄₀−アルカン酸と２個から１０個までの炭素原子および２つから６つまでのヒドロキシル基を有するポリオールとのエステルである。

これには、Ｃ₈〜Ｃ₄₀−アルカン酸のＣ₁〜Ｃ₄₀−アルキルエステルまたはＣ₂〜Ｃ₄₀−アルカン酸のＣ₆〜Ｃ₄₀−アルキルエステルが含まれる。エステルのさらなる例は、直鎖Ｃ₆〜Ｃ₂₄−脂肪酸と直鎖Ｃ₃〜Ｃ₂₄−アルコールとのエステル、分岐鎖Ｃ₆〜Ｃ₁₃−カルボン酸と直鎖Ｃ₆〜Ｃ₂₄−脂肪アルコールとのエステル、直鎖Ｃ₆〜Ｃ₂₄−脂肪酸と分岐鎖アルコール、とりわけ２−エチルヘキサノールとのエステルである。

重要なのは、脂肪酸と３個から２４個までの炭素原子を有するアルコールとのモノエステルである。これらの物質群は、８個から２４個までの炭素原子を有する脂肪酸（例えばカプロン酸、カプリル酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ラウリン酸、イソトリデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、パームオレイン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、ペトロセリン酸、リノール酸、リノレン酸、エレオステアリン酸、アラキン酸、ガドレイン酸、ベヘン酸およびエルカ酸、ならびにそれらの工業用混合物、例えば天然の脂肪および油の圧力分離で、レーレンオキソ合成からのアルデヒドの還元で、または不飽和脂肪酸の二量化で生じる工業用混合物）と、アルコール（例えばイソプロピルアルコール、カプロンアルコール、カプリルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、カプリンアルコール、ラウリルアルコール、イソトリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、パームオレイルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、エライジルアルコール、ペトロセリニルアルコール、リノイルアルコール、リノレニルアルコール、エレオステアリルアルコール、アラキルアルコール、ガドレイルアルコール、ベヘニルアルコール、エルシルアルコールおよびブラシジルアルコール、ならびにそれらの工業用混合物、例えば脂肪および油をベースとする工業用メチルエステル、またはレーレンオキソ合成からのアルデヒドの高圧水素化で、ならびに不飽和脂肪アルコールの二量化でモノマー留分として生じる工業用混合物）との、エステル化生成物である。

アルカン二酸−ジアルキルエステルの例は、Ｃ₄〜Ｃ₃₂−アルカン二酸のジ−Ｃ₂〜Ｃ₃₂−アルキルエステル、好ましくはＣ₆〜Ｃ₁₆−アルカン二酸のジ−Ｃ₂〜Ｃ₁₈−アルキルエステルである。アルカン二酸−ジアルキルエステルのうち特に好適であるのは、コハク酸ジブチルエステル、アジピン酸ジブチルエステルおよびフタル酸ジブチルエステルであり、そのうちとりわけアジピン酸ジブチルエステルである。

さらに、直鎖および／または分岐鎖脂肪酸と、多価アルコール（例えば、プロピレングリコール、ダイマージオールもしくはトリマートリオール）とのエステル、またはＣ₆〜Ｃ₁₈−脂肪酸をベースとするトリグリセリド、例えば植物油が好適である。

エステルには、環状エステル、例えばγ−ブチロラクトンおよびδ−バレロラクトンも含まれる。

アミドの例は、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキル−Ｃ₈〜Ｃ₂₂−アルキルアミド、例えばＮ，Ｎ−ジメチルデカンアミド、またはＮ，Ｎ−ジメチルドデカンアミドである。

環状アミドは、例えばＮ−メチルピロリドン、カプロラクタム、ジメチルエチレン尿素および／またはジメチルプロピレン尿素である。

エーテルの例は、ジアルキルエーテル、アルキルアリールエーテル、ジアリールエーテルおよびポリオールポリエーテルである。ジアルキルエーテルは、合計１２個から３６個までの炭素原子、とりわけ１２個から２４個までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖の、不斉または非不斉ジアルキルエーテル、例えばジ−ｎ−オクチルエーテル、ジ−ｎ−デシルエーテル、ジ−ｎ−ノニルエーテル、ジ−ｎ−ウンデシルエーテル、ジ−ｎ−ドデシルエーテル、ｎ−ヘキシル−ｎ−オクチルエーテル、ｎ−オクチル−ｎ−デシルエーテル、ｎ−デシル−ｎ−ウンデシルエーテル、ｎ−ウンデシル−ｎ−ドデシルエーテル、ｎ−ヘキシル−ｎ−ウンデシルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジ−イソペンチルエーテル、ジ−３−エチルデシルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチル−ｎ−オクチルエーテル、イソペンチル−ｎ−オクチルエーテルおよび２−メチル−ペンチル−ｎ−オクチルエーテルである。

好ましいのは、さらにポリオールポリエーテル、例えばジエチレングリコール−ジメチルエーテル（Ｄｉｇｌｙｍｅ）、ジプロピレングリコール−ジメチルエーテル（Ｐｒｏｇｌｙｍｅ）である。

さらに、グリコールアセテートのアルキルエーテル、例えば２−メトキシエチル−アセテート、２−エトキシエチル−アセテート、２−ブトキシエチル−アセテートおよび１−メトキシ−２−プロピル−アセテートが好適である。

好適なアセタールは、アニスアセタール（ｐ−（ジメトキシメチル）アニソール）である。

特に好ましい非プロトン性溶媒は、アルカン二酸−ジアルキルエステルおよびポリオールポリエーテル、とりわけジプロピレングリコール−ジメチルエーテルである。

本発明による組成物は、少なくとも１つ、とりわけ正確に１つのイオン液体を含む。

好ましくは、イオン液体の融点は、標準気圧で１００℃未満、好ましくは５０℃未満、とりわけ２０℃未満である。

イオン液体は公知のように、有機カチオンおよび有機または無機アニオンからなる。

有機カチオンとしては、通常イオン液体において使用されるあらゆるカチオンが考慮される。好ましくは、有機カチオンは、第四級アンモニウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオンおよびホスホニウムカチオンから、ならびにウロニウムカチオン、チオウロニウムカチオンおよびガウニジニウムカチオンから選択され、それらにおいて、１つの正電荷は、複数のヘテロ原子上で非局在化されている。

特に好ましくは、第四級アンモニウム−カチオンが使用され、殊に好ましくは、複素環式第四級アンモニウム−カチオンが使用される。

とりわけ、複素環式第四級アンモニウム−カチオンは、ピロリウム−カチオン、イミダゾリウム−カチオン、１Ｈ−ピラゾリウム−カチオン、３Ｈ−ピラゾリウム−カチオン、４Ｈ−ピラゾリウム−カチオン、１−ピラゾリニウム−カチオン、２−ピラゾリニウム−カチオン、３−ピラゾリニウム−カチオン、２，３−ジヒドロ−イミダゾリニウム−カチオン、４，５−ジヒドロイミダゾリニウム−カチオン、２，５−ジヒドロ−イミダゾリニウム−カチオン、ピロリジニウム−カチオン、１，２，４−トリアゾリウム−カチオン（１位に第四級窒素原子）、１，２，４−トリアゾリウム−カチオン（４位に第四級窒素原子）、１，２，３−トリアゾリウム−カチオン（１位に第四級窒素原子）、１，２，３−トリアゾリウム−カチオン（４位に第四級窒素原子）、オキサゾリウム−カチオン、イソキサゾリウム−カチオン、チアゾリウム−カチオン、イソチアゾリウム−カチオン、ピリジニウム−カチオン、ピリダジニウム−カチオン、ピリミジニウム−カチオン、ピペリジニウム−カチオン、モルホリニウム−カチオン、ピラジニウム−カチオン、インドリウム−カチオン、キノリニウム−カチオン、イソキノリニウム−カチオン、キノキサリニウム−カチオンおよびインドリニウム−カチオンから選択される。

前述の有機カチオンは、自体公知の種であり、それらは、例えば独国特許出願公開第１０２００５０５５８１５号明細書（DE102005055815A）、６ページ、段落［００３３］から１５ページ、段落［００７４］まで、独国特許出願公開第１０２００５０３５１０３号明細書（DE102005035103A1）、３ページ、段落［００１４］から１０ページ、段落［００５１］まで、ならびに独国特許出願公開第１０３２５０５０号明細書（DE10325050A1）、３ページ、段落［００１１］から５ページ、段落［００２０］までと関連する２ページおよび３ページにまたがる段落［０００６］に詳細が記載されている。それらの独国特許出願の記載された節を、本発明の詳細な説明のために明確に参照する。

好適な有機カチオンは、好ましくは式（ＩＩ）
Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｒ⁴ （ＩＩ）
［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、互いに無関係に、ヘテロ官能性基で置換されていてよく、かつ互いに脂肪族環系を形成することができるアルキル残基である］
のアンモニウムイオンを含む。

好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、互いに無関係に、アルキルおよび／またはヒドロキシアルキルである。とりわけ好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、互いに無関係に、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルおよび／またはＣ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキルである。殊に好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、互いに無関係に、Ｃ₁〜Ｃ₈−アルキルおよび／またはＣ₁〜Ｃ₈−ヒドロキシアルキルである。例は、テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡ）またはコリニウム（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−アンモニウム）である。

別の好ましい実施形態では、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、互いに無関係に、ヘテロ官能性基で置換されていてよく、かつ互いに脂肪族環系を形成するアルキル残基である。例は、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−ピロリジニウム、５−アザ−スピロ［４．４］ノナンまたはＮ，Ｎ−ジメチルピロリジニウムである。

好適な有機カチオンは、さらに、式（ＩＩＩ）

のイミダゾリウムイオンを含み、式中、Ｒ⁵は、水素またはアルキルを表し、Ｒ⁶は、アルキルを表し、Ｒ⁷は、水素またはアルキルを表す。アルキル残基は、直鎖、環式または分岐鎖であってよい。好ましくは、Ｒ⁵は、水素またはＣ₁〜Ｃ₂₀−アルキルであり、Ｒ⁶は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルであり、Ｒ⁷は、ＨまたはＣ₁〜Ｃ₆−アルキルである。特に好ましくは、Ｒ⁵は、水素またはＣ₁〜Ｃ₆−アルキルであり、Ｒ⁶は、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルであり、Ｒ⁷は、ＨまたはＣ₁〜Ｃ₆−アルキルである。Ｒ⁷は、好ましくはＨまたはメチルであり、とりわけＨである。その例は、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチル−イミダゾリウム（ＥＭＩＭ）、Ｎ−メチルイミダゾリウム（ＭＥＨＩＭ）、Ｎ−ブチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウム（ＢＭＩＭ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−エチル−イミダゾリウム（ＥＥＩＭ）、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ１−ｎ−プロピル−イミダゾリウム（ＰＰＩＭ）である。

好適な有機カチオンは、さらにＮ−置換されたピリジニウム誘導体、例えばＮ−アルキルピリジニウムを含み、ここで、アルキル残基は、好ましくはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキル残基、とりわけＣ₁〜Ｃ₆−アルキル残基である。

好適な有機カチオンは、さらにＮ，Ｎ’−二置換ピラゾリウム誘導体、例えばＮ，Ｎ’−ジアルキルピラゾリウム誘導体を含み、ここで、アルキル残基は、好ましくはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキル残基、とりわけＣ₁〜Ｃ₆−アルキル残基である。ジアルキルピラゾリウム誘導体は、任意に、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルで置換されていてよく、例えば１，２，５−トリメチルピラゾリウムである。

好適な有機カチオンは、さらに、グアニジニウム誘導体、例えばグアニジニウム、ヘキサメチルグアニジニウム、アルギニン−カチオン、またはクレアチニウムを含む。

前述の有機カチオンのうち、特にイミダゾリウム−カチオン、とりわけ１−エチル−３−メチルイミダゾリウム−カチオン（ＥＭＩＭ）または１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム−カチオン（ＢＭＩＭ）が使用され、ここで、第四級窒素は、それぞれ１位に存在している。

無機および有機アニオンとしては、通常イオン液体において使用されるあらゆるアニオンが考慮される。好適なアニオンの例は、独国特許出願公開第１０２００５０５５８１５号明細書（DE102005055815A）、１５ページ、段落［００７５］から１７ページ、段落［００８８］までと関連する２ページ、段落［００６］、ならびに独国特許出願公開第１０３２５０５０号明細書（DE10325050A1）、５ページ、段落［００２１］と関連する２ページおよび３ページにまたがる段落［０００６］に詳細が記載されている。それらの独国特許出願の記載された節を、本発明の詳細な説明のために明確に参照する。

アニオンは例えば、カルボキシレート、スルホネート、スルフェート、ホスホネート、ホスフェート、ハロゲン、ビス（トリフルオロスルホニル）イミド、四塩化アルミニウム、フッ化リン（例えば六フッ化リン）、またはジシアンイミド、またはその混合物を含む。

好ましいアニオンは、カルボキシレート、スルフェート、アルキルスルホネート、ハロゲン化物イオン（例えばヨウ化物イオンまたは塩化物イオン）、ホスホネート、ホスフェート、ビス（トリフルオロスルホニル）イミド、またはジシアンイミド（２−シアノグアニジン）である。特に好ましいのは、カルボキシレート、スルフェートおよびアルキルスルホネートであり、そのうちとりわけアルキルカルボキシレート、ポリエーテル含有カルボキシレート、アルキルスルフェートおよびアルキルスルホネートである。

好適なカルボキシレートは、Ｃ₁〜Ｃ₃₀−アルキルカルボキシレート、ポリエーテル含有カルボキシレート、アリールカルボキシレートおよびポリカルボキシレートである。

アルキルカルボキシレートは、例えばアセテート、プロピオネート、ヘキサノエート、２−エチルヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、イソノナノエート、デカノエート、ラウレート、オレエート、パルミテート、ステアレート、またはオクタデカノエートである。

好ましいポリエーテル含有カルボキシレートは、式：
Ｒ^aＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＣＨ₂ＣＯ₂ ^-
［式中、ｎは、０から３までの整数を表し、Ｒ^aは、Ｃ₁〜Ｃ₁₄−アルキルまたはＣＨ₂ＣＯ₂ ^-を表す］に相当するものである。好適な例は、［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］アセテートである。

好ましいポリカルボキシレートは、２個から３２個までの炭素原子を有する脂肪族ジカルボキシレートおよびトリカルボキシレート、例えば、アコニット酸、アジピン酸、クエン酸、フマル酸、グルタル酸、オキソグルタル酸、マレイン酸、リンゴ酸、マロン酸、シュウ酸、セバシン酸、コハク酸、酒石酸のアニオンである。

好ましいアリールカルボキシレートは、安息香酸、桂皮酸または馬尿酸のアニオンである。

好適なアルキルスルホネートは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルスルホネート、とりわけＣ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルホネート、例えばエタンスルホネートまたはオクタンスルホネートである。

好適なスルフェートは、式Ｒ^C−ＯＳＯ₃ ^-のスルフェートであり、式中、Ｒ^Cは、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキルまたはＣ₆〜Ｃ₁₂−アリール、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₈−アルキルを表す。好適な例は、エチルスルフェートである。

好適なホスフェートは、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ジアルキルホスフェート、例えばジメチルホスフェートまたはジブチルホスフェートである。

好適なハロゲン化物イオンは、塩化物イオン、臭化物イオンまたはヨウ化物イオンであり、好ましくは塩化物イオンである。

さらに、ラジカル重合可能な、オレフィン不飽和酸のアニオン、好ましくはラジカル重合可能な、ビニル基を含む酸のアニオンが考慮される。

特に好適なアニオンの例は、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、クロロアクリル酸、シアンアクリル酸、ビニル酢酸、ビニルホスホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルベンゼン−２−スルホン酸、ビニルベンゼン−３−スルホン酸およびビニルベンゼン−４−スルホン酸のアニオン、とりわけアクリル酸およびメタクリル酸のアニオンである。

イオン液体は、例えば、Ｗａｓｓｅｒｓｃｈｅｉｄ ａｎｄ Ｗｅｌｔｏｎ、Ｉｏｎｉｃ ｌｉｑｕｉｄｓ ｉｎ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００７、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、または国際公開第２００８／１３５４８２号（WO2008/135482）に記載されるような公知の方法により製造することができる。

イオン液体は、特定のカチオンと特定のアニオンの組み合わせが、例えば沈殿物の形成または相分離のような不所望の化学反応または物理的な相転移をもたらさない限り、前述の有機カチオンと有機または無機アニオンの任意の組み合わせから構成されるものであってよいが、しかし、当業者は、このことを、その一般的な専門知識をもとに、場合によっていくつかの方向付け試験（ｏｒｉｅｎｔｉｅｒｅｎｄｅｎ Ｖｅｒｓｕｃｈｅ）を利用して容易に予測し、したがって回避することができる。

特に好適なイオン液体は、テトラブチルアンモニウムステアレート、テトラブチルアンモニウム［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］アセテート、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムクロリド（ＥＭＩＭ Ｃｌ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＳＴ８０）、Ｎ−ブチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムクロリド（ＢＭＩＭ Ｃｌ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＳＴ ７０）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムチオシアネート（ＥＭＩＭ ＳＣＮ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＶＳ ０１）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（ＥＭＩＭ ＢＦ₄、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＥＥ ０３）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムアセテート（ＥＭＩＭ ＯＡｃ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＢＣ ０１）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムイソノナノエート、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムオクタノエート、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート（ＥＭＩＭ ＭｅＳＯ₃、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＳＴ ３５）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムジシアンアミド（ＥＭＩＭ ＤＣＡ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＶＳ ０３）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェート（ＥＭＩＭ ＤＥＰ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＬＱ １１）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート（ＥＭＩＭ Ｏｔｆ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＶＳ １１）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＥＭＩＭ ＴＦＳＩ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＨＰ ０１）、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムメチルスルフェート（ＭＴＥＯＡ ＭｅＯＳＯ₃、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＦＳ ０１）、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムジブチルホスフェート、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムエチルスルフェート（ＥＭＩＭ ＥｔＯＳＯ₃、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＬＱ ０１）、Ｎ−ブチル−Ｎ’−メチルイミダゾリウムアセテート（ＢＭＩＭ Ａｃｅｔａｔ、例えばＢａｓｉｏｎｉｃｓ ＢＣ０２）、Ｎ−エチル−Ｎ’−エチルイミダゾリウムプロピオネート、Ｎ−プロピル−Ｎ’−プロピルイミダゾリウムアセテート、コリニウムオクタノエートおよびコリニウムホルミエートである。

好ましくは、本発明による組成物は、成分ａ）、ｂ）およびｃ）の全質量を基準として少なくとも２０質量％、とりわけ少なくとも３０質量％、たいてい３０質量％から６０質量％まで、例えば４０質量％から５５質量％までのラジカル重合の抑制剤を含む。

本発明による組成物における非プロトン性溶媒およびイオン液体の質量比は、好ましくは１００：１から１：１０まで、とりわけ９０：１０から６０：４０までの範囲にある。殊に好ましくは、非プロトン性溶媒対イオン液体の比は、８５：１５から７５：２５までである。

非プロトン性溶媒およびイオン液体の組み合わせにおけるフェノチアジンの溶解度は、少なくともその重量平均溶解度とほぼ同じ高さである。重量平均溶解度は、非プロトン性溶媒中のフェノチアジンの溶解度に、溶媒組み合わせ中の非プロトン性溶媒の重量割合を掛け、イオン液体中のフェノチアジンの溶解度に、溶媒組み合わせ中のイオン液体の重量割合を掛けて、それらの積を合算することによって算出できる。いくつかの場合、有利には、溶解度増加効果が起こり、ここで、実際の溶解度は、重量平均溶解度よりも高い。

さらに、成分ｂ）、ｃ）およびフェノチアジンの組み合わせは、成分ｃ）のみにおけるフェノチアジンの溶液よりも低い粘度を有している。このことは、とりわけ、ラジカル重合の開始における組成物のモノマーへの混入時に有利である。

本発明による組成物の製造は、例えば、前述の成分ａ）、ｂ）およびｃ）を互いに混合して、その後、結果として生じた混合物を均質化することによって行うことができる。方法上、この製造方法は、液体または液体および固体を混合するための一般的かつ公知の装置、例えば撹拌槽、押出機、ウルトラタラックス（Ｕｌｔｒａｔｕｒｒａｘ）、インライン溶解機、均質化ノズルまたは向流ミキサーを使用して行うことができる。

組成物は、さらなる抑制剤、例えばフェノール系抑制剤、例えば４−メトキシフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチル−ブレンツカテキン、ヒドロキノンまたは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（Ｋｅｒｏｂｉｔ ＢＨＴ）、Ｎ−オキシル化合物、例えば２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−１−オキシル（ＴＥＭＰＯ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−１−オキシル（ＨＯ−ＴＥＭＰＯ）および４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−１−オキシル（Ｏｘｏ−ＴＥＭＰＯ）、芳香族アミン、例えばジフェニルアミン、パラ−フェニレンジアミンまたはパラ−フェニレンジアミン誘導体、例えばＮ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−パラ−フェニレンジアミン（Ｋｅｒｏｂｉｔ ＢＰＤ）、または有機ニトロソ化合物またはその混合物を含んでよい。

ニトロキシルラジカル（Ｎ−オキシルラジカルとも呼ばれる）としては、とりわけ、第二級アミンから誘導されるものが考慮され、それらは、水素原子をα−炭素原子に有していない（つまり、Ｎ−オキシル基は、相応の第二級アミノ基から誘導されるものである）。これらのうち、特に、欧州特許出願公開第１３５２８０号明細書（EP-A135280）、先願の独国特許出願公開第１９６５１３０７号明細書（DE-A19651307）、米国特許出願公開第５，３２２，９１２号明細書（US-A5,322,912）、米国特許出願公開第５，４１２，０４７号明細書（US-A5,412,047）、米国特許出願公開第４，５８１，４２９号明細書（US-A4,581,429）、独国特許出願公開第１６１８１４１号明細書（DE-A1618141）、中国特許出願公開第１０５２８４７号明細書（CN-A1052847）、米国特許出願公開第４，６７０，１３１号明細書（US-A4,670,131）、米国特許出願公開第５，３２２，９６０号明細書（US-A5,322,960）、先願の独国特許出願公開第１９６０２５３９号明細書（DE-A19602539）、欧州特許出願公開第７６５８５６号明細書（EP-A765856）および特開平５−３２０２１７号公報（JP-A5/320217）に挙げられているＮ−オキシルラジカルが好適である。

第二級アミンから誘導されるそのような好適な安定Ｎ−オキシルラジカルは、例えば式（ＩＶ）：

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ⁶＝同一または異なる、直鎖または分岐鎖の、場合によって置換されたアルキル基であり、
Ｒ³およびＲ⁴＝同一もしくは異なる、直鎖もしくは分岐鎖の、場合によって置換されたアルキル基であるか、または
Ｒ³ＣＮＣＲ⁴＝場合によって置換された、環状構造である］
のものである。

好適な化合物ＩＶとしては、とりわけ、欧州特許出願公開第１３５２８０号明細書（EP-A135280）、先願の独国特許出願公開第１９６５１３０７号明細書（DE-A19651307）、米国特許出願公開第５，３２２，９１２号明細書（US-A5,322,912）、米国特許出願公開第５，４１２，０４７号明細書（US-A5,412,047）、米国特許出願公開第４，５８１，４２９号明細書（US-A4,581,429）、独国特許出願公開第１６１８１４１号明細書（DE-A1618141）、中国特許出願公開第１０５２８４７号明細書（CN-A1052847）、米国特許出願公開第４，６７０，１３１号明細書（US-A4,670,131）、米国特許出願公開第５，３２２，９６０号明細書（US-A5,322,960）ならびに先願の独国特許出願公開第１９６０２５３９号明細書（DE-A19602539）に挙げられているものが考慮される。

その例は、一般式（ＩＶ）の安定Ｎ−オキシルラジカルであり、ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ⁶は、（同じか、または異なる）Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基またはｔｅｒｔ−ブチル基、直鎖または分岐鎖ペンチル基、フェニル基またはその置換された基を表し、Ｒ³およびＲ⁴は、（同じか、または異なる）Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基またはｔｅｒｔ−ブチル基、直鎖または分岐鎖ペンチル基、その置換された基、またはＣＮＣとともに以下の環状構造

［式中、ｎは、１から１０までの整数（しばしば１から６まで）に等しい］を、置換されたそのような環状構造を含めて表す。例示される代表的なものとしては、２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジン、２，２，５，５−テトラメチル−１−オキシル−ピロリジンおよび４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジンが挙げられる。

Ｎ−オキシルラジカル（ＩＶ）は、相応の第二級アミンから酸化によって、例えば過酸化水素による酸化によって製造される。一般的に、それらは、純粋物質として製造可能である。

好適なＮ−オキシルラジカル（ＩＶ）には、とりわけ以下の一般式（Ｖ）から（ＸＩＩ）までのピペリジン−Ｎ−オキシルまたはピロリジン−Ｎ−オキシルおよびジ−Ｎ−オキシルが含まれる：

式中、
ｍ＝２から１０までであり、
Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹＝互いに無関係に、

であり、
Ｍ⁺＝水素イオンまたはアルカリ金属イオンであり、
ｑ＝１から１０までの正数であり、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶＝互いに無関係に、およびＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶に無関係に、同一の基、例えばＲ¹であり、
Ｒ¹⁰＝Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＮ、

であり、
Ｒ¹¹＝少なくとも１つの第一級アミノ基、第二級アミノ基（例えば−ＮＨＲ¹）もしくは第三級アミノ基（例えば−ＮＲ¹Ｒ²）もしくは少なくとも１つのアンモニウム基−Ｎ⁺Ｒ¹⁴Ｒ¹⁵Ｒ¹⁶Ｘ^-を有する有機残基であり、ここで、Ｘ^-＝Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＨＳＯ₄ ^-、ＳＯ₄ ^2-、Ｈ₂ＰＯ₄ ^-、ＨＰＯ₄ ^2-またはＰＯ₄ ^3-であり、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は、互いに無関係に有機残基（例えば互いに無関係に、およびＲ¹に無関係にＲ¹と同一の基）であり、
Ｒ¹²＝Ｒ¹¹に無関係にＲ¹¹と同一の基、もしくは−Ｈ、−ＯＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル、−ＣＯＯ^-Ｍ⁺、−Ｃ≡ＣＨ、

もしくはヒドロキシ置換されたＣ₁〜Ｃ₄−アルキル（例えばヒドロキシエチルもしくはヒドロキシプロピル）であるか、または
Ｒ¹¹、Ｒ¹²＝ともにカルボニル基の酸素であり、
Ｒ¹³＝

である。

好ましくは、Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ⁵＝Ｒ⁶＝Ｒ^1’＝Ｒ^2’＝Ｒ^5’＝Ｒ^6’＝−ＣＨ₃である。

好適なＮ−オキシルラジカルの代表的な例としては、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジン、４−ヒドロキシ−２，６−ジフェニル−２，６−ジメチル−１−オキシル−ピペリジン、４−カルボキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジン、４−カルボキシ−２，６−ジフェニル−２，６−ジメチル−１−オキシル−ピペリジン、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチル−１−オキシル−ピロリジン、３−カルボキシ−２，５−ジフェニル−２，５−ジメチル−１−オキシル−ピロリジン、４−アセチル−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシル−ピペリジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−１，６−ジアミノヘキサンおよびビス−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジペートが挙げられる。

３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチル−１−オキシル−ピロリジンの製造は、例えばＲｏｍａｎｅｌｌｉ，Ｍ．；Ｏｔｔａｖｉａｎｉ，Ｍ．Ｆ．；Ｍａｒｔｉｎｉ，Ｇ．；Ｋｅｖａｎ，Ｌ．、ＪＰＣＨ Ｊ：Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．、ＥＮ、９３、１、１９８９、ｐ．３１７〜３２２に記載されている。

化合物（ＩＸ）および（Ｘ）は、米国特許出願公開第４６６５１８５号明細書（US-A4665185）（例えば例７）ならびに独国特許出願公開第１９５１０１８４号明細書（DE-A19510184）により得ることができる。

さらなる好適な代表例は、以下の通りである：

好適な有機ニトロソ化合物は、例えばＮ−ニトロソアリールアミンまたは、芳香族核の炭素原子に直接結合されたニトロソ基を有するニトロソ化合物である。例として挙げられるのは、ニトロソフェノール、例えば４−ニトロソフェノール、ニトロソナフトール、例えば２−ニトロソ−１−ナフトール、ニトロソベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル尿素、ニトロソ−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン（ここで、アルキル＝メチル、エチル、プロピルおよび／またはブチルである）、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、４−ニトロソジナフチルアミンおよびｐ−ニトロソジフェニルアミンである。

好適なｐ−フェニレンジアミンは、一般式（ＸＩＩＩ）

［式中、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸＝互いに無関係に、２０個までの炭素原子を有するアルキル、アリール、アルカリールまたはアラルキル、または水素である］のｐ−フェニレンジアミンである。

とりわけ、前記式中、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸＝互いに無関係に、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｎ−ブチル、ペンチル、フェニルまたはナフチルである化合物（ＸＩＩＩ）が好適である。好適な化合物ＸＩＩＩの例としては、以下のものが挙げられる：Ｎ−Ｎ’−ビス−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピルフェニレンジアミン、Ｎ−ナフチル−Ｎ’−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジ−ｎ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−メチル−Ｎ’−エチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−メチル−Ｎ’−プロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−メチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−エチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−プロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ｎ−ペンチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ｎ−ヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１−メチルヘキシル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１，３−ジメチルブチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミンおよびｐ−フェニレンジアミン。

当然、フェノチアジンの他に、あらゆる種々の前述の重合抑制剤の混合物が使用されてもよい。

これらのさらなる構成成分の種類および量は、組成物の使用目的に従う。

本発明による組成物は、ラジカル重合に対するラジカル重合可能なモノマーの安定化の際に使用される。

ラジカル重合可能なモノマーは、例えば一般式ＸＩＶ
［ＣＨ₂＝Ｃ（Ｙ）−］_n−Ｘ （ＸＩＶ）
のビニルモノマーであり、式中、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン酸基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホン酸基（−ＰＯ₃Ｈ₂）、シラン基（−ＳｉＨ₃）または一価から十価までの、好ましくは一価から六価までの、より好ましくは一価から三価までの有機または有機金属残基を表し、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、１個から２０個までの炭素原子を有するアルキル基、３個から２０個までの炭素原子を有するシクロアルキル基、または６個から２２個までの炭素原子を有するアリール基を表す。

一般式ＸＩＶにおいて、指数ｎは、１から１０まで、好ましくは１から６まで、より好ましくは１から３までの整数を表す。とりわけ、ｎは、１に等しい。

残基Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン酸基（−ＳＯ₃Ｈ）、リン酸基（−ＰＯ₃Ｈ₂）、シラン基（−ＳｉＨ₃）または一価から十価まで、好ましくは一価から六価まで、より好ましくは一価から三価までの有機または有機金属残基を表す。とりわけ、それは、一価有機残基である。

有機残基とは、少なくとも１個の炭素原子を含む残基であると理解される。

有機金属残基とは、少なくとも１個の炭素原子と、少なくとも１個のケイ素原子および／または少なくとも１個のホウ素原子、とりわけ少なくとも１個のケイ素原子とを含む残基であると理解される。

有機および有機金属残基は、低分子量のオリゴマーまたはポリマーであってよい。 「低分子量の」とは、当該残基が、１つの構造単位または２つの同じか、もしくは異なる構造単位から構成されていることを意味する。「オリゴマー」とは、当該残基が、２から１２までの同じか、または異なる構造単位で構成されていることを意味する。「ポリマー」とは、当該残基が、１２超の同じか、または異なる構造単位で構成されていることを意味する。

有機残基または有機金属残基の構造単位は、好ましくは、酸素、硫黄、窒素、リン、フッ素、塩素および臭素からなる群、より好ましくは酸素、硫黄およびリンからなる群から選択される少なくとも１個のヘテロ原子、とりわけ酸素を含んでいてよい。

特に好ましいのは、前記式中、ｎが１を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、ホスホン酸基、シラン基（−ＳｉＨ₃）または一価の有機もしくは有機金属残基を表す一般式ＸＩＶのビニルモノマーである。そのようなモノマーは、狭義にはビニルモノマーとも呼ばれる（Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎｌｉｎｅ ２００７、「Ｖｉｎｙｌｍｏｎｏｍｅｒｅ」参照）。

よく適したハロゲン原子Ｘの例は、フッ素、塩素および臭素であり、とりわけ塩素である。

よく適した一価有機残基Ｘの例は、好ましくは１個から１２個まで、より好ましくは１個から１０個まで、とりわけ１個から８個までの炭素原子を有するアルキル残基Ｒ、好ましくは３個から１０個まで、より好ましくは４個から８個まで、とりわけ５個から６個までの炭素原子を有するシクロアルキル残基Ｒ、好ましくは６個から２２個まで、より好ましくは６個から１６個まで、とりわけ６個から１０個までの炭素原子を有するアリール残基Ｒ、アルキル残基、シクロアルキル残基およびアリールエーテル残基（−ＯＲ）（ここで、残基Ｒは、好ましくは、前述のアルキル残基、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒからなる群から選択されるものである）、ニトリル基（−ＣＮ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、アルキル残基Ｒ中に好ましくは１個から１０個まで、より好ましくは１個から８個まで、とりわけ１個から６個までの炭素原子を有するカルボキシルアルキルエステル残基（−Ｏ−ＣＯ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｏ−Ｒ）、シクロアルキル残基Ｒ中に好ましくは３個から１０個まで、より好ましくは４個から８個まで、とりわけ５個または６個の炭素原子を有するカルボキシルシクロアルキルエステル残基（−Ｏ−ＣＯ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｏ−Ｒ）、アリール残基Ｒ中に好ましくは６個から２２個まで、より好ましくは６個から１６個まで、とりわけ６個から１０個までの炭素原子を有するカルボキシルアリールエステル残基（−Ｏ−ＣＯ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｏ−Ｒ）、カルボキシルアミド残基（−ＣＯ−ＮＨ₂）、窒素上で少なくとも１つの残基Ｒ（好ましくは前述のアルキル残基、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒからなる群から選択される残基Ｒ、ここで、２つの残基Ｒは、環状に互いに結合していてもよい）で置換されているカルボキシルアミド残基（−ＣＯ−ＮＲＨまたは−ＣＯ−ＮＲ₂）、カルボキシルアミド残基（−ＮＲ−ＣＯ−Ｒ）、ここで残基Ｒは、好ましくは、前述のアルキル残基、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒならびに水素原子からなる群から選択されるものであるか、または２つの残基Ｒは、環状に互いに結合しているため、好ましくは、４員環、５員環または６員環が生じるものである、ならびにアミノ残基（−ＮＨＲまたは−ＮＲ₂）、窒素上で少なくとも１つの残基（好ましくは前述のアルキル残基、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒからなる群から選択される残基、ここで２つの残基Ｒは、環状に互いに結合していてもよい）で置換されているアミノ残基（−ＮＨＲまたは−ＮＲ₂）、ここで残基Ｒは、置換されているか、または置換されていなくてよい、である。

置換された残基Ｒによく適した置換基の例は、ハロゲン原子であり、好ましくはフッ素、塩素および臭素であり、とりわけフッ素および塩素、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホン酸基、エーテル残基（−ＯＲ）、エステル残基（−Ｏ−ＣＯ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｏ−Ｒ）、カルボキシルアミド残基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ）およびアミノ残基（−ＮＨＲまたは−ＮＲ₂）であり、とりわけカルボキシル基およびスルホン酸基である。ここで、残基Ｒは、上記意味を有する。

よく適した一価有機金属残基Ｘの例は、シリル残基（−ＳｉＨ₂Ｒ、−ＳｉＨＲ₂または−ＳｉＲ₃）（式中、残基Ｒは、好ましくは、前述のアルキル残基、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒからなる群から選択されるものであり、ここで、２つまたは３つの残基Ｒは、環状に互いに結合していてもよい）、シリルエーテル残基（−ＳｉＨ₂（ＯＲ）、−ＳｉＨ（ＯＲ）₂、−Ｓｉ（ＯＲ）₃、−ＳｉＨＲ（ＯＲ）、−ＳｉＲ₂（ＯＲ）、または−ＳｉＲ（ＯＲ）₂）（ここで、残基Ｒは、好ましくは、前述のアルキル残基Ｒ、シクロアルキル残基およびアリール残基Ｒからなる群から選択されるものであり、ここで２つまたは３つの残基Ｒは、環状に互いに結合していてよい）であり、ここで、これらのシリル残基およびシリルエーテル残基Ｘは、酸素原子を介してビニル基と結合していてもよい。

一般式ＸＩＶにおいて、変数Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、１個から２０個までの炭素原子を有するアルキル基、３個から２０個までの炭素原子を有するシクロアルキル基、または６個から２２個までの炭素原子を有するアリール基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、メチル基またはエチル基を表し、とりわけ水素原子またはメチル基を表す。

よく適したビニルモノマーＸＩＶは、１−オレフィン、ハロゲン化ビニル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、ビニルシラン、ビニルシリルエーテル、ビニルシロキサン、ビニルアミン、ビニルアミド、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ビニルカルボン酸、ビニル芳香族スルホン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリルニトリル、アリルエーテルおよびアリルエステルの化合物クラスに由来するものである。

特によく適したビニルモノマーＸＩＶは、１−オレフィン、ハロゲン化ビニル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ビニルカルボン酸、ビニル芳香族スルホン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミドおよびアクリルニトリルの化合物クラスに由来するものである。

特によく適した１−オレフィンの例は、エチレン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテンおよび１−ヘキセンである。

特によく適したハロゲン化ビニルの例は、フッ化ビニル、塩化ビニルおよび臭化ビニルである。

特によく適したビニル芳香族化合物の例は、スチレンおよびα−メチルスチレンである。

特によく適したビニルエーテルの例は、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテルおよびビニルブチルエーテルである。

特によく適したビニルエステルの例は、ビニルアセテートおよびビニルプロピオネートである。

特によく適したビニルアミドの例は、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルピロリドンおよびＮ−ビニルカプロラクタムである。

特によく適したビニルカルボン酸の例は、ビニル酢酸である。

特によく適したビニル芳香族スルホン酸の例は、ビニルベンゼン−２−スルホン酸、ビニルベンゼン−３−スルホン酸およびビニルベンゼン−４−スルホン酸である。

特によく適したアクリル酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、クロロアクリル酸およびシアノアクリル酸であり、とりわけアクリル酸およびメタクリル酸である。

特によく適したアクリル酸エステルの例は、アクリル酸メチルエステル、メタクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、メタクリル酸エチルエステル、アクリル酸プロピルエステル、メタクリル酸プロピルエステル、アクリル酸イソプロピルエステル、メタクリル酸イソプロピルエステル、アクリル酸−ｎ−ブチルエステル、メタクリル酸−ｎ−ブチルエステル、アクリル酸イソブチルエステル−１，１−ジエチルブチルエステル、メタクリル酸イソブチルエステル−１，１−ジエチルブチルエステル、アクリル酸−２−エチルヘキシルエステル、メタクリル酸−２−エチルヘキシルエステル、アクリル酸−１，１−ジエチルプロピルエステル、メタクリル酸−１，１−ジエチルプロピルエステル、アクリル酸−１−メチル−１−エチルプロピルエステル、メタクリル酸−１−メチル−１−エチルプロピルエステル、アクリル酸−１−メチル−１−エチルブチルエステル、メタクリル酸−１−メチル−１−エチルブチルエステル、アクリル酸−１，１−ジメチルブチルエステル、メタクリル酸−１，１−ジメチルブチルエステル、アクリル酸−１，１−ジメチルプロピルエステル、メタクリル酸−１，１−ジメチルプロピルエステル、およびアクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、メタクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステルであり、好ましくはアクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、アクリル酸−ｎ−ブチルエステルまたはｎ−ブチルアクリレート（ＮＢＡ）、アクリル酸イソブチルエステルまたはイソブチルアクリレート（ＩＢＡ）、アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステルまたはｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アクリル酸−２−エチルヘキシルエステルまたは２−エチルヘキシルアクリレート（ＥＨＡ）、ヒドロキシアルキルアクリル酸エステル、例えばアクリル酸−（２−ヒドロキシエチル）エステル、アクリル酸−（２−ヒドロキシプロピル）エステル、アクリル酸−（４−ヒドロキシブチル）エステルおよびメタクリル酸−（２−ヒドロキシエチル）エステルおよびメタクリル酸−（２−ヒドロキシプロピル）エステル、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（ＴＢＭＡ）および２−エチルヘキシルメタクリレート（ＭＥＨＡ）である。

特によく適したアクリルアミドの例は、アクリルアミドおよびメタクリルアミドである。

特によく適したアクリルニトリルの例は、アクリルニトリルおよびメタクリルニトリルである。

本発明はさらに、本発明による組成物をラジカル重合している系に添加するラジカル重合を直ちに停止させるための方法に関する。

本発明による組成物は、好ましくは、容器内でのラジカル重合可能なモノマーの制御されていないラジカル重合を抑制するための方法で使用される。制御されていないラジカル重合の開始は、容器内での温度上昇の検出によるか、または特に急な温度上昇勾配の検出により（時間あたりの系の温度上昇が所定値を上回る場合に）検知することができる。制御されていないラジカル重合の開始が検出されると、本発明による組成物が容器に導入されて、混合される。

ここで、容器は、ラジカル重合可能なモノマーを含むのに好適なあらゆる槽またはあらゆる器、例えば反応槽、例えば反応器、または保管のための貯蔵器であってよい。とりわけ重要なのは、反応器または貯蔵器内でのアクリル酸の制御されていない重合を回避するための前述の方法である。

プロセス監視の枠組みで、容器内でのモノマーの暴走反応の開始を検出することができる。検出は、一方では、段階的な温度閾値の超過により、他方では、２つの温度域値の間での温度上昇の時間に対する制限時間を下回ることにより行うことができる。温度閾値および時間は、求められる使用に対して好適に選択される。開始した暴走反応を終わらせる効果的な方法は、ラジカル重合の抑制剤の添加である。ここで、ラジカル重合の抑制剤は、本発明によれば、構成成分として先に定義した本発明による組成物に添加される。とりわけ、組成物の添加は、緊急時検知の第一段階においてすでに温度上昇が検出された容器への注入により行われる。この際、本発明による組成物は、開始した制御されていないラジカル重合を止めるために充分な量で添加される。本発明による組成物は通常、５０ｐｐｍから１０００ｐｐｍまでの抑制剤の最終濃度が達成される量で、添加される。本発明による組成物は好ましくは、１００ｐｐｍから５００ｐｐｍまでの抑制剤の最終濃度が達成される量で添加され、本発明による組成物は特に好ましくは、１２５ｐｐｍから２５０ｐｐｍまでの抑制剤の最終濃度が達成される量で、添加される。

本発明は、添付の図および実施例によって詳述される。

純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を基準とする、ＥＭＩＭ−イソノナネートと溶媒との混合物（質量比２０／８０）中のフェノチアジンの相対的な溶解度を示す棒グラフ 純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を基準とする、ＥＭＩＭ−エチルスルフェートと溶媒との混合物（質量比２０／８０）中のフェノチアジンの相対的な溶解度を示す棒グラフ 純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を基準とする、ＴＢＡ−エーテルカルボキシレートと溶媒との混合物（質量比２０／８０）中のフェノチアジンの相対的な溶解度を示す棒グラフ 純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を基準とする、ＥＭＩＭ−アセテートと溶媒との混合物（質量比２０／８０）中のフェノチアジンの相対的な溶解度を示す棒グラフ フェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭアセテートの系の相図（三角図） フェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭエチルスルフェートの系の相図（三角図）

例１
この例では、イオン液体と溶媒との混合物（イオン液体／溶媒の質量比＝２０／８０）中のフェノチアジンの溶液の結晶挙動を試験した。組成物は、１４日にわたってそれぞれ昼間は−７０℃（ドライアイス）で、夜間は−２０℃で貯蔵し、続いて室温で外観を評価した。

１４日後に沈殿物または結晶を示さない試料を良と評価する。以下の表は、その組成と、種々の溶媒と組み合わされた４つの異なるイオン液体中のフェノチアジンについての結果を示している。

例２
この例では、アクリル酸（ＡＡ）における加熱試験（Ｔｅｍｐｅｒｔｅｓｔ）を実施した。この試験では、アクリル酸の試料を大気雰囲気下で１２０℃に維持して、溶液の混濁が現れるまでの時間を測定する。その時間をアクリル酸試料の抑制期間（ＩＰ）とする。

１．様々な重合抑制剤が加えられた液相の製造
新たに製造された純粋アクリル酸（ＧＡＡ、独国特許出願公開第１０２００７０５５０８６号明細書（DE-A102007055086）のように製造し、その質量を基準として２００質量ｐｐｍのメトキシフェノール（ＭＥＨＱ）で重合抑制したもの）から、減圧下に（１０００Ｐａ）、２回連続して実施した複式蒸留によりＭＥＨＱを除去した。こうして製造された純粋アクリル酸蒸留液ＲＤの純度は、９９．８質量％超であり、この際にアルデヒドおよびケトン総含有量は５質量ｐｐｍ未満、ジアクリル酸含有量は１質量ｐｐｍ未満、そしてプロピオン酸含有量は２００質量ｐｐｍ未満であった。

純粋アクリル酸蒸留液ＲＤから部分量１を取り出し、撹拌して、１０００質量ｐｐｍのフェノチアジン（ＰＴＺ）を含む原液１を製造した。純粋アクリル酸蒸留液ＲＤのもう一方の部分量２から、様々な量のイオン液体ＩＬ、溶媒ＬＭ、またはイオン液体ＩＬと溶媒ＬＭとの混合物ＩＬ／ＬＭを使用して種々の原液２を製造し、これらの原液中には、例えば様々な量の種々のイオン液体ＩＬ、種々の溶媒ＬＭ、またはイオン液体ＩＬと溶媒ＬＭとの種々の混合物ＩＬ／ＬＭが溶解していた。

原液１のうち４０質量部を、９６０質量部の純粋アクリル酸蒸留液ＲＤと混合し、こうして原液３を得た。この原液３から、部分量を１ｍＬの体積を有する同一の試料に分けた。

原液２から取り出した試料の量を、原液３から得られた種々の１ｍＬ試料と合して、アクリル酸、フェノチアジン（ＰＴＺ）、イオン液体ＩＬ、溶媒ＬＭならびにイオン液体ＩＬと溶媒ＬＭとの混合物ＩＬ／ＬＭについて所望の組成を、ドーピングにより得た。こうして製造されたドープされた試料を、さらなる試験のために同じ日に準備した。繰り返し測定するために、ドープされた新たな試料を製造して、マイケル・オリゴマー化により得られたアクリル酸・オリゴマーの影響を最小限にした。

２．種々の液相Ｐのドープされた試料の重合傾向の試験
ドープされた各試料の重合傾向を試験するために、それぞれ３つのＨＰＬＣ−バイアル（充填容量１．５ｍＬの透明槽）に、各試料を０．５ｍＬずつ、大気下に充填し、続いてクリンプキャップで密閉した。完成したらすぐに、そのつど、前述の通り充填した最大９２個のバイアルをそのために作成した保持器に掛けて、１２０℃の温度で空気循環式乾燥機にそのまま置く一方、保持器は、バイアル内での完全な混合を保証するために毎分６回転で回転させた（毎分６回回転させると、各バイアルの液状内容物は、クリンプキャップと接触した）。その後、付属のバイアル内で各試料が完全に重合するまでの時間Ｔを記録した。そのために、乾燥機内のバイアル中の試料を、デジタルビデオカメラで監視して、ビデオフィルムをあとから視覚的に評価した。

こうしてドープされた各試料について３つの関連する値を求め、これを算術平均した。種々の試料についてこうして得られた平均値ＩＰ（分）は、アクリル酸以外の構成成分の付随的な関連含有量を含め、以下に列挙されている（含有量の記載はそれぞれ、各試料を含む材料全体を基準としている）。

イオン液体と溶媒との混合物を添加物として使用した場合、イオン液体対溶媒もしくは対溶媒混合物（ＩＬ／ＬＭ）の質量比は、２０／８０であった。

例３
２０質量％のイオン液体と８０質量％の溶媒との混合物中のフェノチアジンの溶解度を、明らかなフェノチアジン沈殿物が認められるまで、室温で溶液に徐々にフェノチアジンを加えることによって測定した。同じようにして、純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を測定した。

以下の溶媒を試験した：ジメチルスルフェート（ＤＭＳＯ）、スルホラン、脱塩水、ベンゾニトリル、酢酸、プロピオン酸、ジメチルスクシネート、メチルベンゾエート、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、シクロヘキサノン、メチルブチルケトン、モルホリン、エチレングリコール、メチルポリエチレングリコールＭ_w５００（Ｐｌｕｒｉｏｌ Ａ ５００ Ｅ）、ポリエチレングリコールＭ_w ４００（Ｐｌｕｒｉｏｌ Ｅ ４００）、乳酸ジメチルアミド（Ａｇｎｉｑｕｅ ＡＭＤ ３Ｌ）、ジブチルアジペート（Ｃｅｔｉｏｌ Ｂ）、ジ−（２−エチルヘキシル）アジペート（Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ ＤＯＡ）、ｎ−オクタノール（Ａｇｎｉｑｕｅ ＦＯＨ ８９８）、Ｃ₁₀−脂肪酸−ジメチルアミド（Ａｇｎｉｑｕｅ ＡＭＤ １０）、エチレンジアミン、３−（ジメチルアミノ）−１−プロピルアミン、Ｎ−メチルイミダゾール、ジメチルエチレン尿素、２−エチルヘキシルラクテート（Ａｇｎｉｑｕｅ ＡＥ ３−２ ＥＨ）、ベンジルアルコール、ジメチルフタレート、ビフェニルとジフェニルオキシドとの共融混合物（Ｄｏｗｔｈｅｒｍ Ａ）、アニスアセタール、デカヒドロナフタレン、オレイル／セチル脂肪アルコール（Ａｇｎｉｑｕｅ ＦＯＨ ９ ＯＣ）、ジプロピレングリコール−ジメチルエーテル（Ｐｒｏｇｌｙｍｅ）。

純粋溶媒中のフェノチアジンの溶解度を基準とする、イオン液体と溶媒との混合物中のフェノチアジンの相対的な溶解度は、図１から４までに示されている。プロトン性溶媒、例えば酢酸、プロピオン酸、水、エチレングリコール、エチレンジアミンを使用する場合には、わずかな溶解度増加効果もしくは溶解度低下効果のみが観察されることが分かる。

例４
室温でのフェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭアセテートの系の相図（三角図）を特定した。この相図は、図５に示されている。三角図においてコーナーは、純粋な物質に相当する。三角形の辺は、２つの物質の混合物に相当する。任意の点Ｐにおけるフェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭアセテートの割合は、Ｐを通る辺の平行線と他の辺との交点により示されている。選択された点における相の性質（単相、液／液の二相、固／液の二相、三相）は、記号で示されている。

イオン液体をわずかに添加するだけでも、溶媒におけるフェノチアジンの溶解度が高められることが分かり、この際、純粋なイオン液体における可溶性まで直線的な増加が観察される。さらに、イオン液体と溶媒との非相溶性（２つの液相の形成）は、フェノチアジンを添加することにより、特定の濃度からは解消されることが分かる。

例５
室温でのフェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭエチルスルフェートの系の相図（三角図）を特定した。この相図は、図６に示されている。三角図においてコーナーは、純粋な物質に相当する。三角形の辺は、２つの物質の混合物に相当する。任意の点Ｐにおけるフェノチアジン／Ｐｒｏｇｌｙｍｅ／ＥＭＩＭエチルスルフェートの割合は、Ｐを通る辺の平行線と他の辺との交点により示されている。選択された点における相挙動（単相、液／液の二相、固／液の二相、三相）は、記号で示されている。

イオン液体をわずかに添加するだけでも、溶媒におけるフェノチアジンの溶解度が高められることが分かり、この際、純粋なイオン液体における可溶性まで直線的な増加もしくはわずかな相乗効果が観察される。さらに、イオン液体と溶媒との非相溶性（２つの液相の形成）は、フェノチアジンを添加することにより、特定の濃度からは解消されることが分かる。

Claims (10)

1. ａ）フェノチアジンから選択されるラジカル重合の抑制剤と、
   ｂ）非プロトン性溶媒であるポリオールポリエーテルと、
   ｃ）イオン液体と
   を含み、成分ａ）、ｂ）およびｃ）の全質量を基準として少なくとも２０質量％の抑制剤を含み、
   イオン液体は、有機カチオン及びアニオンを含み、
   有機カチオンは、式（ＩＩ）
   Ｎ ⁺ Ｒ ¹ Ｒ ² Ｒ ³ Ｒ ⁴ （ＩＩ）
   ［式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ ³ およびＲ ⁴ は、互いに無関係に、ヘテロ官能性基で置換されていてよく、互いに脂肪族環系を形成することができるアルキル残基を表す］の第四級アンモニウムイオン、又は、
   式（ＩＩＩ）
   

   

   ［式中、Ｒ ⁵ は、水素またはアルキルを表し、Ｒ ⁶ は、アルキルを表し、Ｒ ⁷ は、水素またはアルキルを表す］のイミダゾリウムイオン
   から選択され、かつ、アニオンは、カルボキシレート又はスルフェートである、
   ラジカル重合を直ちに停止させるための組成物。
2. 非プロトン性溶媒対イオン液体の質量比は、１００：１から１：１０までの範囲にある、請求項１に記載の組成物。
3. 非プロトン性溶媒は、液状の純粋物質として、２９３．１５Ｋの温度および１.０１３３・１０⁵Ｐａの圧力において、３から５０まで、好ましくは５から３８までの範囲の静的比誘電率ε_rを有する、請求項１または２に記載の組成物。
4. 非プロトン性溶媒は、
   

   

   によって示されているハンセン溶解度空間における位置を有する、請求項１または２に記載の組成物。
5. 抑制剤はフェノチアジンである、請求項１から４までのいずれか１項に記載の組成物。
6. 有機カチオンは、イミダゾリウムカチオンから選択される、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物。
7. 請求項１から６までのいずれか１項に記載の組成物の、ラジカル重合に対するラジカル重合可能なモノマーの安定化のための使用。
8. ラジカル重合可能なモノマーは、１−オレフィン、ハロゲン化ビニル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、ビニルカルボン酸、ビニル芳香族カルボン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリルニトリルおよびアリルエステルから選択される、請求項７に記載の使用。
9. 請求項１から６までのいずれか１項に記載の組成物を、ラジカル重合している系に添加する、ラジカル重合を直ちに停止させるための方法。
10. （ｉ）時間あたりの系の温度上昇が所定値を上回る場合に、系における制御されていないラジカル重合の開始が検知される、そして
    （ｉｉ）請求項１から６までのいずれか１項に記載の組成物を、ラジカル重合している系に導入する、
    請求項９に記載の方法。

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