JP6820891B2 - ウェーハの検査システム及び方法 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 415
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 248
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 412
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 309
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 133
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 131
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 54
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 38
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 481
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 23
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 19
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 8
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 8
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 5
- 240000007320 Pinus strobus Species 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012549 training Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010252 digital analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 230000014616 translation Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/0008—Industrial image inspection checking presence/absence
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/70—Circuitry for compensating brightness variation in the scene
- H04N23/74—Circuitry for compensating brightness variation in the scene by influencing the scene brightness using illuminating means
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8822—Dark field detection
- G01N2021/8825—Separate detection of dark field and bright field
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- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/061—Sources
- G01N2201/06113—Coherent sources; lasers
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- G01N2201/063—Illuminating optical parts
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- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
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- G06T2207/10141—Special mode during image acquisition
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- G06T2207/20212—Image combination
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- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
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- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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Description
MICDは、複数画像取込装置及び複数照明を用いる。MICDは、波長スペクトラムを狭帯域にセグメント化し、かつ各セグメント化された波長スペクトラムを個々の照明に割り当てる原理に基づく。MICD法を使用するシステムの設計において、各画像取込装置が空間フィルタ又は特別にコーティングされたビーム分割器のような対応する光学付属品と共に、対応する照明(即ち、照明光源)と対にされる。例えば、明視野の波長は水銀アークランプ及び空間フィルタを用いて400から600ナノメートルの間に限定され、暗視野はレーザーを用いて650から700ナノメートルの間に限定される。MICD法は、例えば劣化画質及び設計非柔軟性の欠点に陥る。劣化画質は、狭い波長による照明の使用と組み合わせられた、検査されたウェーハの変化する表面反射率に起因する。単一照明の波長の変更が典型的にウェーハ検査システムの光学機器全体の再構成を必要とするので、設計非柔軟性が生じる。加えて、MICD法は典型的には取込画像の品質を呈することなく単一画像取込装置による異なる波長の照明の取込を可能にすることはない。
SICD法は、セグメント化された波長又は広帯域波長のどちらかの、複数照明を取込むための単一画像取込装置を用いる。しかしながら、ウェーハが動く間に、同時に複数照明レスポンスを得ることは可能ではない。換言すれば、ウェーハが動いている時、SICD法は1つの照明レスポンスを可能にするだけである。複数照明レスポンスを達成するために、SICD法はウェーハが静止している間に画像取込を必要とし、それはウェーハ検査システムの処理能力に影響を及ぼす。
基準画像作成プロセス900のステップ902において、半導体ウェーハ12上の所定の数の基準領域を含むレシピ(手法)がロードされる。レシピは好ましくはコンピューターソフトウェアプログラムによって作り出されるか又は導き出される。代替的には、レシピは手動で作り出される。レシピはCPUのデータベース内に記憶されることができる。代替的には、レシピは外部データベース又はメモリ空間内に記憶される。
(a)まとめられた画像の各々の各画素の強度の正規化加算平均
(b)まとめられた画像の各々の各画素の強度の標準偏差
(c)まとめられた画像の各々の各画素の最大及び最小強度
(d)ステップ702で決定される所定の数の基準領域の各々の加算平均基準強度
2Dウェーハ走査プロセス500は第1の画像取込装置32及び第2の画像取込装置34による明視野画像及び暗視野画像の取込を可能にする。
2D画像処理プロセス600は2Dウェーハ走査プロセス500で取込される画像の処理を容易にする。加えて、2D画像処理プロセス600はウェーハ12上の欠陥を識別するか又は検出し、分類し、まとめ、記憶することのうち少なくとも1つを容易にする。
3Dウェーハ走査プロセスのステップ702では、細線照明が細線照明装置52によって供給されるか又はそれから放射される。ステップ704において、細線照明はミラー54によって検査位置に差し向けられる。
前述のように、点検プロセス800は好ましくは3つの検査モード、即ち第1のモード800a、第2のモード800b及び第3のモード800cを含む。ステップ802では、検査モード(即ち、第1のモード800a、第2のモード800b及び第3のモード800cの1つ)が選ばれる。
点検プロセス800の第1のモード800aのステップ804では、方法400のステップ416で実行される2D画像処理プロセス600中に検出される全ての欠陥の第1の画像及び第2の画像は、まとめられて保存される。
点検プロセス800の第2のモード800bのステップ820では、複数の検査画像はステップ420で算出される欠陥画像取込位置の各々で取込される。特に、検査明視野画像及び検査暗視野画像は図14に示される点検画像取込装置61を用いてステップ420で算出される欠陥画像取込位置の各々で取込される。即ち、明視野照明装置62を用いる検査明視野画像及び暗視野照明装置64を用いる点検暗視野画像はステップ416の2D画像処理プロセス600によって検出される各欠陥の中で取込される。複数の点検画像の各々は点検画像取込装置61によって取込される。好ましくは、複数の点検画像の各々はカラー画像である。
点検プロセス800の第3のモード800cは、好ましくは手動入力、特にユーザによる入力又はコマンドによって初期化される。ステップ840において、ユーザが第1の欠陥画像取込位置で第1の点検明視野画像及び第1の点検暗視野画像を取込む。ステップ842では、ユーザは取込された第1の点検明視野画像及び第1の点検暗視野画像を手動で検査するか又はチェックする。好ましくは、第1の点検明視野画像及び第1の点検暗視野画像はユーザによってそれの目視検査を容易にするためにスクリーン又はモニタ上に表示される。ユーザは明視野及び暗視野照明装置を用いて異なる照明組合せで欠陥を観察することが可能である。
12・・・半導体ウェーハ
14・・・光検査ヘッド
6・・・ウェーハ搬送テーブル(ウェーハチャック)
18・・・ロボットウェーハハンドラ
20・・・ウェーハスタックモジュール
22・・・X−Y変位テーブル
24・・・振動絶縁装置
26・・・明視野照明装置
28・・・低角度暗視野照明装置
30・・・高角度暗視野照明装置
32・・・第1の画像取込装置
34・・・第2の画像取込装置
36・・・第1のチューブレンズ
38・・・第2のチューブレンズ
40・・・対物レンズ
42・・・回転可能なマウント
44・・・コンデンサ
46・・・第1の反射面
47・・・ミラー又はプリズム
48・・・第1のビーム分割器
50・・・第2のビーム分割器
52・・・細線照明装置
54・・・ミラー
56・・・3D形状カメラ
58・・・3D形状対物レンズ
61・・・点検画像取込装置(検査カメラ)
62・・・点検明視野照明装置
64・・・点検暗視野照明装置
66・・・第1の反射面
68・・・ビーム分割器
70・・・点検対物レンズ
72・・・点検チューブレンズ
80・・・反射器組立体
82・・・第1の対のミラー又はプリズム
84・・・第2の対のミラー又はプリズム
100・・・第1の光線パス
200・・・第2の光線パス
250・・・第3の光線パス
300・・・第4の光線パス
350・・・第5の光線パス
400・・・検査方法
500・・・2Dウェーハ走査プロセス
600・・・2D画像処理プロセス
700・・・3Dウェーハ走査プロセス
750・・・第2の3Dウェーハ走査プロセス
800・・・点検プロセス
900・・・基準画像作成プロセス
Claims (14)
- 半導体構造体を含む被検査物の光学検査方法であって、前記検査方法は、
第1のコントラスト照明の次に及び第2のコントラスト照明を自動的に出力するように構成される検査照明装置(26、28、30)を備え、
明視野照明及び暗視野照明を出力するように構成される点検照明装置(62、64)を備え、
第1の検査画像取込装置(32)及び第2の検査画像取込装置(34)を備え、
点検画像取込装置(61)を備え、
被検査物のウェーハ走査パスを計算し、
被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に被検査物の複数の選択された部分に対応する検査プロセス(500)を実行し、検査プロセスは
被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に第1のコントラスト照明を用いて第1の検査画像取込装置で被検査物の選択された部分の第1の検査画像を取込み、かつ被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に第2のコントラスト照明を用いて第2の検査画像取込装置で被検査物の選択された部分の第2の検査画像を取込むことを繰り返して実行し、
被検査物の複数の選択された部分内の被検査物の各選択された部分の第1の検査画像及び第2の検査画像が取込まれた後、被検査物の複数の選択された部分内の被検査物の各選択された部分の欠陥識別プロセス(600)を実行し、欠陥識別プロセスは
欠陥の存在について被検査物の選択された部分に対応する第1の検査画像を自動的に分析し、
第1の検査画像の分析に基づいて第1の検査画像に欠陥の存在が示される場合、欠陥の存在が示される第1の検査画像の領域に対応する欠陥重要領域(DROI)を決定し、
第2の検査画像全体を分析する代わりに、DROIに対応する第2の検査画像内の選択された領域を自動的に分析して欠陥が第2の検査画像の選択された領域に示されているかどうかを判定し、
欠陥が第2の検査画像の選択された領域に示される場合、被検査物の選択された部分の明確な欠陥識別を確立し、かつ不明確な欠陥識別を確立し、
明確な欠陥識別が発生した被検査物のこれらの選択された被検査物部分に基づいて点検走査パスを計算し、
被検査物に対応する欠陥点検プロセス(800)を実行し、欠陥点検プロセスは、
明確な欠陥識別を有する被検査物の選択された部分ごとに、点検画像取込装置を用いて、被検査物の選択された部分の明視野点検画像及び暗視野点検画像のそれぞれを取込むことを特徴とする半導体構造体を含む被検査物の検査方法。 - 点検画像取込装置と第1の画像取込装置及び第2の画像取込装置のうちの少なくとも1つとを使用して被検査物の少なくとも1つの領域の複数の基準画像を取込み、取込まれた基準画像からゴールデン基準画像を数学的に導出することを特徴とする請求項1記載の検査方法。
- 被検査物の選択された部分に対応する第1の検査画像を自動的に分析することは、第1の検査画像をゴールデン基準画像と比較することを特徴とする請求項2記載の検査方法。
- 明確な欠陥識別を有する被検査物の第1の部分について、被検査物の第1の部分に対応する明視野点検画像と暗視野点検画像とを表示装置上に提示することから成ることを特徴とする請求項1記載の検査方法。
- 明視野点検画像及び暗視野点検画像を取込む照明は、それぞれ点検明視野照明装置(62)及び点検暗視野照明装置(64)によって提供されることを特徴とする請求項4記載の検査方法。
- 第1のコントラスト照明及び第2のコントラスト照明のそれぞれは、明視野照明、暗視野照明、明視野照明の第1の組み合わせ及び明視野照明と暗視野照明の第2の異なる組み合わせのそれぞれを含むコントラスト照明形式の範囲から選択されることを特徴とする請求項1記載の検査方法。
- 第1の画像取込装置及び第2の画像取込装置が第1の画像取込装置によるそれぞれの第1の検査画像の取込と第2の画像キャプチャ装置によるそれぞれの第2の検査画像の取込中に被検査物の各選択された部分の共通視野を共有する対物レンズ(40)を含む1組の光学エレメントを備えることを特徴とする請求項1記載の検査方法。
- 半導体構造体を含む被検査物の光学検査システムであって、前記検査システムは、
第1のコントラスト照明の次に及び第2のコントラスト照明を自動的に出力するように構成される検査照明装置(26、28、30)、
明視野照明及び暗視野照明を出力するように構成される点検照明装置(62、64)、
第1の検査画像取込装置(32)及び第2の検査画像取込装置(34)、
第1の検査画像取込装置、
第1の検査画像取込装置とは異なる第2の検査画像取込装置、
点検画像取込装置(61)、
メモリ及びデータベースに結合される処理装置を備え、処理装置は
被検査物のウェーハ走査パスを計算し、
被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に被検査物の複数の選択された部分に対応する検査プロセス(500)を実行し、検査プロセスは
被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に第1のコントラスト照明を用いて第1の検査画像取込装置で被検査物の選択された部分の第1の検査画像を取込み、かつ被検査物がウェーハ走査パスに沿って1パスで移動される間に第2のコントラスト照明を用いて第2の検査画像取込装置で被検査物の選択された部分の第2の検査画像を取込むことを繰り返して実行し、
被検査物の複数の選択された部分内の被検査物の各選択された部分の第1の検査画像及び第2の検査画像が取込まれた後、被検査物の複数の選択された部分内の被検査物の各選択された部分の欠陥識別プロセス(600)を実行し、欠陥識別プロセスは
欠陥の存在について被検査物の選択された部分に対応する第1の検査画像を自動的に分析し、
第1の検査画像の分析に基づいて第1の検査画像に欠陥の存在が示される場合、
欠陥の存在が示される第1の検査画像の領域に対応する欠陥重要領域(DROI)を決定し、
第2の検査画像全体を分析する代わりに、DROIに対応する第2の検査画像内の選択された領域を自動的に分析して欠陥が第2の検査画像の選択された領域に示されているかどうかを判定し、
欠陥が第2の検査画像の選択された領域に示される場合、被検査物の選択された部分の明確な欠陥識別を確立し、かつ不明確な欠陥識別を確立し、
明確な欠陥識別が発生した被検査物のこれらの選択された被検査物部分に基づいて点検走査パスを計算し、
被検査物に対応する欠陥点検プロセス(800)を実行し、欠陥点検プロセスは、
明確な欠陥識別を有する被検査物の選択された部分ごとに、点検画像取込装置を用いて、被検査物の選択された部分の明視野点検画像及び暗視野点検画像のそれぞれを取込むことを特徴とする半導体構造体を含む被検査物の検査システム。 - 処理装置は、数学的に導出されるゴールデン基準画像を
点検画像取込装置と第1の画像取込装置及び第2の画像取込装置のうちの少なくとも1つとを使用して被検査物の少なくとも1つの領域の複数の基準画像の取込みを実行し、
取込まれた基準画像からゴールデン基準画像を数学的に導出することによって生成するように構成されることを特徴とする請求項8記載の検査システム。 - 処理装置は、第1の検査画像をゴールデン基準画像と比較することで被検査物の選択された部分に対応する第1の検査画像を自動的に分析するように構成されることを特徴とする請求項9記載の検査システム。
- 明確な欠陥識別を有する被検査物の第1の部分に対応する明視野点検画像と被検査物の第1の部分に対応する暗視野点検画像とを提示するように構成される表示装置を備えることを特徴とする請求項8記載の検査システム。
- 明視野点検画像を取込む明視野照明を提供する点検明視野照明装置(62)及び暗視野点検画像を取込む暗視野照明を提供する点検暗視野照明装置(64)を備えることを特徴とする請求項11記載の検査システム。
- 検査照明装置は、第1のコントラスト照明及び第2のコントラスト照明のそれぞれは、明視野照明、暗視野照明、明視野照明の第1の組み合わせ及び明視野照明と暗視野照明の第2の異なる組み合わせのそれぞれを含むコントラスト照明形式の範囲から選択されるように構成されることを特徴とする請求項8記載の検査システム。
- 第1の画像取込装置及び第2の画像取込装置が第1の画像取込装置によるそれぞれの第1の検査画像の取込と第2の画像キャプチャ装置によるそれぞれの第2の検査画像の取込中に被検査物の各選択された部分の共通視野を共有する対物レンズ(40)を含む1組の光学エレメントを備えることを特徴とする請求項8記載の検査システム。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SG200900229-6 | 2009-01-13 | ||
SG200900229-6A SG163442A1 (en) | 2009-01-13 | 2009-01-13 | System and method for inspecting a wafer |
SG200901109-9 | 2009-02-16 | ||
SG200901109-9A SG164292A1 (en) | 2009-01-13 | 2009-02-16 | System and method for inspecting a wafer |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016140885A Division JP2016183978A (ja) | 2009-01-13 | 2016-07-15 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019049556A JP2019049556A (ja) | 2019-03-28 |
JP6820891B2 true JP6820891B2 (ja) | 2021-01-27 |
Family
ID=42340239
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011545326A Active JP6103171B2 (ja) | 2009-01-13 | 2010-01-13 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
JP2013192270A Pending JP2014016358A (ja) | 2009-01-13 | 2013-09-17 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
JP2016140885A Pending JP2016183978A (ja) | 2009-01-13 | 2016-07-15 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
JP2018179667A Active JP6820891B2 (ja) | 2009-01-13 | 2018-09-26 | ウェーハの検査システム及び方法 |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011545326A Active JP6103171B2 (ja) | 2009-01-13 | 2010-01-13 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
JP2013192270A Pending JP2014016358A (ja) | 2009-01-13 | 2013-09-17 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
JP2016140885A Pending JP2016183978A (ja) | 2009-01-13 | 2016-07-15 | ウェーハを検査するためのシステム及び方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10161881B2 (ja) |
EP (4) | EP2387795A4 (ja) |
JP (4) | JP6103171B2 (ja) |
KR (2) | KR101656045B1 (ja) |
CN (2) | CN101783306B (ja) |
IL (3) | IL213915B (ja) |
MY (1) | MY169618A (ja) |
PH (1) | PH12013000288B1 (ja) |
SG (1) | SG164292A1 (ja) |
TW (2) | TWI575625B (ja) |
WO (1) | WO2010082901A2 (ja) |
Families Citing this family (78)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG177786A1 (en) * | 2010-07-13 | 2012-02-28 | Semiconductor Tech & Instr Inc | System and method for capturing illumination reflected in multiple directions |
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JP6982018B2 (ja) | 2019-02-27 | 2021-12-17 | キヤノンマシナリー株式会社 | 立体形状検出装置、立体形状検出方法、及び立体形状検出プログラム |
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CN110596114B (zh) * | 2019-07-24 | 2024-02-13 | 无锡奥特维科技股份有限公司 | 一种检测装置和硅片分选设备 |
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KR20210024319A (ko) | 2019-08-21 | 2021-03-05 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 검사장치 |
CN110739246A (zh) * | 2019-09-03 | 2020-01-31 | 福建晶安光电有限公司 | 一种晶片翘曲度的测量方法 |
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2009
- 2009-02-16 SG SG200901109-9A patent/SG164292A1/en unknown
-
2010
- 2010-01-13 TW TW099100874A patent/TWI575625B/zh active
- 2010-01-13 US US12/657,068 patent/US10161881B2/en active Active
- 2010-01-13 JP JP2011545326A patent/JP6103171B2/ja active Active
- 2010-01-13 KR KR1020100003272A patent/KR101656045B1/ko active IP Right Grant
- 2010-01-13 MY MYPI2010000166A patent/MY169618A/en unknown
- 2010-01-13 EP EP10731445.2A patent/EP2387795A4/en active Pending
- 2010-01-13 CN CN201010004722.6A patent/CN101783306B/zh active Active
- 2010-01-13 EP EP18189616.8A patent/EP3431968B1/en active Active
- 2010-01-13 TW TW102106188A patent/TWI575626B/zh active
- 2010-01-13 EP EP16207592.3A patent/EP3173773A1/en not_active Withdrawn
- 2010-01-13 EP EP14197439.4A patent/EP2848923A1/en not_active Withdrawn
- 2010-01-13 CN CN201310283291.5A patent/CN103630549B/zh active Active
- 2010-01-13 WO PCT/SG2010/000005 patent/WO2010082901A2/en active Application Filing
-
2011
- 2011-07-04 IL IL213915A patent/IL213915B/en active IP Right Grant
-
2013
- 2013-02-22 KR KR1020130019364A patent/KR101612535B1/ko active IP Right Grant
- 2013-04-24 IL IL225929A patent/IL225929A0/en unknown
- 2013-09-17 JP JP2013192270A patent/JP2014016358A/ja active Pending
- 2013-09-25 US US13/998,046 patent/US20150233840A1/en not_active Abandoned
- 2013-09-25 PH PH12013000288A patent/PH12013000288B1/en unknown
-
2016
- 2016-07-15 JP JP2016140885A patent/JP2016183978A/ja active Pending
-
2018
- 2018-05-23 IL IL259567A patent/IL259567B/en active IP Right Grant
- 2018-08-31 US US16/119,340 patent/US10876975B2/en active Active
- 2018-09-26 JP JP2018179667A patent/JP6820891B2/ja active Active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190822 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |