JP6818514B2 - 表示装置および表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
(1−1.表示装置の構成)
図1に、本発明の一実施形態に係る表示装置10の上面図を示す。図1において、表示装置10は、基板100と、複数の表示素子130を有する表示部103と、周縁部104と、ソースドライバとしての機能を有する駆動回路106と、ゲートドライバとしての機能を有する駆動回路107と、フレキシブルプリント基板108とを有する。表示装置10において、表示部103と、駆動回路106、駆動回路107、およびフレキシブルプリント基板108は、それぞれ電気的に接続される。駆動回路106および駆動回路107は、ASIC(Application Specific Integlated Circuit)等の集積回路で構成される。表示装置10は、フレキシブルプリント基板108を介して外部からの映像信号を入力することにより駆動回路106、駆動回路107が画素102を駆動し、表示部103において静止画および動画を表示することができる。
表示装置10において、封止層161には、第1無機絶縁層162、第1有機絶縁層164、第2有機絶縁層166、第2無機絶縁層168が含まれる。以下に各層について説明する。
以下に、表示装置10のその他の構成について説明する。第1基板100、第2基板101は、ガラス基板又は有機樹脂基板が用いられる。有機樹脂基板には、例えば、ポリイミド基板が用いられる。なお、第1基板100、第2基板101の第2面(断面を見た際の、基板外側の面)にカバーガラス、保護フィルムなどを設けられてもよい。
以下、表示装置10の製造方法について、図3乃至図12を用いて説明する。
以下に、第1実施形態と異なる構造を有する表示装置について説明する。なお、第1実施形態において示した構造、材料、および方法については、その説明を援用する。
本実施形態においては、有機EL表示装置の場合を例示したが、その他の適用例として、液晶表示装置、その他の自発光型表示装置、あるいは電気泳動表示素子等を有する電子ペーパー型表示装置、あらゆるフラットパネル型の表示装置が挙げられる。
Claims (13)
- 表示部を覆う第1無機絶縁層と、
前記第1無機絶縁層上の第1有機絶縁層と、
前記第1有機絶縁層を覆う第2有機絶縁層と、
前記第2有機絶縁層を覆い、前記第1無機絶縁層と接触する領域を有する第2無機絶縁層と、を含み、
前記第1有機絶縁層の端部と前記第2有機絶縁層の端部とは、それぞれテーパー形状を有し、
前記第1有機絶縁層は、前記第1有機絶縁層の前記端部に位置する第1側面と、前記第1有機絶縁層の下層に位置する層と直に接する第1下面と、を有し、
前記第2有機絶縁層は、前記第2有機絶縁層の前記端部に位置する第2側面と、前記第2有機絶縁層の下層に位置する層と直に接する第2下面と、を有し、
前記第2側面と前記第2下面とがなす角は、前記第1側面と前記第1下面とがなす角よりも小さく、
前記第2有機絶縁層は、水または酸素と反応する化合物を含むこと、を特徴とする、表示装置。 - 前記第2有機絶縁層の前記端部は、前記第1有機絶縁層の前記端部よりも外側であること、
を特徴とする、請求項1に記載の表示装置。 - 前記第2有機絶縁層の膜厚は、前記第1有機絶縁層の膜厚よりも小さいこと、
を特徴とする、請求項1または請求項2に記載の表示装置。 - 前記化合物は、フェノールフタレイン、または炭酸ナトリウムであること、
を特徴とする、請求項1に記載の表示装置。 - 前記表示部は、複数の表示素子を有し、
前記表示素子は、発光層を含む有機EL素子であり、
前記第1無機絶縁層、前記第1有機絶縁層、前記第2有機絶縁層、及び前記第2無機絶縁層は、前記複数の表示素子を覆うこと、
を特徴とする、請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の表示装置。 - 前記第1無機絶縁層と接触する前記領域は、前記表示部の外側に位置すると共に、前記第1有機絶縁層の前記端部の前記表示部とは反対の側、且つ前記第2有機絶縁層の前記端部の前記表示部とは反対の側に位置すること、
を特徴とする、請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の表示装置。 - 表示部を覆うように第1無機絶縁層を形成し、
前記第1無機絶縁層上に第1有機材料を用いて第1有機絶縁層をインクジェット法により形成し、
前記第1有機絶縁層上に、前記第1有機絶縁層を覆うように、前記第1有機材料よりも粘性の低い第2有機材料を用いて第2有機絶縁層を真空蒸着法により形成し、
前記第2有機絶縁層を覆うように第2無機絶縁層を形成することを特徴とする、表示装置の製造方法。 - 前記第1有機材料の粘度は、10mPa・s以上50mPa・s未満であって、
前記第2有機材料の粘度は、1mPa・s以上10mPa・s未満であること、
を特徴とする、請求項7に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2有機絶縁層形成時の温度は、前記第1有機絶縁層形成時の温度に比べて高いこと、
を特徴とする、請求項7または請求項8に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2有機絶縁層形成前に、前記第1有機絶縁層は硬化されること、
を特徴とする、請求項7乃至請求項9のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2有機絶縁層形成前に、前記第1有機絶縁層表面にプラズマ処理を行うこと、
を特徴とする、請求項7乃至請求項10のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1有機材料と、前記第2有機材料とは、同一であること、
を特徴とする、請求項7乃至請求項11のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1有機材料と、前記第2有機材料とは、異なること、
を特徴とする、請求項7乃至請求項11のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。
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