JP6783327B2 - 半導体装置および電力変換装置 - Google Patents

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Description

本発明は半導体装置および電力変換装置に関し、特にパワーモジュールとしての半導体装置およびそれを含む電力変換装置に関するものである。
半導体装置のうち特に大電流を扱うパワーモジュールにおいて、従来、そこに含まれるパワー半導体素子の動作を制御するための信号配線にはボンディングワイヤなどの部材が用いられていた。すなわちパワー半導体素子の制御信号パッドと、パワーモジュールの外部と電気的に接続するための制御信号端子とが、ボンディングワイヤなどの配線部材により接合されていた。
輸送機器などの機械的に振動するような環境で使用されるパワーモジュールにおいては、制御信号パッドと制御信号端子とを接合するボンディングワイヤが、振動および熱疲労によって断線し、パワーモジュールの制御が不能となる場合がある。
またパワーモジュールにおいては、制御信号端子がパワー半導体素子の周囲に配置され、制御信号端子がワイヤボンディング法などにより制御信号パッドと接合される。このため、制御信号端子を配置するためのスペース、およびワイヤボンディング時に接合ツールが可動するための領域を確保する必要がある。したがってボンディングワイヤを用いたパワーモジュールは、その平面積が大きくなることにより大型化する問題がある。
このような問題に対処するため、たとえば特開2010−287726号公報(特許文献1)においては、パワー半導体素子の制御信号パッドに、絶縁性ブロックの内部で固定された制御信号端子が、はんだを介して接合される構成が開示されている。かかる構造を適用することにより、制御信号パッドと制御信号端子との熱疲労による破壊が抑制される。また制御信号端子はパワー半導体素子の主表面に交差する厚み方向に沿って延びるため、このような制御信号端子の接合により、当該半導体装置の平面積の増加を抑制することができる。
ただし、特開2010−287726号公報の半導体装置においては、半導体チップがベースリードにはんだ付け接合されており、ベースリードのさらに下方に配置されるべき回路基板と制御信号パッドなどとの位置関係が不明確となっている。一方、回路基板を明確に示したうえで、上記制御信号端子などが明記された、パワーモジュールなどの電力用半導体装置の構成が、たとえば特開2015−41716号公報(特許文献2)および特開平8−125115号公報(特許文献3)に開示されている。
特開2010−287726号公報 特開2015−41716号公報 特開平8−125115号公報
しかしながら、特開2015−41716号公報および特開平8−125115号公報においてはいずれも、制御信号端子がパワー半導体素子と直接接合されていない。つまり上記各公報においては制御信号端子と回路基板との電気的接続は、パワー半導体素子の平面視における外側においてなされる。このためたとえば制御信号端子がパワー半導体素子上に重なるように接合される場合に比べてその平面積がやや大きくなるという問題がある。
本願発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、回路基板を備える電力用半導体装置において、その平面積の増加を抑制することが可能な半導体装置、およびそのような半導体装置を有する電力変換装置を提供することである。
本発明の半導体装置は、回路基板と、パワー半導体素子と、絶縁性ブロックと、制御信号端子と、第1の主端子と、第2の主端子とを備える。パワー半導体素子は回路基板の一方の主表面上に接合される。絶縁性ブロックはパワー半導体素子を囲うように配置され、パワー半導体素子の真上が開口部となっている。制御信号端子は絶縁性ブロック内に挿入されるように絶縁性ブロックに固定され、屈曲部を含み、屈曲部は絶縁性ブロックからパワー半導体素子上に部分的に突出し、パワー半導体素子と接合される。第1の主端子は制御信号端子が接合されたパワー半導体素子と同一のパワー半導体素子に接合される。第2の主端子は回路基板に接合される。
本発明によれば、制御信号端子が第1の主端子と共に同一のパワー半導体素子に直接接合される。このため、たとえば制御信号端子がパワー半導体素子の外側に配置されボンディングワイヤを介してパワー半導体素子と接合される場合に比べて平面視におけるスペースを節約でき、当該半導体装置をより小型化できる。
実施の形態1のパワーモジュールの構成の概略平面図である。 図1中のII−II線に沿う部分の構成の概略断面図である。 実施の形態2の第1例のパワーモジュールの構成を示す、実施の形態1の図2に相当する概略断面図である。 実施の形態2の第2例のパワーモジュールの構成を示す、実施の形態1の図2に相当する概略断面図である。 実施の形態3のパワーモジュールの構成を示す、実施の形態1の図2に相当する概略断面図である。 実施の形態4に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
実施の形態1.
まず本実施の形態の半導体装置の構成として、パワーモジュールの構成について図1および図2を用いて説明する。図1は実施の形態1のパワーモジュールの構成を概略的に示す上面図である。図2は実施の形態1のパワーモジュールの構成を概略的に示す断面図である。
図1および図2を参照して、本実施の形態の半導体装置としてのパワーモジュール101は、回路基板1と、パワー半導体素子3と、絶縁性ブロック5と、制御信号端子7と、主端子9とを主に有している。
回路基板1は、パワーモジュール101全体の土台としての平板状の部材である。回路基板1は、絶縁部材1aと、回路パターン1bと、金属層1cとを有している。
絶縁部材1aは、たとえばセラミックスの平板状基板であり、平面視においてたとえば矩形状を有している。当該セラミックスの材料としては、たとえばアルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素からなる群から選択されるいずれかが用いられることが好ましいがこれらに限られない。また絶縁部材1aはセラミックスの材料により形成される必要はなく、絶縁部材1aはたとえばセラミックスフィラーを充填した有機材料により形成されてもよい。このような有機材料としては、たとえばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート系樹脂からなる群から選択されるいずれかが用いられることが好ましい。またここで用いられるセラミックスフィラーとしては、たとえばアルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素からなる群から選択されるいずれかが用いられることが好ましい。
回路パターン1bは、絶縁部材1aの図2における上側(パワー半導体素子3側)の主表面上の少なくとも一部を覆うように形成されている。回路パターン1bは1つまたは複数の、たとえば平面視において矩形状のパターンであることが好ましい。また金属層1cは、絶縁部材1aの図2における下側(パワー半導体素子3と反対側)の主表面上の少なくとも一部を覆うように形成されている。金属層1cは1つまたは複数の、たとえば平面視において矩形状のパターンであることが好ましい。
回路パターン1bおよび金属層1cは、たとえば銅の薄膜により形成されているが、回路パターン1bおよび金属層1cを構成する材料はこれに限られない。回路パターン1bおよび金属層1cを構成する材料は、絶縁部材1aと直接接合法または活性金属接合法により接合することが可能な任意の材料とすることができる。具体的には、回路パターン1bおよび金属層1cに用いられる材料は、高い電気伝導性を有する材料であることが好ましい。なおここで直接接合法とは、絶縁部材1aおよび回路パターン1bを、または絶縁部材1aおよび金属層1cを、直接反応により接合する方法である。またここで活性金属接合法とは、絶縁部材1aおよび回路パターン1bを、または絶縁部材1aおよび金属層1cを、チタンまたはジルコニウムなどの活性金属を添加したロウ材により接合する方法である。
パワー半導体素子3は、たとえば平面視において矩形状の半導体チップとして形成されている。パワー半導体素子3は、たとえばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、FWD(Free Wheel Diode)、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)などにより構成されることが好ましい。ただしパワー半導体素子3の種類は上記各種に限られるものではない。図1および図2においてはパワー半導体素子3は互いに間隔をあけて2つのパワー半導体素子3a,3bとして形成されているが、その数はこれに限られるものではない。パワー半導体素子3、すなわち2つのパワー半導体素子3a,3bは、回路基板1の一方の主表面すなわち図2の上側(パワー半導体素子3側)の主表面上の少なくとも一部の上に接合されている。具体的には、パワー半導体素子3aは、回路基板1の回路パターン1bの上側の主表面上の一部に、素子接合材3agを介して接合されている。同様に、パワー半導体素子3bは、回路基板1の回路パターン1bの上側の主表面上の一部に、素子接合材3bgを介して接合されている。
素子接合材3ag,3bgは、パワー半導体素子3a,3bの図示しない裏面電極と回路パターン1bとの間に設けられており、これにより、パワー半導体素子3a,3bの裏面電極と回路パターン1bとが接合されている。素子接合材3ag,3bgとしては、たとえば鉛およびスズを含有する高温用はんだが用いられることが好ましい。ただし、素子接合材3ag,3bgに用いられる材料はこれに限定されるものではない。具体的には、素子接合材3ag,3bgに用いられる材料として、たとえば銀ナノ粒子ペースト、または銀粒子およびエポキシ樹脂を含む導電性接着材を用いることもできる。
パワー半導体素子3aの一方すなわち上側の主表面上には、制御信号パッド3pおよび、主電極パッド3apが形成されている。パワー半導体素子3bの一方すなわち上側の主表面上には、主電極パッド3bpが形成されている。ただしパワー半導体素子3a,3bの主表面上に形成されるパッドの種類はこれらに限られるものではない。パワー半導体素子3a,3bの表面上には制御信号パッド3pおよび主電極パッド3ap,3bpの双方が形成されてもよいが、制御信号パッド3pおよび主電極パッド3ap,3bpのいずれか一方のみが形成されてもよい。たとえば図2のパワー半導体素子3a上には制御信号パッド3pと主電極パッド3apとの双方が形成されているが、図2のパワー半導体素子3b上には主電極パッド3bpのみ形成されている。なお図1の平面図においては制御信号パッド3pが互いに間隔をあけて3つ形成されているが、制御信号パッド3pの数はこれに限られない。
制御信号パッド3pおよび主電極パッド3ap,3bpとしては、良好な電気的特性および機械的特性を保つ観点から、アルミニウム、銅、銀、ニッケル、金からなる群から選択されるいずれか1種、あるいはいずれか2種以上の合金が用いられることが好ましい。
絶縁性ブロック5は、図1の平面視においてパワー半導体素子3を囲うように配置されており、たとえばパワー半導体素子3を矩形状に囲うように形成されている。具体的には、絶縁性ブロック5は、パワー半導体素子3a,3bの真上において開口部5cを有するように形成されている。すなわち絶縁性ブロック5は、図1の平面視におけるパワー半導体素子3の周囲に配置されているが、パワー半導体素子3の真上には配置されていない。絶縁性ブロック5は、たとえば図2等に示されない接着材により、回路パターン1bの上側の主表面上の平面視における比較的外側の領域に接合されている。このため回路パターン1bの上側の主表面と、矩形の枠状の絶縁性ブロック5とにより筐体が形成されており、パワー半導体素子3などは当該筐体内に収納された態様となっている。しかし絶縁性ブロック5の構成はこれに限られるものではない。たとえば、絶縁性ブロック5が後述の冷却器13の表面上に接合されていてもよい。
絶縁性ブロック5としては、射出成形可能で耐熱性の高い絶縁性の材料が用いられることが好ましい。具体的には、絶縁性ブロック5は、たとえばポリフェニレンサルファイド、ポリブチレンテレフタラート、液晶樹脂、フッ素系樹脂からなる群から選択されるいずれかからなることが好ましい。絶縁性ブロック5、回路パターン1bともに、パワーモジュール101の全体の筐体を構成する。
制御信号端子7は、図2に示すように、絶縁性ブロック5内に挿入されている。これにより制御信号端子7は、絶縁性ブロック5に固定されている。制御信号端子7は、図2の水平方向すなわち左右方向に延びる部分と、図2の鉛直方向すなわち上下方向に延びる部分とを有している。そして制御信号端子7は、上記水平方向に延びる部分と上記鉛直方向に延びる部分との境界において屈曲部7tを有している。制御信号端子7は、屈曲部7tよりも水平方向に延びる部分側が部分的に絶縁性ブロック5内から突出している。また異なる観点から言えば、屈曲部7tは絶縁性ブロック5からパワー半導体素子3上に部分的に突出している。このようにして絶縁性ブロック5内から突出された制御信号端子7の部分は、パワー半導体素子3aと接合されている。具体的には、たとえばパワー半導体素子3aの一方の主表面上の制御信号パッド3p上には、制御端子接合材7gを介して、制御信号端子7が接合されている。すなわち制御信号端子7は、制御信号パッド3pと、接合材としての制御端子接合材7gを介して接合されている。また制御信号端子7は、その鉛直方向に延びる部分の先端側が部分的に絶縁性ブロック5から露出している。
制御信号端子7は、図1の平面図においては、制御信号パッド3pよりも、図1の上下方向の幅が狭くなる態様となっている。しかしこのような態様に限られず、たとえば制御信号端子7の図1の上下方向の幅が制御信号パッド3pの当該幅と同じであってもよく、制御信号端子7の方が制御信号パッド3pよりも当該幅が広くてもよい。また図1の平面図においては制御信号端子7が互いに間隔をあけて3本形成されているが、制御信号端子7の数はこれに限られない。
次に、主端子9としては、第1の主端子9aと、第2の主端子9bとを有している。第1の主端子9aは、その下側の面上の第1の主端子接合材9agおよび第2の主端子接合材9bgを介して、パワー半導体素子3a,3bの上側主表面上の主電極パッド3ap,3bpのそれぞれと接合されている。すなわち第1の主端子9aは、制御信号端子7が接合されたパワー半導体素子3aと同一のパワー半導体素子3aに接合されている。また第1の主端子9aは、第2の主端子接合材9bgを介して、パワー半導体素子3bにも接合されている。すなわち第1の主端子9aは、パワー半導体素子3aの主電極パッド3ap、およびパワー半導体素子3bの主電極パッド3bpの双方に、接合されている。
第1の主端子9aも、たとえば制御信号端子7と同様に、図2の水平方向すなわち左右方向に延びる部分と、図2の鉛直方向すなわち上下方向に延びる部分とを有している。そして第1の主端子9aは、上記水平方向に延びる部分と上記鉛直方向に延びる部分との境界において屈曲部を有している。そして屈曲部よりも水平方向に延びる領域側が、パワー半導体素子3aの主電極パッド3apと、パワー半導体素子3bの主電極パッド3bpとの双方を跨ぐように接合されている。このため第1の主端子9aは、第2の主端子9bおよび制御信号端子7に比べて、その水平方向に沿って延びる部分が長くなっている。なお図2においては、パワー半導体素子3b側に屈曲部を有するように第1の主端子9aが接合されているがこれに限らず、たとえばパワー半導体素子3a側に屈曲部を有するように第1の主端子9aが接合されてもよい。
以上を言い換えれば、2つのパワー半導体素子3のうちの一方であるパワー半導体素子3aは制御信号端子7および第1の主端子9aの双方と接合されているのに対し、他方であるパワー半導体素子3bは第1の主端子9aのみと接合されている。
一方、第2の主端子9bは、回路パターン1bの上側の主表面上の一部に、第3の主端子接合材9cgを介して、接合されている。第2の主端子9bは、制御信号端子7と同様に、絶縁性ブロック5内に挿入されており、これにより絶縁性ブロック5に固定されている。第2の主端子9bは、図2の水平方向すなわち左右方向に延びる部分と、図2の鉛直方向すなわち上下方向に延びる部分とを有している。そして第2の主端子9bは、上記水平方向に延びる部分と上記鉛直方向に延びる部分との境界において屈曲部を有している。第2の主端子9bは、屈曲部よりも水平方向に延びる部分側が部分的に絶縁性ブロック5内から突出している。このようにして絶縁性ブロック5内から突出された制御信号端子7の部分は、第3の主端子接合材9cgを介して、回路パターン1bに接合されている。また第2の主端子9bは、その鉛直方向に延びる部分の先端側が部分的に絶縁性ブロック5から露出している。
制御信号端子7および第1の主端子9a、第2の主端子9bは、電気伝導性が良い材料により形成されることが好ましく、たとえば銅、アルミニウム、またはこれらのうち少なくとも一方を含む合金が用いられることが好ましい。ただし制御信号端子7および第1の主端子9a、第2の主端子9bに用いられる材料はこれらに限られない。
また制御端子接合材7g、第1の主端子接合材9ag、第2の主端子接合材9bgおよび第3の主端子接合材9cgとしては、たとえば鉛およびスズを含有する高温用はんだが用いられることが好ましい。ただし、制御端子接合材7g、第1の主端子接合材9ag、第2の主端子接合材9bgおよび第3の主端子接合材9cgに用いられる材料はこれに限定されるものではない。具体的には、制御端子接合材7g、第1の主端子接合材9ag、第2の主端子接合材9bgおよび第3の主端子接合材9cgに用いられる材料として、たとえば銀ナノ粒子ペースト、または銀粒子およびエポキシ樹脂を含む導電性接着材を用いることもできる。
その他、図1の平面図に示すように、第1の主端子9aおよび第2の主端子9bは板状の配線部材で構成されている。しかし第1の主端子9aおよび第2の主端子9bの形状はこれに限られるものではない。
第1の主端子9aおよび第2の主端子9bは、たとえばアルミニウムの合金ワイヤにより、パワー半導体素子3a,3bなどに接続されてもよい。その場合は、第1の主端子接合材9ag、第2の主端子接合材9bgおよび第3の主端子接合材9cgが主電極パッド3ap,3bp上および回路パターン1b上に設けられなくてもよい。また図1および図2においては第2の主端子9bは絶縁性ブロック5に挿入されるように固定されているが、本実施の形態においてはそのような構成に限られない。
以上に述べた回路パターン1b、パワー半導体素子3、制御信号端子7の水平方向に延びる部分、第1の主端子9aおよび第2の主端子9bの水平方向に延びる部分などは、封止樹脂11により封止されている。言い換えれば、封止樹脂11は、絶縁性ブロック5と回路パターン1bとにより構成される筐体の内部を充填するように配置されている。これにより、絶縁性ブロック5内に挿入されそこから突出した制御信号端子7および第2の主端子9bが水平方向に延びる部分、および第1の主端子9aの水平方向に延びる部分はその表面が封止樹脂11に覆われる態様となっている。第1の主端子9aの鉛直方向に延びる部分の一部すなわち屈曲部に比較的近い領域についても同様である。
一方、たとえば第1の主端子9aの鉛直方向に延びる部分の他の一部すなわち屈曲部から離れた先端側の領域については、封止樹脂11から露出している。また制御信号端子7および第2の主端子9bの鉛直方向に延びる部分の先端側の、絶縁性ブロック5から露出した部分についても同様に、封止樹脂11から露出している。
封止樹脂11は、たとえばシリコン樹脂により形成されるが、これに限られない。封止樹脂11としてはたとえばウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ゴム材からなる群から選択されるいずれか1つ以上を用いることができる。封止樹脂11は複数の樹脂材料の組み合わせにより構成されてもよく、たとえばゲル状のシリコン樹脂の上にエポキシ樹脂を重ねることにより構成されてもよい。
なお図2においては、封止樹脂11は絶縁性ブロック5と回路パターン1bとにより構成される筐体の内部を充填するように配置されているが、これに限定されない。たとえば封止樹脂11は上記筐体の内部のみならずその外部まで拡がるように配置されていてもよい。その場合、後述の冷却器13等に図示しないケース等を設け、封止樹脂11を充填する必要がある。
パワーモジュール101においては、回路基板1の特に金属層1cの下側の主表面上に、金属層接合材1gを介して、冷却器13が接合されている。ただし絶縁部材1aがセラミックスフィラーを充填した有機材料により形成され、かかるセラミックスフィラーがアルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素からなる群から選択されるいずれかが用いられる場合には、金属層1cおよび金属層接合材1gは不要である。つまりこの場合は冷却器13上に直接絶縁部材1aが設置されればよい。
冷却器13は、パワーモジュール101の動作中に発生する熱を外部へ放熱する。そのため冷却器13は、熱伝導性の良い材料により構成されていることが好ましい。具体的には、冷却器13の構成材料としては、たとえばアルミニウム、銅のいずれかを主たる成分とする合金、または炭化珪素とアルミニウムとの複合材(Al−SiC)が用いられる。ただし冷却器13に用いられる材料はこれらに限定されない。また図示されないが、冷却器13には熱交換を促進するための冷媒の流路が形成されていることが好ましい。
金属層接合材1gとしては、たとえば鉛およびスズを含有する高温用はんだが用いられることが好ましい。ただし、金属層接合材1gに用いられる材料はこれに限定されるものではない。具体的には、金属層接合材1gに用いられる材料として、たとえば銀ナノ粒子ペースト、または銀粒子およびエポキシ樹脂を含む導電性接着材を用いることもできる。
次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態においては、制御信号端子7が、第1の主端子9aが接合されるパワー半導体素子3aと部分的に重なるように配置され、制御信号端子7がパワー半導体素子3aに直接、制御端子接合材7gを介して接合されている。このため、たとえば制御信号端子7がパワー半導体素子3aの平面視における外側に配置され、制御信号端子7とパワー半導体素子3aとがボンディングワイヤを介して接合される場合に比べて、スペースを節約することができる。具体的には、ここで節約できるスペースとは、制御信号端子7が仮にパワー半導体素子3aの外側のたとえば回路基板1上に直接接合される場合に生じるスペース、および制御信号端子7とパワー半導体素子3aとをワイヤボンディングするために要するスペースの総和である。したがって、本実施の形態によれば、パワーモジュール101をより小型化することができる。また制御信号端子7とパワー半導体素子3aとの接続にボンディングワイヤを用いた場合に生じ得る、振動および熱疲労に起因する断線を抑制することができる。
またパワーモジュール101においては、制御信号端子7が絶縁性ブロック5内に挿入されるように固定されている。そして制御信号端子7は、屈曲部を含むことにより水平方向に延び絶縁性ブロック5から部分的に突出した部分が、制御端子接合材7gを介して制御信号パッド3pと接合されている。制御信号端子7は水平方向に延びる部分を有することにより、その先端部を制御信号パッド3pの真上に配置させることができるためである。これにより上記のように、制御信号端子7とパワー半導体素子3aとは制御端子接合材7gを介して接合されている。このため上記のように、制御信号端子7とパワー半導体素子3aとの接続にボンディングワイヤを用いた場合に生じ得る、振動および熱疲労に起因する断線を抑制することができるとともに、ワイヤボンディングなどのスペース節約により大型化を抑制することができる。
その他、本実施の形態においては、以下のような作用効果も有する。たとえば絶縁性ブロック5が開口部5cを有さず、パワー半導体素子3の真上が絶縁性ブロック5に覆われた状態にあれば、制御信号パッド3pと制御信号端子7との接合部をパワーモジュール101の外部から観察することができない。したがって、制御信号パッド3pと制御信号端子7との接合部の出来栄えを外部から視認により評価することが困難である。制御信号パッド3pと制御信号端子7とがはんだなどの接合材により接合される場合、両者間の接合位置のずれにより、両者の接合される領域の面積が十分でなく、不良品となる場合がある。この場合に、仮に制御信号パッド3pと制御信号端子7との接合状態を外観により評価することができなければ、その接合位置のずれにより接合状態が不良である場合においても製品として出荷されるおそれがある。これを防ぐためには、非破壊検査及び電気特性試験により制御信号パッド3pと制御信号端子7との接合状態を調べる必要が生じ、製造コストが増大する問題がある。
そこで本実施の形態においては、絶縁性ブロック5は、パワー半導体素子3を囲むように配置され、パワー半導体素子3の真上が絶縁性ブロック5に覆われず封止樹脂11に封止された構成となっている。このため制御信号パッド3pと制御信号端子7との接合部の出来栄えを外部から視認することができ、上記のような非破壊検査及び電気特性試験を行なうことによるパワーモジュール101の製造コストの増大を抑制することがでる。
さらにその他の本実施の形態の作用効果は以下のとおりである。本実施の形態のパワーモジュール101においては、第2の主端子9bが回路基板1の回路パターン1bに、第3の主端子接合材9cgにより接合されている。このため、たとえば第2の主端子9bが回路基板1とボンディングワイヤを介して接合される場合に生じ得る、振動および熱疲労に起因する断線を抑制することができる。
実施の形態2.
図3は実施の形態2の第1例のパワーモジュールの構成を概略的に示す断面図である。図3を参照して、本実施の形態の第1例の半導体装置としてのパワーモジュール201は、基本的に実施の形態1のパワーモジュール101と同様の構成を有するため、同一の構成要素には同一の符号を付しその説明を繰り返さない。ただし本実施の形態のパワーモジュール201は、制御端子接合材7gを有さず、制御信号端子7が制御信号パッド3pの表面に直接接合されている点において、パワーモジュール101と構成上異なっている。またパワーモジュール201においては、制御信号端子7が水平方向に延びる部分のうち絶縁性ブロック5から突出した部分において、その表面の一部、特に上面の一部に凹部cc1が形成されている。
パワーモジュール201においては、制御信号端子7は制御信号パッド3pに、超音波接合法によって接合されている。一般的に、超音波接合時には制御信号端子7などの配線部材の上方から接合ツールを押圧しながら当該制御信号端子7に対して超音波振動を印加することで、制御信号端子7と制御信号パッド3pとが接合される。このため、その超音波振動を印加する処理の際に、制御信号端子7の水平部分の上面には、接合ツールによる圧痕が形成される。これにより、制御信号端子7の上面上には凹部cc1が形成される。
図3のパワーモジュール201においては、上記のように制御信号端子7の水平部分の上面上に凹部cc1が形成されるが、このような態様に限られない。図4は実施の形態2の第2例のパワーモジュールの構成を概略的に示す断面図である。図4を参照して、本実施の形態の第2例の半導体装置としてのパワーモジュール202は、基本的にパワーモジュール201と同様の構成であるが、制御信号端子7の水平部分の上面に凹部cc1が形成されておらず、当該上面が平坦面となっている。
可能であれば、図4のパワーモジュール202のように、制御信号端子7の水平部分の上面に凹部cc1を形成することなく、制御信号端子7と制御信号パッド3pとが超音波接合法により直接接合されてもよい。なおこの場合においても、たとえば実製品の封止樹脂11を分解して露出する当該接合部分を外側から視認することにより、制御信号端子7と制御信号パッド3pとが超音波接合法により直接接合されていることを容易に判断できる。
次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態のパワーモジュール201,202においては、制御信号端子7が制御信号パッド3pの表面に、超音波接合法により直接接合されている。このため実施の形態1のパワーモジュール101のように制御信号端子7が制御信号パッド3pと、制御端子接合材7gを介して接合される場合に比べて、制御信号端子7と制御信号パッド3pとの接合部の強度を高くすることができる。このため制御信号端子7と制御信号パッド3pとの接合部の信頼性をより高くすることができる。
実施の形態3.
図5は実施の形態3のパワーモジュールの構成を概略的に示す断面図である。図5を参照して、本実施の形態の半導体装置としてのパワーモジュール301は、基本的に実施の形態1のパワーモジュール101と同様の構成を有するため、同一の構成要素には同一の符号を付しその説明を繰り返さない。ただし本実施の形態のパワーモジュール301は、制御信号端子7が水平方向に延びる部分のうち絶縁性ブロック5から突出した部分において、その表面の一部、特に下面(回路基板1側の表面)の一部に凹部cc2が形成されている。このため制御信号端子7の水平方向に延びる部分と制御信号パッド3pとの間に挟まれる制御端子接合材7gは、その一部が凹部cc2に嵌まり込むように配置される。つまりパワーモジュール301において制御端子接合材7gは、その一部の表面が凹部cc2の内壁面に接触するように嵌まり込んでいる。
凹部cc2の寸法は、制御信号端子7、制御信号パッド3pおよび制御端子接合材7gの寸法に応じて任意に定められ、たとえば平面視において縦方向の寸法300μm×横方向の寸法400μm程度とすることが好ましい。言い換えれば凹部cc2は、縦方向、横方向ともに300μm以上400μm以下程度であることが好ましい。
なお凹部cc2は凹部cc1と異なり、超音波接合工程により形成されたものではなく、制御信号端子7と制御信号パッド3pとを接合する工程を行なう前に予め形成されるものである。
次に、本実施の形態の作用効果について説明する。
本実施の形態のパワーモジュール301においては、制御信号端子7が凹部cc2と制御端子接合材7gとにより位置決めされる。制御端子接合材7gの一部の表面が凹部cc2の内壁面に接触するように嵌まり込み、制御端子接合材7gの凹部cc2に対する位置が決定されるためである。このため制御信号端子7と制御信号パッド3pとの接合位置のばらつきを抑制することができる。
実施の形態4.
本実施の形態は、上述した実施の形態1〜3にかかる半導体装置を電力変換装置に適用したものである。本発明は特定の電力変換装置に限定されるものではないが、以下、実施の形態4として、三相のインバータに本発明を適用した場合について説明する。
図6は、本実施の形態にかかる電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
図6に示す電力変換システムは、電源1000、電力変換装置2000、負荷3000から構成される。電源1000は、直流電源であり、電力変換装置2000に直流電力を供給する。電源1000は種々のもので構成することが可能であり、例えば、直流系統、太陽電池、蓄電池で構成することができるし、交流系統に接続された整流回路やAC/DCコンバータで構成することとしてもよい。また、電源1000を、直流系統から出力される直流電力を所定の電力に変換するDC/DCコンバータによって構成することとしてもよい。
電力変換装置2000は、電源1000と負荷3000の間に接続された三相のインバータであり、電源1000から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷3000に交流電力を供給する。電力変換装置2000は、図6に示すように、入力される直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路2010と、主変換回路2010を制御する制御信号を主変換回路2010に出力する制御回路2030とを備えている。
負荷3000は、電力変換装置2000から供給された交流電力によって駆動される三相の電動機である。なお、負荷3000は特定の用途に限られるものではなく、各種電気機器に搭載された電動機であり、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車、鉄道車両、エレベーター、もしくは、空調機器向けの電動機として用いられる。
以下、電力変換装置2000の詳細を説明する。主変換回路2010は、スイッチング素子と還流ダイオードを備えており(図示せず)、スイッチング素子がスイッチングすることによって、電源1000から供給される直流電力を交流電力に変換し、負荷3000に供給する。主変換回路2010の具体的な回路構成は種々のものがあるが、本実施の形態にかかる主変換回路2010は2レベルの三相フルブリッジ回路であり、6つのスイッチング素子とそれぞれのスイッチング素子に逆並列された6つの還流ダイオードから構成することができる。主変換回路2010の各スイッチング素子および各還流ダイオードの少なくともいずれかを、上述した実施の形態1〜3のいずれかのパワーモジュール101,201,202,301に相当する半導体モジュール2020によって構成する。6つのスイッチング素子は2つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成し、各上下アームはフルブリッジ回路の各相(U相、V相、W相)を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路2010の3つの出力端子は、負荷3000に接続される。
また、主変換回路2010は、上記の各スイッチング素子および各還流ダイオードの少なくともいずれか(以下「(各)スイッチング素子」と記載)を駆動する駆動回路(図示なし)を備えている。しかし駆動回路は半導体モジュール2020に内蔵されていてもよいし、半導体モジュール2020とは別に駆動回路を備える構成であってもよい。駆動回路は、主変換回路2010のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路2010のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、後述する制御回路2030からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号(オン信号)となり、スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号(オフ信号)となる。
制御回路2030は、負荷3000に所望の電力が供給されるよう主変換回路2010のスイッチング素子を制御する。具体的には、負荷3000に供給すべき電力に基づいて主変換回路2010の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間(オン時間)を算出する。例えば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するPWM制御によって主変換回路2010を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号を、オフ状態となるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるよう、主変換回路2010が備える駆動回路に制御指令(制御信号)を出力する。駆動回路は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号又はオフ信号を駆動信号として出力する。
本実施の形態に係る電力変換装置では、主変換回路2010のスイッチング素子と還流ダイオードとして実施の形態1〜3にかかるパワーモジュールを適用するため、電力変換装置の小型化、振動および熱疲労に起因する断線の抑制などを実現することができる。
本実施の形態では、2レベルの三相インバータに本発明を適用する例を説明したが、本発明は、これに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では、2レベルの電力変換装置としたが3レベルやマルチレベルの電力変換装置であっても構わないし、単相負荷に電力を供給する場合には単相のインバータに本発明を適用しても構わない。また、直流負荷等に電力を供給する場合にはDC/DCコンバータやAC/DCコンバータに本発明を適用することも可能である。
また、本発明を適用した電力変換装置は、上述した負荷が電動機の場合に限定されるものではなく、例えば、放電加工機やレーザー加工機、又は誘導加熱調理器や非接触器給電システムの電源装置として用いることもでき、さらには太陽光発電システムや蓄電システム等のパワーコンディショナーとして用いることも可能である。
以上に述べた各実施の形態(に含まれる各例)に記載した特徴を、技術的に矛盾のない範囲で適宜組み合わせるように適用してもよい。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 回路基板、1a 絶縁部材、1b 回路パターン、1c 金属層、1g 金属層接合材、3,3a,3b パワー半導体素子、3ag,3bg 素子接合材、3ap,3bp 主電極パッド、3p 制御信号パッド、5 絶縁性ブロック、5c 開口部、7 制御信号端子、7g 制御端子接合材、7t 屈曲部、9 主端子、9a 第1の主端子、9ag 第1の主端子接合材、9b 第2の主端子、9bg 第2の主端子接合材、9cg 第3の主端子接合材、11 封止樹脂、13 冷却器、101,201,202,301 パワーモジュール、1000 電源、2000 電力変換装置、2010 主変換回路、2030 制御回路、3000 負荷、cc1,cc2 凹部。

Claims (5)

  1. 回路基板と、
    前記回路基板の一方の主表面上に接合されたパワー半導体素子と、
    前記パワー半導体素子を囲うように配置され、前記パワー半導体素子の真上が開口部となっている絶縁性ブロックと、
    前記絶縁性ブロック内に挿入されるように前記絶縁性ブロックに固定され、屈曲部を含み、前記屈曲部は前記絶縁性ブロックから前記パワー半導体素子上に部分的に突出し、前記パワー半導体素子と接合された制御信号端子と、
    前記制御信号端子が接合された前記パワー半導体素子と同一の前記パワー半導体素子に接合された第1の主端子と、
    前記回路基板に接合された第2の主端子とを備える、半導体装置。
  2. 前記パワー半導体素子の一方の主表面上には制御信号パッドが形成され、
    前記制御信号端子は、前記制御信号パッドと、接合材を介して接合される、請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記パワー半導体素子の一方の主表面上には制御信号パッドが形成され、
    前記制御信号端子は、前記制御信号パッドの表面に直接接合される、請求項1に記載の半導体装置。
  4. 前記制御信号端子の前記回路基板側の表面の一部に凹部が形成されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置を有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
    前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路と備えた電力変換装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220181221A1 (en) * 2019-06-03 2022-06-09 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor module and power converter
EP3761357A1 (en) * 2019-07-04 2021-01-06 Infineon Technologies Austria AG Semiconductor device
JP2021158304A (ja) * 2020-03-30 2021-10-07 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US11439039B2 (en) * 2020-12-07 2022-09-06 Hamilton Sundstrand Corporation Thermal management of electronic devices on a cold plate
DE102021212895A1 (de) 2021-11-17 2022-09-22 Vitesco Technologies Germany Gmbh Leistungselektronikanordnung und Verfahren zum Herstellen einer Leistungselektronikanordnung
WO2023175854A1 (ja) * 2022-03-17 2023-09-21 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置および半導体装置の製造方法
DE102022207429A1 (de) 2022-07-21 2024-02-01 Zf Friedrichshafen Ag Entwärmungseinrichtung für einen Stromrichter für ein Fahrzeug, Stromrichter, elektrischer Achsantrieb, Fahrzeug und Verfahren zum Herstellen einer Entwärmungseinrichtung
WO2024075463A1 (ja) * 2022-10-07 2024-04-11 住友電気工業株式会社 半導体装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08125115A (ja) * 1994-10-21 1996-05-17 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
JP3507714B2 (ja) * 1998-12-07 2004-03-15 株式会社東芝 マルチチップモジュール型半導体装置
JP2002217416A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Hitachi Ltd 半導体装置
JP4459883B2 (ja) * 2005-04-28 2010-04-28 三菱電機株式会社 半導体装置
JP4988665B2 (ja) * 2008-08-06 2012-08-01 日立オートモティブシステムズ株式会社 半導体装置および半導体装置を用いた電力変換装置
JP5233853B2 (ja) * 2009-06-11 2013-07-10 富士電機株式会社 半導体装置
EP2628173A2 (en) * 2010-10-13 2013-08-21 ABB Research Ltd. Semiconductor module and method of manufacturing a semiconductor module
JP6119313B2 (ja) * 2013-03-08 2017-04-26 富士電機株式会社 半導体装置
JP6004094B2 (ja) * 2013-04-24 2016-10-05 富士電機株式会社 パワー半導体モジュールおよびその製造方法、電力変換器
JP6139330B2 (ja) * 2013-08-23 2017-05-31 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP6304974B2 (ja) * 2013-08-27 2018-04-04 三菱電機株式会社 半導体装置
CN106663639B (zh) * 2014-08-28 2019-10-15 三菱电机株式会社 半导体装置
JP6287789B2 (ja) * 2014-12-03 2018-03-07 三菱電機株式会社 パワーモジュール及びその製造方法
US10181445B2 (en) * 2014-12-29 2019-01-15 Mitsubishi Electric Corporation Power module
JP6365768B2 (ja) * 2015-04-10 2018-08-01 富士電機株式会社 半導体装置

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