JP6769532B2 - 熱処理装置 - Google Patents
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Description
金属板を誘導加熱により加熱する誘導加熱コイルと、
金属板を光加熱する光源と
を備え、
前記誘導加熱コイルは、その内部に金属板を設置可能な加熱空間を有しており、
前記光源は、光を出射する発光部を有しており、
前記発光部は、前記誘導加熱コイルの内部に設置されていることを特徴とする。
前記発光部は一方向に長尺な光出射面を備えており、
前記発光部は、前記発光部の長尺方向と前記誘導加熱コイルの軸方向とが同一方向となるように配置されていることが好ましい。
前記光源は、前記発光部の端部に封止部を有しており、
前記封止部は、前記誘導加熱コイルの外部に配置されていることが好ましい。
誘導加熱による差厚鋼板20(以下、単に「鋼板20」ともいう)の加熱を開始する工程Aと、
前記工程Aの後、鋼板20の一番温度の低い箇所Xの温度Yが、キュリー温度を基準とした特定値Zとなるまで、前記誘導加熱による鋼板20の加熱を行う工程Bと、
前記温度Yが前記特定値Zとなった後に、光加熱による鋼板20の加熱を開始する工程Cとを少なくとも備える。
なお、金属板がキュリー温度に達しているかどうかの判断は、対象となる金属板を誘導加熱のみで加熱させ、温度が飽和するまでの加熱時間や飽和温度から導くことができる。
また金属板の箇所Xの温度Yが、キュリー温度を基準とした特定値Zに達しているかどうかの判断は、例えば、対象となる金属板に対して誘導加熱を開始してから各領域の加熱温度が飽和するまでの加熱時間と温度の関係を求めておき、加熱時間の管理によって行うことができる。この際の温度計測は、接触温度計(熱電対や、それ以外の接触式の温度計)や、非接触式の温度計(例えば、放射温度計、ファイバ方式の放射温度計、パイロメータ、多色温度計等)を用いることができる。いずれも誘導加熱による温度の飽和から、キュリー温度を見積もることができる。また当然ながら、接触式温度計の測定結果と非接触式温度計の測定結果を踏まえて、それぞれの測定結果の相関関係から温度を導くことも可能である。
また、前記工程Bの間、誘導加熱と並行して工程Bの一部の期間の間、誘導加熱とは別の加熱(例えば、光加熱)を行ってもよい。前記別の加熱は、加熱をアシストすることを目的とするものである。ただし、前記別の加熱を行う場合は、温度Yが特定値Zに到達する前に終了する。温度Yが特定値Zに到達した後も前記別の加熱を継続して行うと、キュリー温度付近での温度ムラ抑制効果を得ることができなくなるからである。
なお、前記工程Bの間、サーモビュア用いて、前記箇所Xの温度Yをモニタリングしてもよい。具体的には、予め温度校正を行っておき、サーモビュアで観測される温度分布のうち、ある特定の部分の値を前記箇所Xの温度Yとしてモニタリングしてもよい。
本実施形態では、鋼板20の一番温度の低い箇所Xは、図2Bに示すように、磁束密度が低くなる誘導加熱コイルのコイル軸方向の末端部領域に位置し、矩形板状部22の左端部である。
なお、工程Cでいう「加熱の開始」は、温度Yが前記特定値Zとなった後に、初めて行う光加熱の開始をいう。例えば、工程Bの間に、誘導加熱と並行して光加熱を行う場合、この光加熱は、工程Bが終了するまでに(温度Yが前記特定値Zに到達するまでに)終了する。従って、仮に、工程Bの間に、誘導加熱と並行して光加熱を行った場合であっても、温度Yが前記特定値Zとなった後の初めての光加熱は、工程Cの「加熱の開始」に該当する。つまり、工程Cの「加熱の開始」は、工程Bが終了する前に終了した光加熱を、再開する場合を含む。
また、工程Cでの光加熱は、金属板全体の光加熱である。従って、金属板の一部分のみを光加熱することは、工程Cでいう光加熱に該当しない。
制御部16は、例えば、少なくともCPU及びメモリーを備え、CPUがメモリーに格納されているプログラムを読み出して実行することにより、上記制御を行う。
例えば、前記工程Aから所定期間経過した後に、光加熱による前記金属板の加熱を開始することとしてもよい。同じ材質及び形状の鋼板20をライン等で加熱する場合、誘導加熱の条件が同じである限り、各誘導加熱の工程において、誘導加熱を開始してから箇所Xの温度Yが特定値Zとなるまでの期間は概ね同じである。そこで、センサー等を用いて誘導加熱を開始してから箇所Xの温度Yが特定値Zとなるまでの時間を予め計測しておく。そして、実際にライン等で加熱する際には、誘導加熱開始からの経過期間のみを計測すれば、前記温度Yが前記特定値Zとなるタイミングを把握できる。従って、予め計測した経過期間を基にして、工程Cを開始するタイミング、すなわち、前記工程Aからの経過時間(前記所定期間)を決定すれば、加熱するごとに金属板の温度をセンサー等で測定しなくても、適切なタイミングで、光加熱による加熱を開始することが可能となる。例えば、センサー等を用いての計測結果が45秒であったとすれば、前記工程Cを、前記工程Aから45秒経過した後に開始することとすればよい。
なお、金属板の一番昇温され難い部分(すなわち、箇所X)がどこであるかについては、金属板の形状に関わらず、予め加熱試験を行い、昇温状況をモニタリングして決定すればよい。
すなわち、本実施形態に係る熱処理装置10は、
誘導加熱を行うためのコイル12と、
光加熱を行うためのランプ14と、
制御部16とを備え、
制御部16は、コイル12による鋼板20の加熱を開始した後、鋼板20の一番温度の低い箇所Xの温度Yが、キュリー温度を基準とした特定値Zとなるまで、コイル12による鋼板20の加熱を行い、
前記温度Yが前記特定値Zとなった後に、ランプ14による鋼板20の加熱を開始する。
(1)金属板を加熱する熱処理装置であって、
誘導加熱を行うための誘導加熱部と、
光加熱を行うための光加熱部と、
制御部とを備え、
前記制御部は、前記誘導加熱部による金属板の加熱を開始した後、前記金属板の一番温度の低い箇所Xの温度Yが、キュリー温度を基準とした特定値Zとなるまで、前記誘導加熱による前記金属板の加熱を行い、
前記温度Yが前記特定値Zとなった後に、前記光加熱部による前記金属板の加熱を開始することを特徴とする熱処理装置。
前記制御部は、前記誘導加熱部による金属板の加熱を開始してから、所定期間経過した後に、前記光加熱部による前記金属板の加熱を開始することを特徴とする熱処理装置。
前記箇所Xの温度Yをモニタリングするセンサーを備え、
前記制御部は、前記センサーによりモニタリングしている温度Yが前記特定値Zとなった後に、前記光加熱部による前記金属板の加熱を開始することを特徴とする熱処理装置。
前記光加熱部としては、光により金属板を加熱することができるものであれば、特に限定されず、例えば、ランプ14等が挙げられる。
前記制御部としては、上記制御を行う機能を有していれば、特に限定されず、例えば、制御部16が挙げられる。
前記センサーとしては、金属板の一番温度の低い箇所Xの温度Yをモニタリングできるものであれば、特に限定されず、従来公知の非接触式の、又は、接触式の温度センサーが挙げられる。
前記金属板の材質としては、キュリー温度を有する材料で構成されたものであれば、特に限定されない。また、前記金属板の厚さは、均一であってもよく、部分的に異なる部分があってもよい。また、平面視の形状は、矩形であってもよく、部分的に鋭角な部位等が存在する異形状であってもよい。
12、112 コイル
14、114 ランプ
20 鋼板
22 厚みの厚い矩形板状部
24 厚みの薄い矩形板状部
116 発光部
117 光出射面
118 口金
126 ランプ制御部
128 誘導加熱制御部
Claims (3)
- 金属板を誘導加熱により加熱する誘導加熱コイルと、
金属板を光加熱する光源と
を備え、
前記誘導加熱コイルは、その内部に金属板を設置可能な加熱空間を有しており、
前記光源は、光を出射する発光部を有しており、
前記発光部は、前記誘導加熱コイルの内部に設置されていることを特徴とする熱処理装置。 - 前記発光部は一方向に長尺な光出射面を備えており、
前記発光部は、前記発光部の長尺方向と前記誘導加熱コイルの軸方向とが同一方向となるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記光源は、前記発光部の端部に封止部を有しており、
前記封止部は、前記誘導加熱コイルの外部に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱処理装置。
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