JP6761497B2 - セルスタック及び電気化学セル - Google Patents
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Description
(セルスタック装置10の構成)
図1は、第1実施形態に係るセルスタック装置10の側面図である。セルスタック装置10は、セルスタック11と、マニホールド12とを備える。
図2は、第1実施形態に係るセル1の構成を示す断面図である。セル1は、流路部材3、合金部材4、第1電極層5、中間層6、電解質層7、反応防止層8、及び第2電極層9を有する。
流路部材3は、U字状に形成される。流路部材3は、合金部材4に接合される。流路部材3と合金部材4との間には、流路3Sが形成される。
合金部材4は、第1電極層5、中間層6、電解質層7、反応防止層8、及び第2電極層9を支持する支持体である。本実施形態において、合金部材4は、板状に形成されているが、これに限られない。合金部材4は、例えば、筒状、或いは、箱状などの他の形状であってもよい。
第1電極層5は、合金部材4によって支持される。第1電極層5は、合金部材4の表面側に設けられる。第1電極層5は、合金部材4のうち複数の貫通孔4aが設けられた領域を覆うように設けられる。図2において、第1電極層5は、合金部材4の表面上に配置されており、各貫通孔4aに入り込んでいないが、第1電極層5の少なくとも一部は、各貫通孔4aに入り込んでいてもよい。第1電極層5が各貫通孔4aに入り込むことによって、合金部材4と第1電極層5との接続性が向上するため、合金部材4と第1電極層5との間に発生する熱応力によって第1電極層5が合金部材4から剥離することを抑制できる。
中間層6は、第1電極層5上に配置される。中間層6は、第1電極層5と電解質層7との間に介挿される。中間層6の厚さは特に制限されないが、例えば1μm〜100μmとすることができる。
電解質層7は、第1電極層5と第2電極層9との間に配置される。本実施形態では、セル1が中間層6及び反応防止層8を有しているため、電解質層7は、中間層6と反応防止層8との間に介挿されている。
反応防止層8は、電解質層7上に配置される。反応防止層8は、電解質層7と第2電極層9との間に介挿される。反応防止層8の厚さは特に制限されないが、例えば1μm〜100μmとすることができる。反応防止層8は、第2電極層9の構成材料と電解質層7の構成材料とが反応して高抵抗層が形成されることを抑制する。
第2電極層9は、電解質層7を基準として、第1電極層5の反対側に配置される。本実施形態では、セル1が反応防止層8を有しているため、第2電極層9は、反応防止層8上に配置される。
まず、流路3Sから各貫通孔4aを介して第1電極層5に燃料ガスを供給し、かつ、第2電極層9に酸化剤ガスを供給しながら、セル1を作動温度(例えば、600℃〜850℃)まで加熱する。すると、第2電極層9においてO2(酸素)がe−(電子)と反応してO2−(酸素イオン)が生成される。生成されたO2−は、電解質層7を通って第1電極層5に移動する。第1電極層5に移動したO2−は、燃料ガスに含まれるH2(水素)と反応して、H2O(水)とe−とが生成される。このような反応によって、第1電極層5と第2電極層9との間に起電力が発生する。
上述したように、本実施形態に係る合金部材4には、コーティング膜42が基材41から剥離することを抑制するための剥離抑制部が設けられている。
図4では、剥離抑制部の一例として「アンカー部45」が図示されている。アンカー部45は、基材41に対するコーティング膜42の密着力を高める機能を有する。
図5は、剥離抑制部の一例として「埋設部42a」を示す断面図である。埋設部42aは、基材41に対するコーティング膜42の密着力を高める機能を有する。
図6は、合金部材4の内部に発生する熱応力を緩和する機能を有する剥離抑制部の一例として「気孔41d」を示す断面図である。
(セルスタック20の構成)
図7は、第1実施形態の変形例に係るセルスタック20の分解斜視図である。セルスタック20は、複数の燃料電池セル21と、複数のセパレータ22とを備える。燃料電池セル1は、本発明に係る「電気化学セル」の一例である。以下の説明では、燃料電池セルを「セル」と略称する。
上記第1実施形態では、図1に示したセルスタック11において、中央部セル1aの合金部材4に設けられた剥離抑制部の数が、端部セル1bの合金部材4に設けられた剥離抑制部の数より多いこととした。
上記第1実施形態の変形例では、図7に示したセルスタック20において、中央部セル21aの合金部材4に設けられた剥離抑制部の数が、端部セル21bの合金部材4に設けられた剥離抑制部の数より多いこととした。
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形又は変更が可能である。
1a 中央部セル
1b 端部セル
10 セルスタック装置
11 セルスタック
12 マニホールド
20 セルスタック
21 セル
21a 中央部セル
21b 端部セル
3 流路部材
4 合金部材
4a 下流部位
4b 上流部位
5 第1電極層
6 中間層
7 電解質層
8 反応防止層
9 第2電極層
Claims (8)
- 配列方向に並べられた複数の電気化学セルを備え、
前記複数の電気化学セルそれぞれは、合金部材と、前記合金部材によって支持される第1電極層と、第2電極層と、前記第1電極層と第2電極層との間に配置される電解質層とを有し、
前記合金部材は、クロムを含有する合金材料によって構成される基材と、前記基材の表面の少なくとも一部を覆うコーティング膜と、前記基材から前記コーティング膜が剥離することを抑制する剥離抑制部とを含み、
前記複数の電気化学セルは、前記配列方向の中央部に位置する中央部電気化学セルと、前記配列方向の端部に位置する端部電気化学セルとを含み、
前記中央部電気化学セルの合金部材が有する前記剥離抑制部の数は、前記端部電気化学セルの合金部材が有する前記剥離抑制部の数より多い、
セルスタック。 - 前記剥離抑制部は、前記基材の表面に形成された凹部内に配置され、クロムより平衡酸素圧の低い元素の酸化物を含有するアンカー部である、
請求項1に記載のセルスタック。 - 前記コーティング膜は、前記基材の表面に形成された凹部内に埋設され、前記凹部の開口でくびれている埋設部を有し、
前記剥離抑制部は、前記埋設部である、
請求項1に記載のセルスタック。 - 前記基材は、前記基材と前記コーティング膜との界面から30μm以内の界面領域に形成され、前記基材の断面における円相当径が0.5μm以上20μm以下の気孔を有し、
前記剥離抑制部は、前記気孔である、
請求項1に記載のセルスタック。 - 合金部材と、
前記合金部材によって支持される第1電極層と、
第2電極層と、
前記第1電極層と第2電極層との間に配置される電解質層と、
を備え、
合金部材は、クロムを含有する合金材料によって構成される基材と、前記基材の表面の少なくとも一部を覆うコーティング膜と、前記基材から前記コーティング膜が剥離することを抑制する剥離抑制部とを含み、
前記合金部材は、前記合金部材の表面を流れるガスの流通方向において下流側に位置する下流部位と、前記流通方向において前記下流部位の上流側に位置する上流部位とを含み、
前記下流部位が有する前記剥離抑制部の数は、前記上流部位が有する前記剥離抑制部の数より多い、
電気化学セル。 - 前記剥離抑制部は、前記基材の表面に形成された凹部内に配置され、クロムより平衡酸素圧の低い元素の酸化物を含有するアンカー部である、
請求項5に記載の電気化学セル。 - 前記コーティング膜は、前記基材の表面に形成された凹部内に埋設され、前記凹部の開口でくびれている埋設部を有し、
前記剥離抑制部は、前記埋設部である、
請求項5に記載の電気化学セル。 - 前記基材は、前記基材と前記コーティング膜との界面から30μm以内の界面領域に形成され、前記基材の断面における円相当径が0.5μm以上20μm以下の気孔を有し、
前記剥離抑制部は、前記気孔である、
請求項5に記載の電気化学セル。
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