JP6759642B2 - 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
本発明は、二軸配向ポリエステルフィルムに関し、さらに詳しくは、磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体として好ましく用いることが可能な二軸配向ポリエステルフィルムに関する。
二軸配向ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。一方、当該磁気記録媒体（磁気テープ）には常に高密度化、高容量化が要求されており、その要求を達成するためには、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用するとともに、微粒子磁性体を高度に分散させて、磁性層表面の平滑性を高めることや記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有効である。
このような磁性層加工での改良に対し、二軸配向ポリエステルフィルムにおいても、磁性層側表面に要求される平滑性は高まっている。特に表面に粗大突起が存在した場合、画像や音声を記録または読み取る磁気ヘッドとのスペーシングロスにより、磁気テープの電磁変換特性が低下しやすく、このような粗大突起を低減した各種のポリエステルフィルムが提案されている（例えば、特許文献１〜５）。
しかし、これらのフィルムで規定されている粗大突起は、その高さが少なくとも１００ｎｍ以上とされており、近年の要求レベルではこれよりも高さの低い突起をも低減する必要が高まっている。このような平滑な表面を形成するためには、主に原料製造時あるいはフィルム製造時に混入する異物を除去するだけでなく、さらに表面を形成する不活性粒子を高度に分散せしめて、その凝集物も低減させる必要があるが、これまでのポリエステルフィルムではその要求を満たしていなかった。
また磁気テープの市場規模の変化に応じて、従来よりもフィルム製膜期間が長期となる傾向にあるが、上述の粗大突起や凝集物の増加が課題となってきている。また破れによるフィルム製膜性の低下やフィルム表面のキズおよびフィルム中の欠点による歩留まりの低下、更には磁気テープ加工時の歩留まりにも影響を及ぼすことがあり、新たな課題となっている。
本発明の目的は、上記の問題を解決し、高密度、高容量の磁気テープに用いた場合の電磁変換特性が良好であり、かつベースフィルムの生産性にも優れ、特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用途に好適なベースとなる二軸配向ポリエステルフィルムを提供することにある。なお、以下の説明において、長手方向、縦方向およびＭＤは同じ意味で用い、二軸配向ポリエステルフィルムを製造する際の長手方向（機械方向）を意味する。幅方向、横方向およびＴＤも同じ意味で用い、上記の長手方向とフィルム面内において直交する方向を意味する。
上記課題を解決するための本発明は、次の特徴を有している。
２層以上の層構成を有し、一方の表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜１０ｎｍであり、高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度が０．５〜２００個／０．０５ｍｍ２であり、かつ高さ４０ｎｍ以上の高突起個数密度が３０個／０．０５ｍｍ２未満である二軸配向ポリエステルフィルム。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、凝集突起個数が少なく、平滑性に優れており、スリット性と製膜性、工程適性が良好な二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを支持体とした磁気記録媒体は電磁変換特性に優れ、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体となる。特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用として有用である。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、構成成分としてポリエステルを含んでいる。用いることができるポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものを挙げることができる。
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
ポリマーの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
ポリエステルは、二軸延伸を施せること、および、寸法安定性などの本発明の効果を発現するために、ガラス転移温度が１５０℃未満のものを好適に使用できる。本発明において用いるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）が好ましく、また、これらの共重合体や変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。本発明のポリエステルとしては特に、結晶子サイズや結晶配向度を高めるプロセスが適用しやすいことから主成分がポリエチレンテレフタレートであることがより好ましい。ここで、主成分とはフィルム組成中８０質量％以上であることをいう。
本発明のポリエチレンテレフタレートをポリマーアロイとする場合、他の熱可塑性樹脂は、ポリエステルと相溶するポリマーが好ましく、ポリエーテルイミド樹脂などがより好ましい。ポリエーテルイミド樹脂としては、例えば以下で示すものを用いることができる。
（ただし、上記式中Ｒ１は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ２は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ１、Ｒ２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
上記Ｒ１、Ｒ２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
または
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数である。）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）５０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）６０００」および「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）ＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）５０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）６０００」および「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）ＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは２層以上の層構成を有している。一方の表面を表面Ａとすると、この表面Ａの３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａは２〜１０ｎｍである。また、この表面Ａについて、高さ３０ｎｍ以上の突起の個数密度（以下、高突起個数密度）は０．５〜２００個／０．０５ｍｍ２である。以下、これら事項について詳述する。
２層以上の層構成を有するとは、少なくとも２層の層が存在することを意味し、３層や４層など、あるいはそれ以上の多層積層構成であっても構わない。そして一方の表面（表面Ａ）の表面形状を支配する層をＡ層とし、他方の表面（表面Ｂ）の表面形状を支配する層をＢ層として、表面Ａや表面Ｂ、Ａ層やＢ層の特徴を本願発明において規定する。これらの層は、塗布層により構成されていてもよいが、共押出により形成された層であることが好ましい。
例えば、本願発明が２層で構成されている場合、一方の層がＡ層、他方の層がＢ層となる。また、この２層構成の一方の表面や両表面に塗布層が形成された３層構成や４層構成の場合、当該塗布層をＣ層やＤ層として、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層／Ｄ層といった層構成となるが、Ｃ層やＤ層が表面形状に影響を及ぼさない場合やその影響が軽微である場合は、Ｃ層やＤ層がＡ層やＢ層に該当することはなく、Ｃ層表面が表面ＡとなりＤ層表面が表面Ｂとなる。
なお、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体とする際には、当該フィルムの表面Ａ側を磁性面として磁性層を設けることが好ましく、この場合、表面Ｂ側が走行面となる。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、一方の表面（表面Ａ、Ａ層側表面）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜１０ｎｍである。好ましくは２．５〜８．５ｎｍ、より好ましくは３〜７ｎｍである。ｓＲａ−Ａが２ｎｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。また、工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。さらにキズが多発する場合には磁気テープのエラーレートも低下することがある。一方、ｓＲａ−Ａが１０ｎｍより大きい場合には、表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、表面Ａの高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度が０．５〜２００個／０．０５ｍｍ２である。好ましくは１〜１８０個／０．０５ｍｍ２、より好ましくは２〜１５０個／０．０５ｍｍ２である。高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度を０．５個／０．０５ｍｍ２未満にしようとすれば、ポリエステル原料やポリエステルフィルムの製造時に使用するフィルター濾過精度が非常に高くする必要があり、結果的にフィルター圧力が高くなってポリエステル原料あるいはフィルムが得られなくなることがある。一方、高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度が２００個／０．０５ｍｍ２より多い場合には、磁気テープなどの磁気記録媒体としたときの電磁変換特性、エラーレートが低下しやすくなる。
また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、表面Ａの高さ４０ｎｍ以上の高突起個数密度が３０個／０．０５ｍｍ２未満であり、好ましくは２５個／０．０５ｍｍ２以下である。高さ４０ｎｍ以上の高突起個数密度が３０個／０．０５ｍｍ２以上の場合、特にＤＬＴ、ＬＴＯ、ＤＶＣ−ｐｒｏ用途では、磁気テープなどの磁気記録媒体としたときの電磁変換特性、エラーレートが低下しやすくなる。下限については、ポリエステル原料やポリエステルフィルムの製造時に使用するフィルター濾過精度とフィルター圧力制御などの点から０．１個／０．０５ｍｍ２以上が好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、Ａ層に、平均粒径（ｄＡ）０．０１〜０．６μｍの不活性粒子Ａを０．０１〜０．５０質量％含有することが好ましい。不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡについては０．０２〜０．５μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．０３〜０．４μｍである。また、不活性粒子Ａの含有量については０．０３〜０．４５質量％であることがより好ましく、さらに好ましくは０．０４〜０．４０質量％である。不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡが０．０１μｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、０．６μｍより大きい場合には、表面Ａの平滑性と共に磁気テープなどの磁気記録媒体の電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。また不活性粒子Ａの含有量が０．０１質量％未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他には不活性粒子Ａに起因する突起により磁気テープなどの磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が低下することがある。一方、０．５０質量％より多い場合には、表面Ａの平滑性と共に磁気テープなどの磁気記録媒体の電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
不活性粒子Ａの成分については、例えば、（１）耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンド等）、（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイト等）などのような無機化合物、及び（７）ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する析出物（いわゆる内部粒子）が挙げられる。これらの内、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイヤモンド、またはカオリンからなる粒子が好ましい。さらに好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子Ａは１種または２種以上を混合して使用してもよい。
さらに、Ａ層には（必要に応じてＢ層にも）本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、Ｂ層が平均粒径（ｄＢ１）０．１〜１．０μｍ、かつ不活性粒子Ａより平均粒径が０．０５〜０．４μｍ大きい不活性粒子Ｂ１を０．０８〜２．０質量％含有し、更に平均粒径（ｄＢ２）０．３〜２．０μｍ、かつ不活性粒子Ｂ１より平均粒径が０．２〜１．０μｍ大きい不活性粒子Ｂ２を０．００１〜０．１０質量％含有することが好ましい。不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１については０．２〜０．７μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．２〜０．５μｍである。また、不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１は、不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡよりも０．０７〜０．３μｍ大きいことがより好ましい。不活性粒子Ｂ１の含有量については０．１〜１．５質量％であることがより好ましく、さらに好ましくは０．１５〜１．０質量％である。さらに、不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２については０．３５〜１．８μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．５μｍである。また、不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２は、不活性粒子Ｂ１の平均粒径よりも０．２５〜０．８μｍ大きいことがより好ましい。さらに、不活性粒子Ｂ２の含有量については０．００３〜０．０８質量％であることが好ましく、より好ましくは０．００５〜０．０５質量％である。
不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１が０．１μｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、１．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
また不活性粒子Ｂ１と不活性粒子Ａの平均粒径の差（ｄＢ１−ｄＡ）が０．０５μｍより小さい場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、差（ｄＢ１−ｄＡ）が０．４μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
さらに不活性粒子Ｂ１の含有量が０．０８質量％未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、２．０質量％より多い場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２が０．３μｍ未満の場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、２．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
また不活性粒子Ｂ２と不活性粒子Ｂ１の平均粒径の差（ｄＢ２−ｄＢ１）が０．２μｍより小さい場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、差（ｄＢ２−ｄＢ１）が１．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
さらに不活性粒子Ｂ２の含有量が０．００１質量％未満の場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、０．１０質量％より多い場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、表面Ｂ（表面Ａと対をなす反対面、Ｂ層側表面）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが１０〜４０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらには１２〜３０ｎｍが最も好ましい。ｓＲａ−Ｂが１０ｎｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、ｓＲａ−Ｂが４０ｎｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の成分については、不活性粒子Ａで挙げた各種粒子を使用できるが、好ましいものとしては、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子Ｂ１、Ｂ２は１種または２種以上を混合して使用してもよい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率（Ｙ−ＭＤ）が３．５〜１０ＧＰａであることが好ましく、横方向のヤング率（Ｙ−ＴＤ）が３〜１０ＧＰａであることが好ましく、横方向のヤング率に対する長手方向のヤング率の比率（Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤ）が０．４〜１．５であることが好ましい。より好ましくはＹ−ＭＤが４〜９ＧＰａ、Ｙ−ＴＤが３．３〜８．５ＧＰａ、Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤが０．５〜１．３である。また、最も好ましくはＹ−ＭＤが４〜８ＧＰａ、Ｙ−ＴＤが３．５〜７．５ＧＰａ、Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤが０．６〜１．１である。Ｙ−ＭＤが３．５ＧＰａより小さい場合、およびＹ−ＴＤが３ＧＰａより小さい場合には、フィルムの強度不足により磁気テープ加工時の縮みによる工程適性に劣り、また加工後の磁気テープの寸法安定性も低下しやすい。一方、Ｙ−ＭＤが１０ＧＰａより大きい場合、およびＹ−ＴＤが１０ＧＰａより大きい場合には、フィルム製膜時に破れが発生して製膜性が低下しやすい。また磁気テープが剛直となって、磁気ヘッドとの当たりが強くなることで磁気テープ表面が削れ易くなり、耐久性が低下しやすい。さらにＹ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤの値が０．４〜１．５の範囲外の場合、いずれかの方向でフィルムの強度が不足して磁気テープ加工時の縮みにより工程適性に劣り、また加工後の磁気テープの寸法安定性も低下しやすい。あるいはフィルム製膜時に破れが発生して製膜性が低下しやすい。
また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向の湿度膨張係数が０〜９ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましく、より好ましくは０〜８．５ｐｐｍ／％ＲＨ、最も好ましくは０〜８ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が９ｐｐｍ／％ＲＨより大きい場合、磁気テープの湿度変化による変形が大きくなり、幅方向の寸法安定性が悪化しやすい。
本発明において、二軸配向ポリエステルフィルムの総厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、２〜１２μｍが好ましく、より好ましくは２．５〜１０μｍ、さらに好ましくは３〜８μｍである。総厚みが２μｍより薄い場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、総厚みが１２μｍより厚い場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になることがある。またＡ層とＢ層の厚み比率については、総厚みを１００％とした時のＢ層比率が１〜３０％が好ましく、より好ましくは２〜２８％、最も好ましくは４〜２５％である。Ｂ層比率が１％未満の場合、均一な積層とすることが困難となり、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２が少ない箇所ではフィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、Ｂ層比率が３０％より大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。なお、３層以上の構成とした場合には、Ａ層、Ｂ層以外の層も含めた総厚みを１００％とした上で、Ａ層比率、Ｂ層比率が上記範囲内であることが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、例えば次のように製造される。以下、ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた例を代表例として説明するが、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
ポリエステルに不活性粒子を含有させる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子を所定の割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加することを挙げられる。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成した際に得られる水ゾルやアルコールゾルを乾燥させることなくポリエステル重合完結前の任意段階で添加すると粒子の分散性が良好であり、フィルムの滑り性や電磁変換特性等を良好にすることができる。また、粒子の水スラリーを所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の二軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も有効な手法である。これらの方法により、不活性粒子を含有したポリエステルペレットを調製する。
また、実質的に粒子を含有しないポリエステルのペレットと、ポリエーテルイミドのペレットを所定の割合で混合して、２７０〜３００℃で加熱されたベント式の二軸混練押出機に供給し、溶融押出して、ポリエーテルイミド含有ポリエステルペレットを調製する。
以上のようにして準備した、不活性粒子を含有したポリエステルペレット、ポリエーテルイミド含有ポリエステルペレット、及び粒子等を実質的に含有しないポリエステルペレットを所定の割合で混合し、乾燥した後、公知の溶融積層用押出機に供給し、ポリマーをフィルターにより濾過する。このとき押出機の温度はペレットの溶融、混錬の安定性の観点から２５０〜２８５℃が好ましく、より好ましくは２５５〜２８０℃である。また押出機の入り側を２５０〜２６５℃の範囲とし、出側を入り側よりも高く、かつ２６５〜２８５℃の範囲として温度勾配を設けることが、ペレットの溶融、混錬の安定性をより高める点から好ましい。
非常に薄い磁性層が塗布される高密度磁気記録媒体用途においては、ごく小さな異物も磁気記録欠陥であるＤＯ（ドロップアウト）の原因となるため、フィルター材料としては例えばステンレス鋼、ニッケル、クロム、アルミ、銅などの各種金属ないし合金を使用することができる。これらの内、耐熱性、耐久性の点でステンレスフィルターが好ましく、特に高精度の繊維焼結ステンレスフィルターを用いることが好ましい。ただし、繊維焼結ステンレスフィルターは定形の無機系異物の捕集に有効であるが、長時間の製膜時には不定形の有機系異物（変性ポリマー）が発生しやすい。その抑制には例えば、粉末焼結ステンレスフィルターが好ましいが、これら２種のフィルターを併用する場合、一方を上流（第１）、もう一方を下流（第２）に使用する方法は、後述のフィルター装置が２台となり、フィルター入りでの圧力損失、すなわちポリマー圧力が上昇しやすくなり、またポリマー圧力制御が難しく吐出安定性に劣る。更にフィルター装置を繋ぐ配管を含めて、ポリマー通過時間が長くなることで熱履歴アップによる変性ポリマーが多発しやすい。さらには、不活性粒子Ａの分散性が低下して高突起個数密度が増加しやすい。これに対し、繊維焼結ステンレスフィルターと粉末焼結ステンレスフィルターを積層したものは、ポリマー圧力制御や吐出安定性に優れるため好ましい。さらに不活性粒子の凝集抑制あるいは再分散の効果も発揮でき、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＡ層において不活性粒子Ａの凝集防止および／または高突起成分の流出防止のためにも好ましいフィルターである。
本発明において、無機系異物捕集の目安となる繊維焼結ステンレスフィルターの濾過精度（捕集効率９５％以上が可能な異物径）は、好ましくは使用する不活性粒子の平均粒径の３〜５０倍、より好ましくは３．５〜４５倍、更には４〜４０倍が最も好ましい。繊維焼結ステンレスフィルターの濾過精度が不活性粒子の平均粒径の３倍より小さい場合にはポリマー圧力が変動しやすい、もしくは上昇しやすくなって、ポリマー圧力制御が難しくなることがある。一方、５０倍より大きい場合には無機系異物捕集の効果が低下しやすくなる。また、有機系異物捕集の目安となる粉末焼結ステンレスフィルターの濾過精度について、好ましくは使用する繊維焼結ステンレスフィルターの２〜４５倍、より好ましくは２．５〜４０倍、更には３〜３５倍が最も好ましい。粉末焼結ステンレスフィルターの濾過精度が繊維焼結ステンレスフィルターの２倍より小さい場合、特に製膜が長時間になるに従い、ポリマー圧力が変動しやすい、もしくは上昇しやすくなって、ポリマー圧力制御が難しくなることがある。一方、４５倍より大きい場合には特に製膜が長時間になるに従い、有機系異物捕集の効果が低下しやすくなる。
以下、上述の繊維焼結フィルターと粉末焼結フィルターを積層したフィルターについて、構成および製造方法の一例を述べる。フィルターは全体をリーフディスク状とし、最表層を中抜き円盤状の繊維焼結ステンレスフィルター、次に繊維焼結ステンレスフィルターの内側に中層として中抜き円盤状の粉末焼結ステンレスフィルター、さらに粉末焼結ステンレスフィルターの内側に最内層として中抜き円盤状の支持部材を配置し、繊維焼結ステンレスフィルターおよび粉末焼結ステンレスフィルターの外周縁は前記支持部材の外周縁をこえる部分で挟圧され、かつこの接圧部分の周縁を溶接、溶融によって接合した構成を有している。また中抜き部分には繊維焼結ステンレスフィルター、粉末焼結ステンレスフィルター、網状体に接してリング状の金属ブロックで構成されるハードハブが配置されている。このハードハブには、円周外面から円周内面に貫通させた複数の孔が設けられている。
繊維焼結ステンレスフィルターは直径０．２〜１０μｍ、アスペクト比２〜５０のステンレス鋼短繊維、あるいは直径０．２〜１０μｍのステンレス鋼長繊維を焼結したもの、粉末焼結ステンレスフィルターは直径３〜１００μｍのステンレス鋼粒子を焼結したもの、支持部材は直径０．１〜３．０ｍｍのステンレス線を２〜１００メッシュに織成したシート状の織物体を使用することが好ましい。
このリーフディスク状のフィルターを中抜き部分にセンターポストを通して、所定容積を持つハウジング容器内のセンターポストに沿って多段に積み重ねて収容し、フィルター装置とする。リーフディスク状フィルターを積み重ねる際、必要に応じてフィルター間にスペーサーを挟み込む。このような構成とすることは、単位面積当たりにおける濾過面積の増大を図ることができ、大容量型の濾過装置として好ましい。なお、センターポストは断面が円形もしくは多角形で中空の柱状であり、外面から内面に貫通させた複数の孔を設ける。
また、単位時間当たりのポリマー流量が少なく、比較的容量が小さい場合は、円筒状のフィルターを使用してもよい。
このフィルター装置の上部から溶融ポリマーを流入させ、繊維焼結／粉末焼結積層ステンレスフィルターの繊維焼結ステンレスフィルター、粉末焼結ステンレスフィルター、支持部材、ハードハブの孔、センターポストの孔、センターポストの中空部、最終的にフィルター装置の下部から濾過された溶融ポリマーが流出する。
さらにフィルター装置の温度は変性ポリマー抑制の観点から２６０〜２８０℃が好ましく、より好ましくは２６０〜２７５℃である。さらに押出機に対する温度勾配を、押出機入り側＜フィルター＜押出機出側とすることは、押出圧力の安定性および不活性粒子凝集の抑制を高める点で好ましい態様である。
特に本発明においては、前述の繊維焼結フィルターと粉末焼結フィルターとの積層フィルターを使用し、かつ押出機とフィルターの温度勾配を上述の態様とすることにより、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＡ層において、定形の無機系異物および長時間の製膜時に発生しやすい不定形の有機系異物（変性ポリマー）を共に捕集せしめる効果、さらには不活性粒子Ａの凝集を防止および／または高突起成分を流出防止せしめる効果を最大限に発揮させることによって、表面Ａにおいて高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度を０．５〜２００個／０．０５ｍｍ２、および高さ４０ｎｍ以上の高突起個数密度を３０個／０．０５ｍｍ２未満とすることができ、磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体に用いた時の電磁変換特性に優れる二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
続いて温度２８５〜３１０℃としたスリット状のスリットダイからシート状に溶融ポリマーを押し出し、表面温度２０〜３５℃のキャスティングロール上でこのポリマーを冷却固化させて未延伸フィルムとする。すなわち、複数の押出機、複数のマニホールド又は合流ブロック（例えば矩形合流部を有する合流ブロック）を用いて必要な層数を積層させ、Ｔダイ等の口金からシートを押し出して、キャスティングロールで冷却させて未延伸フィルムを得る。この場合、背圧の安定化及び厚さ変動の抑制の観点からは、ポリマー流路にスタティックミキサーやギアポンプを設置することが有効である。
続いて、上記未延伸フィルムを長手方向と長手方向に直角な幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けて延伸することが好ましい。すなわち、再縦、再横延伸を行うことが高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られやすいため好ましい。
延伸方法は、同時二軸延伸であっても、逐次二軸延伸であってもよい。同時二軸延伸はロールによる延伸を伴わないため、フィルム表面の局所的な加熱が発生せず、表面性が制御しやすい点で好ましく、逐次二軸延伸は延伸倍率と延伸パターンの組合せにより、より高配向で高強度のフィルムが得られる点で好ましい方法である。
例えば逐次二軸延伸では、未延伸フィルムを数本のロールの配置された縦延伸機を用いて、ロールの周速差を利用して長手方向に縦延伸し、続いてステンターにより幅方向に横延伸を行う。縦延伸温度は用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）を目安として決めることができ、Ｔｇ−１０〜Ｔｇ＋１５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ℃〜Ｔｇ＋１０℃である。上記範囲より縦延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下しやすい。一方で上記範囲より縦延伸温度が高い場合、フィルムの強度が不足して所望のヤング率を得ることが難しくなる他、縦延伸ロールにフィルムが粘着して延伸ムラになりやすい。縦延伸倍率は２．５〜４．０倍が好ましく、より好ましくは２．８〜３．８倍、さらに好ましくは３．０〜４．０倍である。
次の横延伸では温度を縦延伸フィルムの冷結晶化温度（Ｔｃｃ）を目安として、Ｔｃｃ−１５〜Ｔｃｃ＋５℃の範囲が好ましく、より好ましくはＴｃｃ−１０〜Ｔｃｃ＋５℃である。上記範囲より横延伸温度が低い場合、高い場合のいずれもフィルム破れが多発して生産性が低下しやすい。横延伸倍率は３．０〜５．０倍が好ましく、より好ましくは３．２〜４．７倍、さらに好ましくは３．５〜４．５倍である。
磁気テープに必要な強度を得る観点から、必要に応じて、好ましくは温度１２０〜１９０℃で、より好ましくは１３０〜１８０℃で、再度長手方向に、好ましくは１．１〜１．８倍、より好ましくは１．２〜１．６倍で再縦延伸を行うことが好ましい。再縦延伸倍率が１．１倍以上であることにより十分な強度が得られるので好ましく、再縦延伸倍率が１．８倍以下であることにより製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
その後、必要に応じて、好ましくは温度１６０〜２１０℃で、より好ましくは１７０〜２００℃で、再度幅方向に、好ましくは１．０１〜１．７倍、より好ましくは１．０２〜１．６倍で再横延伸を行うことが好ましい。再横延伸倍率が１．０１倍以上であることにより十分な平面性が得られるので好ましく、再横延伸倍率が１．７倍以下であることにより製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
延伸ムラを防止する観点から、長手方向及び幅方向の合計延伸倍率は、例えば８〜４０倍、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１５〜３０倍とすることが好ましい。延伸倍率を８倍以上とすることにより、磁気テープ用として十分な強度が得られるので好ましい。また、延伸倍率を４０倍以下とすることにより、製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
その後、例えば１８０〜２３５℃で、好ましくは１９０〜２２５℃で、例えば０．５〜２０秒間、好ましくは１〜１５秒間熱固定を行う。熱固定温度が１８０℃以上であることにより、フィルムの結晶化が進んで構造を安定化できるので好ましい。また、熱固定温度を２３５℃以下とすることにより、ポリエステル非晶鎖部分の緩和が進むことに伴うヤング率の低下を抑制できるので、磁気テープ用として十分な強度を得やすいとの観点から好ましい。その後、長手方向及び／又は幅方向に例えば０．５〜７．０％、好ましくは０．５〜６．５％の弛緩処理を施すことが、フィルムの平面安定性向上あるいは保管中や磁気テープ加工時の縮み防止の観点から好ましい。
次に、磁気記録媒体（磁気テープ）を製造する方法を説明する。
上記のようにして得られた二軸配向ポリエステルフィルムを、磁気記録媒体用ベースフィルムとして、例えば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（表面Ａ）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布する。この時、上層に磁性塗料を乾燥後の厚み０．１〜０．３μｍ、下層に非磁性塗料を乾燥後の厚み０．５〜１．５μｍとなるように塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（表面Ｂ）にバックコートを乾燥後の厚み０．３〜０．８μｍとなるように塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
このようにして得られた磁気記録媒体は、例えば、塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして好適に用いられる。より具体的には、ＨＤＣＡＭ、ＤＶＣ−ｐｒｏ、デジタルベータカム、ＨＤＶ、あるいはＤＬＴ、ＬＴＯ、データ８ｍｍ、ＤＤＳ等のメタル塗布型磁気記録媒体に好適であり、映像などのデジタル画像の記録用途、コンピュータデータのバックアップ用途等に好適に用いることができる。特に、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの特性を活かせる観点から、ＤＬＴ、ＬＴＯ、ＤＶＣ−ｐｒｏ用途に最も好適に用いることができる。
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
（１）フィルム全体の厚み（総厚み）、およびＡ層、Ｂ層の厚み
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いた。１点の測定に当たっては１０枚を採取した試験片を全て重ねた状態で測定した。最終的に平均値を試験片の重ね合わせ枚数（１０）で除した値をフィルム全体厚みとした。
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いた。１点の測定に当たっては１０枚を採取した試験片を全て重ねた状態で測定した。最終的に平均値を試験片の重ね合わせ枚数（１０）で除した値をフィルム全体厚みとした。
また、Ａ層、Ｂ層の厚みについては、相対的に薄いポリエステル層の厚みを以下に述べる方法にて測定し、相対的に厚いポリエステル層の厚みは、全厚みより相対的に薄いポリエステル層の厚みを引き算して求めた。すなわち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最も高濃度の粒子に起因する金属元素、フィルム中に金属元素を含まない粒子を含有する場合は、ポリエステルフィルム重合時の最も高濃度に含有する触媒に起因する金属元素濃度（Ｍ）を測定する。金属元素濃度Ｍは一旦安定値１になった後、単調に増加するかまたは減少して安定値２になる。この分布曲線を基に、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、薄い方の層の厚み（μｍ）とする。
なお、深さ５，０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子の成分によっては、ＳＩＭＳでの測定が難しい（例えば、シリコーン樹脂以外のポリマー粒子）ので、表面をエッチング処理しながらフーリエ変換顕微赤外分光法（顕微ＦＴ−ＩＲ法）、あるいはＸ線光電分光法（ＸＰＳ法）等によって上記と同様の濃度分布曲線を測定し、層厚みを求める。
（２）不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径（ｄＡ、ｄＢ１、ｄＢ２）
ポリエステルフィルムの表面Ａ（Ａ層側表面）および表面Ｂ（Ｂ層側表面）から、ポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステル樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを白金／パラジウム＝８５／１５（質量比）のイオンコーティング処理を施した上で、ＳＥＭ（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｓ−３４００Ｎ形走査電子顕微鏡）を用いて１０，０００倍で観察し、観察箇所を変えて粒子数が合計で１，０００個以上となるよう撮影した。得られた粒子の画像写真に、ＯＨＰフィルムを重ねて、写真の粒子部分を黒マジックで塗りつぶしてマーキングした。このＯＨＰフィルムを、イメージアナライザー（シーオン社製画像解析ソフト）で数値処理を行い、得られた各粒子の面積データ（μｍ２）を等価円相当径に換算した。さらに全粒子の数平均径を平均粒径とした。
ポリエステルフィルムの表面Ａ（Ａ層側表面）および表面Ｂ（Ｂ層側表面）から、ポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステル樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを白金／パラジウム＝８５／１５（質量比）のイオンコーティング処理を施した上で、ＳＥＭ（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｓ−３４００Ｎ形走査電子顕微鏡）を用いて１０，０００倍で観察し、観察箇所を変えて粒子数が合計で１，０００個以上となるよう撮影した。得られた粒子の画像写真に、ＯＨＰフィルムを重ねて、写真の粒子部分を黒マジックで塗りつぶしてマーキングした。このＯＨＰフィルムを、イメージアナライザー（シーオン社製画像解析ソフト）で数値処理を行い、得られた各粒子の面積データ（μｍ２）を等価円相当径に換算した。さらに全粒子の数平均径を平均粒径とした。
なお、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２のように粒径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合には、上記の等価円相当径の粒子個数分布が２個以上のピークを有する分布となる。そのため、等価円相当径換算で得たデータを、Ｘ軸を粒径（０．０１μｍ単位）、Ｙ軸を個数としてプロットし、粒子個数が最大値となる粒径を第１のピークとして不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１とした。次に第１のピークよりも粒径が大きい側について、粒子個数がピークとなる粒径の中で粒子個数が第１のピークに次いで多い粒径を不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２とした。
（３）３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａ、ｓＲａ−Ｂ
３次元粗さ計（（株）小坂研究所製 ＥＴ-４０００Ａ）を用い、スタイラスモード（針接触式粗さ測定）で、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）のｓＲａ−Ａと粗面（表面Ｂ、Ｂ層側表面）のｓＲａ−Ｂについて測定した（単位：ｎｍ）。なお、測定条件は以下の通りとし、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）、Ｂ層側表面（表面Ｂ）から各々任意に選んだ５箇所で測定した平均値をｓＲａ−Ａ、ｓＲａ−Ｂとした。
走査速度 ０．０２mm／sec
測定長 ０．２mm
cut off ０．０８mm
針圧 ６ mgr
針径 ２ μm
走行ピッチ（Ｘピッチ） ０．４０μｍ
送りピッチ（Ｙピッチ） ２μｍ
縦倍率（Ｚ測定倍率） １００，０００倍
測定本数 １００本
（４）高突起個数密度
非接触表面・層断面形状計測システム（（株）菱化システム製VertScan2.0、型式R5300GL-Lite-AC）を用いて、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）を以下の条件で測定した。
３次元粗さ計（（株）小坂研究所製 ＥＴ-４０００Ａ）を用い、スタイラスモード（針接触式粗さ測定）で、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）のｓＲａ−Ａと粗面（表面Ｂ、Ｂ層側表面）のｓＲａ−Ｂについて測定した（単位：ｎｍ）。なお、測定条件は以下の通りとし、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）、Ｂ層側表面（表面Ｂ）から各々任意に選んだ５箇所で測定した平均値をｓＲａ−Ａ、ｓＲａ−Ｂとした。
走査速度 ０．０２mm／sec
測定長 ０．２mm
cut off ０．０８mm
針圧 ６ mgr
針径 ２ μm
走行ピッチ（Ｘピッチ） ０．４０μｍ
送りピッチ（Ｙピッチ） ２μｍ
縦倍率（Ｚ測定倍率） １００，０００倍
測定本数 １００本
（４）高突起個数密度
非接触表面・層断面形状計測システム（（株）菱化システム製VertScan2.0、型式R5300GL-Lite-AC）を用いて、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）を以下の条件で測定した。
ＣＣＤカメラ 1/2インチ
対物レンズ ５０倍
ズーム ０．５倍
表面測定モード Wave
上記条件で測定して得た表面性データを、「面補正：多項式近似、４次、補間：完全」の条件で処理した後、「解析条件：ベアリング、高さヒストグラム」で突起高さ分布を算出し、高さ４０ｎｍ以上の突起個数（個/0.05mm2）を求めた。なお、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）から任意に選んだ５箇所で測定した平均値を高突起個数密度とした。
対物レンズ ５０倍
ズーム ０．５倍
表面測定モード Wave
上記条件で測定して得た表面性データを、「面補正：多項式近似、４次、補間：完全」の条件で処理した後、「解析条件：ベアリング、高さヒストグラム」で突起高さ分布を算出し、高さ４０ｎｍ以上の突起個数（個/0.05mm2）を求めた。なお、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）から任意に選んだ５箇所で測定した平均値を高突起個数密度とした。
（５）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９０年）に準拠して測定した。なお、測定条件は下記の通りとし、５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とした。
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９０年）に準拠して測定した。なお、測定条件は下記の通りとし、５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とした。
測定装置 ：オリエンテック社製引張試験機（テンシロンタイプ）
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ
引張り強度：２００ｍｍ／分
測定環境 ：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数 ：５回
（６）湿度膨張係数
フィルム幅方向に対して下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ
引張り強度：２００ｍｍ／分
測定環境 ：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数 ：５回
（６）湿度膨張係数
フィルム幅方向に対して下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：フィルム長手方向１０ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
・荷重 ：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
・試料サイズ：フィルム長手方向１０ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
・荷重 ：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
・湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（７）磁気テープの作製
実施例、比較例で得た二軸配向ポリエステルフィルムを１ｍ幅にスリットした後、張力２００Ｎで搬送させ、支持体としてフィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより塗布し（上層が磁性塗料で乾燥後の塗布厚み０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚み０．９μｍ）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させた。次いで反対側のＢ層側表面（表面Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布（乾燥後の塗布厚み０．５μｍ）した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取った。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成し、次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとした。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤） ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤） ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤） ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤） ： １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤） ： １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック ： ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック ： １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ ： ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
（８）電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）
上記（７）の方法で作製したカセットテープを、リールｔｏリールテスターおよび市販のＭＲヘッドを用いて下記の条件でＣ／Ｎを測定した。
（７）磁気テープの作製
実施例、比較例で得た二軸配向ポリエステルフィルムを１ｍ幅にスリットした後、張力２００Ｎで搬送させ、支持体としてフィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより塗布し（上層が磁性塗料で乾燥後の塗布厚み０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚み０．９μｍ）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させた。次いで反対側のＢ層側表面（表面Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布（乾燥後の塗布厚み０．５μｍ）した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取った。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成し、次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとした。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤） ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤） ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤） ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤） ： １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤） ： １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック ： ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック ： １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ ： ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
（８）電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）
上記（７）の方法で作製したカセットテープを、リールｔｏリールテスターおよび市販のＭＲヘッドを用いて下記の条件でＣ／Ｎを測定した。
相対速度：２ｍ／秒
記録トラック幅：１８μｍ
再生トラック幅：１０μｍ
シールド間距離：０．２７μｍ
記録用信号発生器：ヒューレットパッカード社製８１１８Ａ
再生信号処理：スペクトラムアナライザー
このＣ／Ｎ結果を市販のＬＴＯ４テープ（富士フイルム（株）製）と比較して、下記の基準で評価した。
記録トラック幅：１８μｍ
再生トラック幅：１０μｍ
シールド間距離：０．２７μｍ
記録用信号発生器：ヒューレットパッカード社製８１１８Ａ
再生信号処理：スペクトラムアナライザー
このＣ／Ｎ結果を市販のＬＴＯ４テープ（富士フイルム（株）製）と比較して、下記の基準で評価した。
○：０ｄＢ以上（望ましい）
△：−２ｄＢ以上０ｄＢ未満（実用的に使用可能）
×：−２ｄＢ未満（使用不可）
（９）エラーレート
上記（７）の方法で作製したカセットテープを、市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて、２５℃６５％ＲＨの環境下で記録・再生（記録波長０．５５μｍ）を５０回繰り返した後、下記の基準で評価した。
△：−２ｄＢ以上０ｄＢ未満（実用的に使用可能）
×：−２ｄＢ未満（使用不可）
（９）エラーレート
上記（７）の方法で作製したカセットテープを、市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて、２５℃６５％ＲＨの環境下で記録・再生（記録波長０．５５μｍ）を５０回繰り返した後、下記の基準で評価した。
◎：エラーレートが１．０×１０−６未満（最も望ましい）
○：エラーレートが１．０×１０−６以上、１．０×１０−５未満（望ましい）
△：エラーレートが１．０×１０−５以上、１．０×１０−４未満（実用的に使用可能）
×：エラーレートが１．０×１０−４以上（使用不可）
エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。
○：エラーレートが１．０×１０−６以上、１．０×１０−５未満（望ましい）
△：エラーレートが１．０×１０−５以上、１．０×１０−４未満（実用的に使用可能）
×：エラーレートが１．０×１０−４以上（使用不可）
エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。
エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
（１０）幅寸法安定性（幅寸法変化率）
上記（７）の方法で作製したカセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
（１０）幅寸法安定性（幅寸法変化率）
上記（７）の方法で作製したカセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
・測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回測定。
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回測定。
次に下記Ａ、Ｂ条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定した。すなわち、Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。測定箇所はテープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定し、その平均値を幅寸法とした。
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ 張力０．８Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．５Ｎ
さらに得られた幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を基にして、次式にて幅寸法変化率を算出した。
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．５Ｎ
さらに得られた幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を基にして、次式にて幅寸法変化率を算出した。
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
このようにして得られた幅寸法変化率から、次の基準で幅寸法安定性を評価した。△を実用的に使用可能、×を不合格とする。
このようにして得られた幅寸法変化率から、次の基準で幅寸法安定性を評価した。△を実用的に使用可能、×を不合格とする。
◎：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）以上６００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が７００（ｐｐｍ）以上
（１１）フィルム製膜性
フィルムの製膜性について、製膜［１］（製膜開始から５日後）と製膜［２］（製膜開始から２１日後）の状況を、下記の基準で評価した。
○：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）以上６００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が７００（ｐｐｍ）以上
（１１）フィルム製膜性
フィルムの製膜性について、製膜［１］（製膜開始から５日後）と製膜［２］（製膜開始から２１日後）の状況を、下記の基準で評価した。
◎：フィルム破れの発生が全く無く、安定製膜である（最も望ましい）。
○：フィルム破れの発生がほとんどなく、安定製膜が可能である（望ましい）。
△：フィルム破れが時々発生し、製膜安定性が若干低い（実用的に製膜可能）。
×：フィルム破断が多数発生し、製膜安定性が低い（実用的に製膜不可）。
（１２）スリット性
上記（６）において、フィルムを１ｍ幅のロール状にスリットする際、およびテープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅のロール状にスリットする際のスリット性について、下記の基準で評価した。なお、スリット後とは、スリット完了後３０分経過した後の状態を表す。
上記（６）において、フィルムを１ｍ幅のロール状にスリットする際、およびテープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅のロール状にスリットする際のスリット性について、下記の基準で評価した。なお、スリット後とは、スリット完了後３０分経過した後の状態を表す。
◎：スリット中およびスリット後のロールにシワや巻きズレの発生が全く無く、安定である（最も望ましい）。
○：スリット中およびスリット後のロールにシワや巻きズレがほとんどなく、安定したスリットが可能である（望ましい）。
△：スリット中のロールにシワや巻きズレが時々発生するか、スリット後のロールの一部にシワが発生し、スリット安定性が若干低い（実用的にスリット可能）。
×：スリット中のロールにシワや巻きズレが連続して発生し、スリット後のロールの全面にシワあるいは部分的でも強いシワが発生し、スリット安定性が低い（実用的にスリット不可）。
（１３）歩留まり
フィルムおよび磁気テープの歩留まりについて、製膜［１］（製膜開始から５日後）と製膜［２］（製膜開始から２１日後）の状況を、下記の基準で評価した。なお、キズについては表面の目視検査（フィルムは透過および反射方式、磁気テープは反射方式）、欠点についてはスリット中に透過式欠点検出器を用いて無機系、有機系（変性ポリマー）の異物を検査した。
フィルムおよび磁気テープの歩留まりについて、製膜［１］（製膜開始から５日後）と製膜［２］（製膜開始から２１日後）の状況を、下記の基準で評価した。なお、キズについては表面の目視検査（フィルムは透過および反射方式、磁気テープは反射方式）、欠点についてはスリット中に透過式欠点検出器を用いて無機系、有機系（変性ポリマー）の異物を検査した。
◎：キズ又は欠点の発生が全く無い（最も望ましい）。
○：キズ又は欠点の発生がほとんどない（望ましい）。
△：キズ又は欠点が時々発生する（実用的に生産可能）。
×：キズ又は欠点が多数発生する（実用的に生産不可）。
（１４）ガラス転移温度（Ｔｇ）、冷結晶化温度（Ｔｃｃ）
示差走査熱量計として（株）島津製作所製ＤＳＣ−６０ＰＬＵＳ、データ解析装置として同社製サイマルアナライザーＴＡ−６０ＷＳを用いて、試料１０ｍｇをアルミニウム製受皿上、３０℃から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した後、室温で急冷した。この急冷試料を再度２０℃／分で昇温し、ガラス転移温度Ｔｇを検知した。その後さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。
示差走査熱量計として（株）島津製作所製ＤＳＣ−６０ＰＬＵＳ、データ解析装置として同社製サイマルアナライザーＴＡ−６０ＷＳを用いて、試料１０ｍｇをアルミニウム製受皿上、３０℃から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した後、室温で急冷した。この急冷試料を再度２０℃／分で昇温し、ガラス転移温度Ｔｇを検知した。その後さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリエーテルイミドをＰＥＩと表記する。
（１）ＰＥＴペレットの作製：テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を０．５質量部（リン酸トリメチルとして０．０２５質量部）とリン酸二水素ナトリウム２水和物の５質量％エチレングリコール溶液を０．３質量部（リン酸二水素ナトリウム２水和物として０．０１５質量部）添加した。
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットを得た（原料−１）。
（２−ａ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９５質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ａ）を得た。
（２−ｂ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を得た。
（２−ｃ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子の２質量％水スラリーを５質量部（架橋ポリスチレン粒子として０．１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を得た。
（２−ｄ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を得た。
（２−ｅ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｃ）と同様の方法で平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を得た。
（２−ｆ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｆ）を得た。
（２−ｇ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を得た。
（２−ｈ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子を用いたこと以外は、（２−ａ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．１０μｍのコロイダルシリカ粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を得た。
（２−ｉ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（コロイダルシリカ粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｉ）を得た。
（３）２成分組成物（ＰＥＴ／ＰＥＩ）ペレットの作製：温度２８０℃に加熱されたニーディングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、上記方法で得られたＰＥＴペレット（原料−１）とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のＰＥＩ“Ｕｌｔｅｍ”（登録商標）１０１０のペレットを供給して、剪断速度１００ｓｅｃ−１、滞留時間１分にて溶融押出し、ＰＥＩを５０質量％含有した２成分組成物ペレットを得た。なお、作製した２成分組成物ペレットのガラス転移温度は１５０℃であった（原料−３）。
（実施例１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、入り側を２５５℃、出側を２７５℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を７４質量部、数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）２０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、Ａ層で用いたＰＥＴペレット（原料−１）を６１質量部、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）２３質量部、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）１０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。さらに押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、２７０℃の繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）で濾過した。
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、入り側を２５５℃、出側を２７５℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を７４質量部、数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）２０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、Ａ層で用いたＰＥＴペレット（原料−１）を６１質量部、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）２３質量部、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）１０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。さらに押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、２７０℃の繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）で濾過した。
なお、このフィルターは全体をリーフディスク状とし、最表層を中抜き円盤状の繊維焼結ステンレスフィルター、次に繊維焼結ステンレスフィルターの内側に中層として中抜き円盤状の粉末焼結ステンレスフィルター、さらに粉末焼結ステンレスフィルターの内側に最内層として中抜き円盤状の支持部材を配置し、繊維焼結ステンレスフィルターおよび粉末焼結ステンレスフィルターの外周縁は前記支持部材の外周縁をこえる部分で挟圧し、かつこの接圧部分の周縁を溶接、溶融によって接合せしめたものである。また中抜き部分には繊維焼結ステンレスフィルター、粉末焼結ステンレスフィルター、網状体に接してリング状の金属ブロックで構成され、円周外面から円周内面に貫通させた複数の孔を設けたハードハブを配置した。また繊維焼結ステンレスフィルターは直径３μｍ、アスペクト比１０のステンレス鋼短繊維を焼結したもの、粉末焼結ステンレスフィルターは直径１５μｍのステンレス鋼粒子を焼結したもの、支持部材は直径０．３ｍｍのステンレス線を１２メッシュに織成したシート状の織物体を使用した。
このリーフディスク状のフィルターを中抜き部分にセンターポスト（断面が円形で中空の柱状、かつ外面から内面に貫通させた複数の孔を設けた）を通して、所定容積を持つハウジング容器内のセンターポストに沿って多段に積み重ねて収容し、フィルター装置とした。このフィルター装置の上部から溶融ポリマーを流入させ、繊維焼結／粉末焼結積層ステンレスフィルターの繊維焼結ステンレスフィルター、粉末焼結ステンレスフィルター、支持部材、ハードハブの孔、センターポストの孔、センターポストの中空部、最終的にフィルター装置の下部から濾過された溶融ポリマーが流出せしめた。
また押出機Ｅ２でＢ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度６．０μｍ）で濾過した。当該フィルターは直径６μｍ、アスペクト比１０のステンレス鋼短繊維を焼結した、円筒状フィルターを使用し、ハウジング容器に収容したフィルター装置とした。
次いでＡ層とＢ層を２層積層するべく矩形の２層用合流ブロック中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝７｜１とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させた後、２９５℃に保ったスリットダイを介して表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１３℃で長手方向に３．１倍延伸した（ＭＤ延伸１）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９２℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．４倍延伸した（ＴＤ延伸１）。
得られた二軸延伸フィルムをロール式延伸機にて１４２℃で長手方向に１．３３倍延伸した（ＭＤ延伸２）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
さらに続いて１９２℃の温度の加熱ゾーンでに幅方向に１．３２倍延伸した（ＴＤ延伸２）。引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで２０７℃の温度で１０秒間の熱処理を施し、さらに１５０℃の温度で２．７％幅方向に弛緩処理を行った。次いで、２５℃に均一に冷却後、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ５．０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。この二軸延伸ポリエステルフィルムの製造条件について、原料組成および厚み関係を表１に、ポリマーフィルターおよび製膜関係を表２に示す。また得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示す通り、表面Ａの３次元表面粗さｓＲａ−Ａ、高突起個数密度が本願規定の範囲内であり、磁気テープとして使用した際に電磁変換特性、エラーレートに優れた特性を有していた。また磁気テープの幅寸法安定性、およびフィルム製膜性、スリット性、歩留まりにも優れていた。
（実施例２）
表１の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
表１の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
（実施例３）
表１の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの、各特性に優れた特性を有していた。
表１の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの、各特性に優れた特性を有していた。
（実施例４）
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
（実施例５）
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｆ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｆ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
（実施例６）
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性、およびフィルム製膜性、歩留まりがやや劣るものの各特性に優れていた。
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性、およびフィルム製膜性、歩留まりがやや劣るものの各特性に優れていた。
（実施例７）
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、およびＭＤ延伸２の温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、およびＭＤ延伸２の温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
（実施例８）
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を使用して、不活性粒子Ａの含有量、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにスリット性、歩留まりにやや劣るものの各特性に優れており、特に磁気テープのエラーレートに優れていた。
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を使用して、不活性粒子Ａの含有量、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにスリット性、歩留まりにやや劣るものの各特性に優れており、特に磁気テープのエラーレートに優れていた。
（実施例９）
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
表１の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
（実施例１０）
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性以外はやや劣るものの各特性に優れていた。
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性以外はやや劣るものの各特性に優れていた。
（実施例１１）
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、およびＭＤ延伸２の温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性がやや劣るものの各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
表２の通り、製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、およびＭＤ延伸２の温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性がやや劣るものの各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
（実施例１２）
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２８０℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２８０℃としたこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性、歩留まりが製膜後期でやや劣るものの、それ以外の各特性は優れていた。
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２８０℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２８０℃としたこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性、歩留まりが製膜後期でやや劣るものの、それ以外の各特性は優れていた。
（実施例１３）
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２７５℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２６５℃としたこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性、歩留まりが製膜後期でやや劣るものの、それ以外の各特性は優れていた。
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２７５℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２６５℃としたこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにフィルム製膜性、歩留まりが製膜後期でやや劣るものの、それ以外の各特性は優れていた。
（比較例１）
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用し、さらに平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にスリット性、歩留まりが悪化してしまい、実用的にスリット、生産が不可と判断した。また製膜［２］のフィルムでは、磁気テープ作製時のキズが多発した他、歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用し、さらに平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にスリット性、歩留まりが悪化してしまい、実用的にスリット、生産が不可と判断した。また製膜［２］のフィルムでは、磁気テープ作製時のキズが多発した他、歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
（比較例２）
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｉ）を使用して不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、特に磁気テープの電磁変換特性、エラーレートに劣り、磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｉ）を使用して不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、特に磁気テープの電磁変換特性、エラーレートに劣り、磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
（比較例３）
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にフィルム製膜時、磁気テープ作製時にキズが多発してしまい歩留まりに劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
表１の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更し、また表２の通り、押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にフィルム製膜時、磁気テープ作製時にキズが多発してしまい歩留まりに劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
（比較例４）
表１の通り平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用して、不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過し、さらに製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、磁気テープのエラーレート、幅寸法安定性にやや劣る他、特にフィルム製膜時、磁気テープ作製時にキズが多発してしまい歩留まりに劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
表１の通り平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用して、不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過し、さらに製膜条件のうち長手方向、幅方向の延伸倍率、および熱固定温度を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの電磁変換特性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、磁気テープのエラーレート、幅寸法安定性にやや劣る他、特にフィルム製膜時、磁気テープ作製時にキズが多発してしまい歩留まりに劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
（比較例５）
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの電磁変換特性、エラーレート、および磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの電磁変換特性、エラーレート、および磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。また歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として増加していた。
（比較例６）
表１の通り平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用して、不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度０．０８μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの、電磁変換特性および幅寸法安定性には優れるが、エラーレート、スリット性がやや劣り、特にフィルム製膜性、歩留まりに劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、製膜［２］では圧力変動時にＴダイから積層未延伸フィルムと共に泡が発生して破れやすかった。また歩留まりについては、磁気テープ作製時にキズが多発した。
表１の通り平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用して、不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更し、また表２の通り押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）の代わりに、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度０．０８μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの、電磁変換特性および幅寸法安定性には優れるが、エラーレート、スリット性がやや劣り、特にフィルム製膜性、歩留まりに劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、製膜［２］では圧力変動時にＴダイから積層未延伸フィルムと共に泡が発生して破れやすかった。また歩留まりについては、磁気テープ作製時にキズが多発した。
（比較例７）
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）と、粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）を使用して、各フィルターを別々にハウジング容器内に収容し、金属配管で連結させた２台のフィルター装置（上流側を繊維焼結ステンレスフィルター、下流側を粉末焼結ステンレスフィルター）で濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレート、スリット性、歩留まりがやや劣り、特に製膜［２］でのフィルム製膜性にも劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、また製膜［２］では圧力変動時にフィルム厚みの変動が大きく、破れやすかった。
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）と、粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）を使用して、各フィルターを別々にハウジング容器内に収容し、金属配管で連結させた２台のフィルター装置（上流側を繊維焼結ステンレスフィルター、下流側を粉末焼結ステンレスフィルター）で濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレート、スリット性、歩留まりがやや劣り、特に製膜［２］でのフィルム製膜性にも劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、また製膜［２］では圧力変動時にフィルム厚みの変動が大きく、破れやすかった。
（比較例８）
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、特に磁気テープのエラーレートに劣り、磁気テープの電磁変換特性、および製膜［２］のフィルムでは磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。
押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）のみで濾過したこと以外は実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、特に磁気テープのエラーレートに劣り、磁気テープの電磁変換特性、および製膜［２］のフィルムでは磁気テープ作製の歩留まりがやや劣っていた。
（比較例９）
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２８０℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２８０℃としたこと以外は比較例５と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性の製膜初期、スリット性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレートにやや劣っていた。またフィルム製膜性の製膜［２］がやや劣り、歩留まりは製膜［１］でやや劣る程度であったものが、製膜［２］では特に劣っていた。更に歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として大幅に増加していた。
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２８０℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２８０℃としたこと以外は比較例５と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性の製膜初期、スリット性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレートにやや劣っていた。またフィルム製膜性の製膜［２］がやや劣り、歩留まりは製膜［１］でやや劣る程度であったものが、製膜［２］では特に劣っていた。更に歩留まりについて製膜［２］のフィルムは変性ポリマーが有機系異物として大幅に増加していた。
（比較例１０）
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２７５℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２６５℃としたこと以外は比較例５と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、スリット性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレートにやや劣っていた。またフィルム製膜性の製膜［１］では、歩留まりがやや劣り、フィルム製膜性の製膜［２］が特に劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、また圧力変動時にフィルム厚みの変動が大きいため破れやすかったが、製膜［２］でより悪化した。
表２の通り、Ａ層側の押出系温度について、押出機Ｅ１の入り側を２８０℃、出側を２７５℃とし、ポリマーフィルター（繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ））の温度を２６５℃としたこと以外は比較例５と同様に製膜を行い、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面Ａの高突起個数密度が本願規定の範囲外であり、磁気テープの幅寸法安定性、スリット性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性、エラーレートにやや劣っていた。またフィルム製膜性の製膜［１］では、歩留まりがやや劣り、フィルム製膜性の製膜［２］が特に劣っていた。製膜性については、ポリマー圧力制御が難しく、また圧力変動時にフィルム厚みの変動が大きいため破れやすかったが、製膜［２］でより悪化した。
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
Claims (7)
- ２層以上の層構成を有し、一方の表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜１０ｎｍであり、高さ３０ｎｍ以上の高突起個数密度が０．５〜２００個／０．０５ｍｍ２であり、かつ高さ４０ｎｍ以上の高突起個数密度が３０個／０．０５ｍｍ２未満である二軸配向ポリエステルフィルム。
- 表面Ａ側に位置する層（Ａ層）が平均粒径（ｄＡ）０．０１〜０．６μｍの不活性粒子Ａを０．０１〜０．５０質量％含有する、請求項１に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
- 他方の表面（表面Ｂ）側に位置する層（Ｂ層）が、平均粒径（ｄＢ１）０．１〜１．０μｍ、かつ不活性粒子Ａより平均粒径が０．０５〜０．４μｍ大きい不活性粒子Ｂ１を０．０８〜２．０質量％含有し、更に平均粒径（ｄＢ２）０．３〜２．０μｍ、かつ不活性粒子Ｂ１より平均粒径が０．２〜１．０μｍ大きい不活性粒子Ｂ２を０．００１〜０．１０質量％含有し、Ｂ層側表面の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが１０〜４０ｎｍである、請求項１または２に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
- 長手方向のヤング率（Ｙ−ＭＤ）が３．５〜１０ＧＰａであり、横方向のヤング率（Ｙ−ＴＤ）が３〜１０ＧＰａであり、横方向のヤング率に対する長手方向のヤング率の比率（Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤ）が０．４〜１．５である、請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
- ポリエステルの主成分がポリエチレンテレフタレートである、請求項１〜４のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
- 塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いられる、請求項１〜５のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
- 請求項６に記載の二軸配向ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体。
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