JP6749463B2 - 促進酸化処理方法及び促進酸化処理装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明に従う促進酸化処理方法を行う代表的な促進酸化処理装置の一例の概略構成を示す。ここで、図1に示す促進酸化処理装置100は被処理水を処理する。促進酸化処理装置100は、促進酸化処理槽20、及び臭素酸イオン濃度測定装置50を備える。促進酸化処理装置100は、自然流下又はポンプ送水により導入口(図示しない)を経て装置100内に被処理水を導入し(図1の矢印1)、促進酸化処理槽20にて被処理水に対して過酸化水素及びオゾンを接触させた後に、排出口(図示しない)より系外へと排出する(図1の矢印2)。このとき、促進酸化処理槽20に注入される過酸化水素の量は、臭素酸イオン濃度測定装置50により得た臭素酸イオン濃度の測定値に基づいて、調節される。なお、以下において、促進酸化処理装置100において導入口側を「前段側」、排出口側を「後段側」と称することがある。
促進酸化処理装置100の処理対象である被処理水としては、特に限定されることなく、例えば、水道水用の原水が挙げられる。具体的には、被処理水としては、ダムや河川等から取水した水、湖沼水、井戸水、湧水、及び地下水等が挙げられる。さらに、被処理水は、有機物や、臭素含有成分を含有する分解対象物質を含む。被処理水中における臭化物イオンの濃度は、例えば、被処理水が海水や工業排水等の影響を受けやすい場合や、塩分を含む地下水等の場合には、高くなる傾向がある。
導入口を経てオゾン接触槽10内に導入される被処理水の水質は、被処理水水質監視装置52によって監視されることが好ましい。被処理水水質監視装置52により取得した被処理水の水質は、オゾン接触工程及び促進酸化処理工程において供給する合計オゾン供給量の決定に用いられうる。被処理水水質監視装置52は、特に限定されることなく、例えば、温度計、COD(Chemical Oxygen Demand)測定装置、UV(Ultra Violet)計、及びpH計などの、既知のあらゆる水質測定センサにより実装することができる。これらのセンサは複数を組み合わせて用いることももちろん可能である。
オゾン接触槽10は、被処理水に対してオゾンを接触させるオゾン接触工程を行う。オゾン接触槽10は、オゾン発生装置40により生成されたオゾンを、第1オゾン散気装置41を介して槽内へと導入する。なお、オゾン接触槽10は、通常使用される一般的なオゾン接触槽でありうる。被処理水とオゾンとの接触は、例えば、微小な気泡として槽内へ導入されたオゾンが被処理水内を流動することにより行われる。この際、被処理水とオゾンとの接触効率を向上すべく、撹拌、気泡の微小化や、オゾン導入速度の調節等を適宜実施することができる。このようにして、被処理水と接触されたオゾンは、一部が被処理水中の分解対象物質と反応してこれらを分解し、残りは被処理水中に溶解する。
オゾン接触槽10を経た被処理水中における溶存オゾン濃度は、オゾン接触槽10の後段側であって促進酸化処理槽20の前段側に備えられた溶存オゾン濃度測定装置51によって測定される。溶存オゾン濃度測定装置51は、被処理水中に溶解したオゾン濃度を測定可能な限りにおいて特に限定されることなく、既知のあらゆる溶存オゾン計により実装することができる。
オゾン接触槽10においてオゾンと接触された被処理水は、促進酸化処理槽20へと供給される。促進酸化処理槽20は、オゾン接触槽10と同様に、オゾン発生装置40により生成されたオゾンを、第2オゾン散気装置42を介して槽内へと導入する。そして、促進酸化処理槽20は、過酸化水素注入装置60により供給された過酸化水素及びオゾンを、被処理水と接触させる。このとき、促進酸化処理槽20内では、オゾンと過酸化水素とが反応することで、オゾンよりも酸化力の強いヒドロキシラジカルが生成される。かかるヒドロキシラジカルにより、被処理水中における分解対象物質、特に、オゾン接触槽10にて分解しきれなかった難分解性物質が分解されうる。さらに、上記ヒドロキシラジカルの生成によりオゾンが分解されるので、オゾンが過剰となり臭素含有成分とオゾンとが反応して臭素酸イオンが生成されることを抑制することができる。なお、促進酸化処理槽20及び過酸化水素注入装置60としては、一般的なものを使用することができる。
過酸化水素注入装置60は、臭素酸イオン濃度測定装置50により得られた、促進酸化処理槽20を経た被処理水中における臭素酸イオン濃度の測定値に基づいて、促進酸化処理槽20に対して過酸化水素を供給する。図1では、促進酸化処理槽20の前段側で過酸化水素を被処理水中に供給する態様を示すが、オゾン接触水槽及び溶存オゾン濃度測定位置の後段側であって、促進酸化処理槽20までの位置において被処理水中に過酸化水素を供給可能な限りにおいて、特に限定されることなく、あらゆる配置とすることができる。例えば、過酸化水素を促進酸化処理槽20に対して直接投入するように、過酸化水素注入装置60を構成することももちろん可能である。なお、過酸化水素注入装置60は、特に限定されることなく、水処理装置に設置可能な一般的な薬品注入手段として実装することができ、例えば、過酸化水素貯蔵タンク、供給ポンプ及び流量調節バルブ等により実装することができる。
オゾン発生装置40は、オゾン供給管80を介して第1オゾン散気装置41及び第2オゾン散気装置42と連通されており、これらを介してオゾン接触槽10及び促進酸化処理槽20に対してオゾンガスを供給する。第1オゾン散気装置41及び第2オゾン散気装置42は、例えば、空孔を有する散気管やメンブレン散気管などにより構成することができる。そして、オゾン供給管80は、第1オゾン量調節装置81及び第2オゾン量調節装置82を備えることが好ましい。第1及び第2オゾン量調節装置81及び82は、オゾン接触槽10及び促進酸化処理槽20に供給するオゾン量をそれぞれ調節できる限りにおいて特に限定されることなく、例えば、流量調節バルブとして構成されうる。第1及び第2オゾン量調節装置81及び82が流量調節バルブとして構成される場合には、流量調節バルブの開度を種々変更することにより、各槽10及び20に供給するオゾン量を調節することができる。また、オゾン発生装置40への制御信号(電気信号)を用いて、オゾンガス流量は変えずに発生オゾンガスの濃度を制御する方法も適用可能である。なお、オゾン発生装置40としては、特に限定されることなく、例えば、放電現象により発生する電子により酸素をオゾンに変換する既知のオゾン発生装置を用いることができる。
活性炭処理槽30では、促進酸化処理槽20を経た被処理水中に残留した有機物等を活性炭に吸着させることも可能である。活性炭処理槽30としては、特に限定されることなく、例えば、活性炭吸着池のような一般的に使用されうる構成を採用することができる。
臭素酸イオン濃度測定装置50は、促進酸化処理槽20を経た被処理水中における臭素酸イオン濃度を測定する。ここで、図1では、1台の臭素酸イオン濃度測定装置50を活性炭処理槽30の後段に配置して、活性炭処理槽30における処理を経た後の被処理水中における臭素酸イオン濃度を測定する態様を図示している。しかし、本実施形態による促進酸化処理装置100は、少なくとも促進酸化処理槽20の後段側における臭素酸イオン濃度を測定するための機構を有する限りにおいて特に限定されることなく、あらゆる位置に1台又は複数台の臭素酸イオン濃度測定装置50を配置することができる。例えば、2台の臭素酸イオン濃度測定装置50を促進酸化処理装置100に実装する場合には、1台は図1に示した臭素酸イオン濃度測定装置50のように配置して、もう1台は、オゾン接触槽10の後段であって促進酸化処理槽20の前段における被処理水中の臭素酸イオンの濃度を測定可能な位置に配置することができる位置に配置することができる。例えば、臭素酸イオン濃度測定装置50を2台備える構成においては、測定位置の異なる2つの測定装置により得られた測定値を比較することで、臭素酸イオンの発生位置を絞り込み、臭素酸イオンの発生が大きい位置でのオゾン量を低減するように調節することができる。
さらに、促進酸化処理装置100は、制御装置70を備えることが好ましい。制御装置70は、さらに、オゾン供給量制御装置71及び過酸化水素供給量制御装置72を備えることが好ましい。制御装置70、オゾン供給量制御装置71及び過酸化水素供給量制御装置72は、特に限定されることなく、CPU(Central Processing Unit)等により構成することができ、図示しないが内蔵又は外付けの記憶部(例えば、メモリ)等を備えうる。
まず、あらかじめ蓄積されているデータ等に基づいて、オゾン接触工程及び促進酸化処理工程において供給するオゾン量の合計量、かかる合計量についてオゾン接触工程(本例では、オゾン接触槽10)及び促進酸化処理工程(本例では、促進酸化処理槽20)への分配比率、並びに促進酸化処理工程での過酸化水素投入量等を決定する。また、同様に、所与のデータ等に基づいて、オゾン接触処理後促進酸化処理前における被処理水中の溶存オゾン量の好適範囲を決定する。さらに、促進酸化処理後における臭素酸イオンの許容濃度は、要求される水質基準に応じてあらかじめ決定する。
20 促進酸化処理槽
30 活性炭処理槽
40 オゾン発生装置
41,42 オゾン散気装置
50 臭素酸イオン濃度測定装置
51 溶存オゾン濃度測定装置
52 被処理水水質監視装置
60 過酸化水素注入装置
70 制御装置
71 オゾン供給量制御装置
72 過酸化水素供給量制御装置
80 オゾン供給管
81,82 オゾン量調節装置
100 促進酸化処理装置
Claims (3)
- 被処理水に対してオゾンを接触させるオゾン接触工程と、
前記オゾン接触工程を経た前記被処理水に対して、過酸化水素及びオゾンを接触させる、促進酸化処理工程と、
前記促進酸化処理工程を経た前記被処理水中における臭素酸イオン濃度を測定する、臭素酸イオン濃度測定工程と、
を含み、前記臭素酸イオン濃度の測定値に基づいて、前記促進酸化処理工程での前記過酸化水素の供給量を調節するとともに、
前記オゾン接触工程及び前記促進酸化処理工程における合計オゾン供給量を、前記臭素酸イオン濃度の測定値とは独立して調節する、促進酸化処理方法。 - 前記オゾン接触工程の前に前記被処理水の水質を監視する被処理水水質監視工程をさらに含み、前記合計オゾン供給量は、前記被処理水水質監視工程で取得した前記被処理水の水質に基づいて決定され、
前記合計オゾン供給量が増加した場合に、追従して前記促進酸化処理工程での前記過酸化水素の供給量を増加させる、
請求項1に記載の促進酸化処理方法。 - 被処理水に対してオゾンを接触させる、オゾン接触槽と、
前記オゾン接触槽を経た前記被処理水に対して、過酸化水素及びオゾンを接触させる、促進酸化処理槽と、
前記促進酸化処理槽を経た前記被処理水中における臭素酸イオン濃度を測定する、臭素酸イオン濃度測定装置と、
前記臭素酸イオン濃度測定装置により測定した臭素酸イオン濃度の測定値に基づいて、前記促進酸化処理槽での前記過酸化水素の供給量を調節する過酸化水素供給量制御装置と、
前記オゾン接触槽及び前記促進酸化処理槽における合計オゾン供給量を、前記臭素酸イオン濃度の測定値とは独立して調節する、オゾン供給量制御装置と、
を備える、促進酸化処理装置。
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