JP4835498B2 - 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム - Google Patents
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(1) 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置とを有する超純水製造用水処理装置において、該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、を備えた超純水製造用水処理装置であって、前記被処理物質は有機物であり、前記ガスは酸素であり、前記測定手段は、溶存酸素濃度を前記ガス成分添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものである超純水製造用水処理装置
(2) 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置とを有する超純水製造用水処理装置において、該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、を備えた超純水製造用水処理装置であって、前記被処理物質は有機物であり、前記ガスは酸素であり、前記測定手段は、溶存酸素濃度及び溶存有機物濃度を前記添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものである超純水製造用水処理装置
第1図に示すシステムを次の条件で稼動させた。
補給水中の溶存酸素濃度…1.5ppb
低圧UVランプ…日本フォトサイエンス社製 低圧UVランプ
酸素供給装置…栗田工業(株)製酸素水供給装置
TOC計…シーバース社シーバース500RL
溶存酸素計…ハックウルトラアナリティクスジャパン製溶存酸素計モデル3610
ポンプ4からの送水量…6m3/h
超純水中要求酸素濃度…5ppb以下
超純水中要求TOC濃度…3ppb以下
この参考例1では、溶存酸素計13でポンプ4吐出水中の溶存酸素濃度を測定し、この測定値に基づいて、酸素供給装置5からの注入量を制御し、UV照射装置一次側の溶存酸素濃度から1ppb増加させた。UV照射装置一次側の溶存酸素濃度は1ppbであった。
参考例1の運転を継続した後、酸素供給装置5から酸素注入を停止して比較例の運転を行った。酸素注入を停止した時点から、ユースポイントへ供給される超純水中のTOC濃度は上がり始め、最終的には超純水中のTOC濃度は4ppbにまで上昇した。
第2図に示すシステムを次の条件で稼動させた。その他の条件は参考例1と同一である。
溶存水素計…ハックウルトラアナリティクスジャパン製溶存水素計モデル3600
溶存過酸化水素計…栗田工業(株)製過酸化水素モニター
貯留槽2からの純水中の溶存水素濃度…0ppb
貯留槽2からの純水中の溶存過酸化水素濃度…0ppb
溶存水素計21の検出値が10ppbとなるように水素溶解水を水素供給装置20から添加した。その結果、過酸化水素計22の検出過酸化水素濃度は5ppbとなった。
実施例1の運転を継続した後、水素供給装置20からの水素添加を停止した。その結果、過酸化水素計22の検出値は20ppbにまで上昇した。
6 紫外線照射装置
7 膜脱気装置
8 イオン交換装置
9 限外濾過装置
20 水素供給装置
Claims (2)
- 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、
該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置と
を有する超純水製造用水処理装置において、
該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、
該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、
を備えた超純水製造用水処理装置であって、
前記ガスは水素であり、
前記被処理水中の被処理物質は過酸化水素であり、
前記測定手段は、前記紫外線照射装置からの水中の溶存水素濃度を測定するものである
ことを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 第1の超純水製造用水処理装置と、該第1の超純水製造用水処理装置からの処理水を処理する第2の超純水製造用水処理装置とを備えてなる超純水製造用水処理システムにおいて、
該第1の超純水製造用水処理装置は下記(1)又は(2)に記載の超純水製造用水処理装置であり、
該第2の超純水製造用水処理装置は請求項1に記載の超純水製造用水処理装置であることを特徴とする超純水製造用水処理システム。
(1) 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、
該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置とを有する超純水製造用水処理装置において、
該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、
該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、を備えた超純水製造用水処理装置であって、
前記被処理物質は有機物であり、前記ガスは酸素であり、
前記測定手段は、溶存酸素濃度を前記ガス成分添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものである超純水製造用水処理装置
(2) 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、
該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置とを有する超純水製造用水処理装置において、
該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、
該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、を備えた超純水製造用水処理装置であって、
前記被処理物質は有機物であり、前記ガスは酸素であり、
前記測定手段は、溶存酸素濃度及び溶存有機物濃度を前記添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものである超純水製造用水処理装置
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