JP2008264630A - 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム - Google Patents
超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008264630A JP2008264630A JP2007108417A JP2007108417A JP2008264630A JP 2008264630 A JP2008264630 A JP 2008264630A JP 2007108417 A JP2007108417 A JP 2007108417A JP 2007108417 A JP2007108417 A JP 2007108417A JP 2008264630 A JP2008264630 A JP 2008264630A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- gas
- ultrapure water
- treated
- water treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
【解決手段】超純水の原水は貯留槽2に貯められ、供給配管3、供給ポンプ4を経由して送水され、酸素供給装置5によって酸素が添加された後、UV照射装置6、膜脱気装置7、イオン交換装置8、限外濾過装置9でそれぞれ処理が行われ、ユースポイントへ超純水が供給される。UV照射装置6の一次側のTOC濃度挙動に応じて、溶存酸素計13からの信号に基づいて酸素供給装置5からの酸素量を制御する。
【選択図】図1
Description
第1図に示すシステムを次の条件で稼動させた。
補給水中の溶存酸素濃度…1.5ppb
低圧UVランプ…日本フォトサイエンス社製 低圧UVランプ
酸素供給装置…栗田工業(株)製酸素水供給装置
TOC計…シーバース社シーバース500RL
溶存酸素計…ハックウルトラアナリティクスジャパン製溶存酸素計モデル3610
ポンプ4からの送水量…6m3/h
超純水中要求酸素濃度…5ppb以下
超純水中要求TOC濃度…3ppb以下
この実施例1では、溶存酸素計13でポンプ4吐出水中の溶存酸素濃度を測定し、この測定値に基づいて、酸素供給装置5からの注入量を制御し、UV照射装置一次側の溶存酸素濃度から1ppb増加させた。UV照射装置一次側の溶存酸素濃度は1ppbであった。
実施例1の運転を継続した後、酸素供給装置5から酸素注入を停止して比較例の運転を行った。酸素注入を停止した時点から、ユースポイントへ供給される超純水中のTOC濃度は上がり始め、最終的には超純水中のTOC濃度は4ppbにまで上昇した。
第2図に示すシステムを次の条件で稼動させた。その他の条件は実施例1と同一である。
溶存水素計…ハックウルトラアナリティクスジャパン製溶存水素計モデル3600
溶存過酸化水素計…栗田工業(株)製過酸化水素モニター
貯留槽2からの純水中の溶存水素濃度…0ppb
貯留槽2からの純水中の溶存過酸化水素濃度…0ppb
溶存水素計21の検出値が10ppbとなるように水素溶解水を水素供給装置20から添加した。その結果、過酸化水素計22の検出過酸化水素濃度は5ppbとなった。
実施例2の運転を継続した後、水素供給装置20からの水素添加を停止した。その結果、過酸化水素計22の検出値は20ppbにまで上昇した。
6 紫外線照射装置
7 膜脱気装置
8 イオン交換装置
9 限外濾過装置
20 水素供給装置
Claims (6)
- 被処理水にガス又はガス溶解水を添加するガス成分添加手段と、
該ガス成分添加手段からの水に紫外線を照射して水中の被処理物質を分解する紫外線照射装置と
を有する超純水製造用水処理装置において、
該紫外線照射装置の前段又は後段に設けられた、水中の被処理物質濃度、ガス成分濃度又は生成物濃度を測定する測定手段と、
該測定手段の測定結果に基づいて前記ガス成分添加手段によるガス又はガス溶解水の添加量を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 請求項1において、
前記被処理物質は有機物であり、
前記ガスは酸素であり、
前記測定手段は、溶存酸素濃度を前記ガス成分添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものであることを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 請求項1において、
前記被処理物質は有機物であり、
前記ガスは酸素であり、
前記測定手段は、溶存酸素濃度及び溶存有機物濃度を前記添加手段の前段及び前記紫外線照射装置の後段の少なくとも一方で測定するものであることを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 請求項1において、
前記ガスは水素であり、
前記被処理水中の被処理物質は過酸化水素であり、
前記測定手段は、前記紫外線照射装置からの水中の溶存水素濃度を測定するものであることを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 請求項1において、
前記ガスは水素であり、
前記被処理水中の被処理物質は過酸化水素であり、
前記測定手段は、前記紫外線照射装置からの水中の溶存過酸化水素濃度を測定するものであることを特徴とする超純水製造用水処理装置。 - 第1の超純水製造用水処理装置と、該第1の超純水製造用水処理装置からの処理水を処理する第2の超純水製造用水処理装置とを備えてなる超純水製造用水処理システムにおいて、
該第1の超純水製造用水処理装置は請求項2又は3に記載の超純水製造用水処理装置であり、
該第2の超純水製造用水処理装置は請求項4又は5に記載の超純水製造用水処理装置であることを特徴とする超純水製造用水処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007108417A JP4835498B2 (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007108417A JP4835498B2 (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011171580A Division JP2011240344A (ja) | 2011-08-05 | 2011-08-05 | 超純水製造用水処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008264630A true JP2008264630A (ja) | 2008-11-06 |
JP4835498B2 JP4835498B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=40044899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007108417A Expired - Fee Related JP4835498B2 (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4835498B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011167633A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び装置 |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
JP2016215150A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03165889A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Ebara Infilco Co Ltd | 残留殺菌剤の除去方法 |
JPH0440292A (ja) * | 1990-06-06 | 1992-02-10 | Nakano Koji | 有機物と溶存酸素とを同時に除去する方法 |
JPH04267993A (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-24 | Ebara Res Co Ltd | 純水又は超純水の溶存酸素の除去方法 |
-
2007
- 2007-04-17 JP JP2007108417A patent/JP4835498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03165889A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Ebara Infilco Co Ltd | 残留殺菌剤の除去方法 |
JPH0440292A (ja) * | 1990-06-06 | 1992-02-10 | Nakano Koji | 有機物と溶存酸素とを同時に除去する方法 |
JPH04267993A (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-24 | Ebara Res Co Ltd | 純水又は超純水の溶存酸素の除去方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011167633A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び装置 |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
JP2016215150A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4835498B2 (ja) | 2011-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3491666B2 (ja) | Toc成分除去の制御方法及び装置 | |
TWI732970B (zh) | 水處理方法及水處理裝置 | |
WO2000064568A1 (fr) | Appareil de production d'eau contenant de l'ozone dissous | |
KR101476864B1 (ko) | 유기물 제거 방법 및 장치 | |
TW201829321A (zh) | 水處理方法及水處理裝置 | |
JP5441714B2 (ja) | 純水の製造方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 | |
JP2014168743A (ja) | 純水製造方法 | |
JP5750236B2 (ja) | 純水製造方法及び装置 | |
JP4835498B2 (ja) | 超純水製造用水処理装置及び超純水製造用水処理システム | |
JP4635827B2 (ja) | 超純水製造方法および装置 | |
JP4978275B2 (ja) | 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 | |
JP5678436B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
JP3849766B2 (ja) | 有機物含有水の処理装置及び処理方法 | |
JP2011240344A (ja) | 超純水製造用水処理装置 | |
JP3506171B2 (ja) | Toc成分の除去方法及び装置 | |
JP2016005829A (ja) | 超純水製造方法および超純水製造装置 | |
JP4519930B2 (ja) | 超純水製造方法及び超純水製造装置 | |
JP2001113291A (ja) | 有機物含有水の処理装置 | |
JP2006192352A (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
JP5512358B2 (ja) | 純水製造方法及び装置 | |
JP2008173617A (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP2000308815A (ja) | オゾン溶解水の製造装置 | |
JP5720122B2 (ja) | 超純水製造システム | |
JPH09253639A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2010227886A (ja) | 純水製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100405 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110830 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110912 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4835498 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |