JP4978275B2 - 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 - Google Patents
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Description
SO4・−+e−→SO4 2−
2SO4・−+e−→SO4 2−
図1の装置を用い、一次純水製造プロセス水の模擬水の処理を行った。
10%H2SO4と10%H2O2とをライン混合(実施例4)又はバッチ混合(比較例3)した後、模擬水に添加したこと以外は実施例1〜3と同様にして、模擬水の処理を行った。
2 酸化剤除去装置
3 脱気装置
4 イオン交換装置
5 硫酸注入装置
6 過酸化水素注入装置
7 TOC測定器
20 電解酸化装置
Claims (7)
- ペルオキソ硫酸を生成させる生成工程と、
一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加工程と、
該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する分解工程と
を含む一次純水製造プロセス水の処理方法であって、
前記ペルオキソ硫酸がペルオキソ一硫酸であり、
前記生成工程において、硫酸水溶液と過酸化水素水とをライン混合することによりペルオキソ一硫酸を生成させることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。 - 請求項1において、前記添加工程において、該一次純水製造プロセス水に対して前記ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が5〜30mg/Lとなるように添加することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- 請求項1又は2において、前記添加工程の前段において、前記一次純水製造プロセス水に含まれる易分解性有機物を除去する工程を有することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記一次純水製造プロセス水は、逆浸透膜処理を直列に2段以上有する超純水製造プロセスにおいて1段目の逆浸透膜処理を行った後の処理水であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- ペルオキソ硫酸を生成させる生成手段と、
一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加手段と、
該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する紫外線照射装置と
を含む一次純水製造プロセス水の処理装置であって、
前記生成手段は、硫酸水溶液と過酸化水素水とをライン混合することによりペルオキソ一硫酸を生成させるライン混合手段であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。 - 請求項5において、前記添加手段の前段において、前記一次純水製造プロセス水に含まれる易分解性有機物を除去する易分解性有機物除去手段を有することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。
- 請求項6において、易分解性有機物除去手段が逆浸透膜装置であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。
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