JP2023000376A - 純水製造装置及び純水製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理水の良好な水質を確保することが可能で、且つ経済的な純水製造装置を提供する。【解決手段】純水製造装置１は、有機物を含む被処理水に、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加する硫黄化合物添加手段１９と、硫黄化合物が添加された被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置１５と、紫外線が照射された被処理水が通水される逆浸透膜装置１６と、逆浸透膜装置１６で処理された被処理水が通水されるイオン交換樹脂充填装置１７と、を有する。【選択図】図１
Description
本発明は純水製造装置と純水製造方法に関する。
純水水質への高度な要求が顕在化するに伴って、近年、純水に含まれる微量の有機物を分解し除去する様々な方法が検討されている。そのような方法の代表的なものとして、紫外線酸化処理による有機物の分解除去工程が知られている。特許文献１には、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を被処理水に添加し、その後被処理水に紫外線を照射することで、被処理水に含まれる有機物を分解除去する技術が開示されている。また、特許文献１には、紫外線の照射された処理水に残存するペルオキシド基を含む硫黄化合物を除去し、その後、イオン交換樹脂充填装置によって脱イオン処理を行うことが開示されている。予め硫黄化合物を除去することで、イオン交換樹脂充填装置の樹脂の酸化劣化を防止することができる。硫黄化合物を除去する方法として、還元剤の添加、活性炭塔の設置、パラジウム、白金等を担持させた触媒塔の設置などが開示されている。
硫黄化合物の除去手段として活性炭や触媒を使用する場合、活性炭や触媒自体が酸化剤により劣化し、処理水の水質を悪化させる可能性がある。また、還元剤を使用する場合、紫外線照射処理水に残存するペルオキシド基を含む硫黄化合物を還元するのに多量の還元剤を使う必要があり、薬品コストが高くなる。
本発明は処理水の良好な水質を確保することが可能で、且つ経済的な純水製造装置を提供することを目的とする。
本発明の純水製造装置は、有機物を含む被処理水に、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加する硫黄化合物添加手段と、硫黄化合物が添加された被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置と、紫外線が照射された被処理水が通水される逆浸透膜装置と、逆浸透膜装置で処理された被処理水が通水されるイオン交換樹脂充填装置と、を有する。
本発明によれば、処理水の良好な水質を確保することが可能で、且つ経済的な純水製造装置を提供することが可能となる。
以下、図面を参照して本発明の純水製造装置と純水製造方法の実施形態について説明する。図１（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る純水製造装置１の概略構成を示している。純水製造装置１（１次システム）は下流側のサブシステム（２次システム）とともに超純水製造装置を構成する。純水製造装置１に供給される原水（以下、被処理水という）は有機物を含有している。
純水製造装置１は、原水タンク１１、ろ過器１２、活性炭塔１３、イオン交換装置１４、紫外線照射装置（紫外線酸化装置）１５、逆浸透膜装置１６、イオン交換樹脂充填装置１７、脱気装置１８を有し、これらは被処理水の流通方向Ｄに関し上流から下流に向かって、母管Ｌ１に沿ってこの順序で直列に配置されている。原水タンク１１に貯蔵された被処理水は原水ポンプ（図示せず）で昇圧された後、ろ過器１２で比較的粒径の大きな塵埃等が除去され、活性炭塔１３で高分子有機物などの不純物が除去される。ろ過器１２の構成は限定されないが、本実施形態では砂ろ過器を用いている。イオン交換装置１４は、カチオン交換樹脂が充填されたカチオン塔（図示せず）と、脱炭酸塔（図示せず）と、アニオン交換樹脂が充填されたアニオン塔（図示せず）と、を有し、これらは上流から下流に向けてこの順で直列に配置されている。カチオン塔は被処理水からカチオン成分を、脱炭酸塔は被処理水から炭酸を、アニオン塔は被処理水からアニオン成分をそれぞれ除去する。
イオン交換装置１４と紫外線照射装置１５との間には、ペルオキシド基を含む硫黄化合物（以下、単に硫黄化合物という場合がある）を被処理水に添加する硫黄化合物添加手段１９が設けられている。硫黄化合物添加手段１９は硫黄化合物の添加ライン１９ａと、添加ライン１９ａの一端に接続された硫黄化合物の貯蔵タンク１９ｂと、硫黄化合物の移送ポンプ１９ｃと、を有し、添加ライン１９ａの他端はイオン交換装置１４と紫外線照射装置１５との間で母管Ｌ１に接続されている。ペルオキシド基を含む硫黄化合物としては、ペルオキソ二硫酸ナトリウム（Na2S2O8）、ペルオキソ二硫酸アンモニウム（(NH4)2S4O8）、ペルオキソ二硫酸カリウム（K2S2O8）などが挙げられ、これらは単独でまたは組み合わせて使用される。
被処理水のＴＯＣ（より正確には、添加ライン１９ａの母管L1との接続部とイオン交換装置１４との間の区間における被処理水のＴＯＣ）に対する硫黄化合物の濃度の比（以下、濃度比という）は、５０～５０００倍程度が好ましい。濃度比が５０より少ないと硫酸ラジカルの生成が不十分で、被処理水の有機物の分解効率が低下する。濃度比が５０００より多いと、有機物の分解に使用されない、残存する硫黄化合物の濃度が増え、硫黄化合物を無駄に使用することになる。また、逆浸透膜装置１６の処理水における硫黄化合物の濃度が増加し、イオン交換樹脂充填装置１７へのダメージが増加する可能性がある。
紫外線照射装置１５は被処理水に紫外線を照射する。紫外線照射装置１５としては、例えば３６５ｎｍ、２５４ｎｍ、１８５ｎｍ、１７２ｎｍの少なくともいずれかの波長を含む紫外線ランプを用いることができる。ペルオキシド基を含む硫黄化合物は紫外線照射によって、被処理水に硫酸ラジカルを発生させる。硫酸ラジカルは、例えば水に紫外線を照射することで生成されるヒドロキシラジカルと比べて有機物の分解速度が速く、被処理水に含まれる有機物を効率的に分解する。
逆浸透膜装置１６は紫外線照射装置１５の処理水に残存した、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を除去する。ペルオキシド基を含む硫黄化合物は酸化力が強い。このため、高濃度の硫黄化合物を含む紫外線照射装置１５の処理水がイオン交換樹脂充填装置１７に供給されると、イオン交換樹脂の酸化劣化とそれによる有機物の溶出を招き、イオン交換樹脂充填装置１７の処理水のＴＯＣが増加する。本実施形態では、硫黄化合物が低濃度化された被処理水がイオン交換樹脂充填装置１７に供給されるため、イオン交換樹脂充填装置１７の処理水のＴＯＣの増加が防止される。
イオン交換樹脂充填装置１７は、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とが充填された再生式イオン交換樹脂塔である。紫外線照射によって被処理水に発生する有機物の分解生成物は、イオン交換樹脂充填装置１７によって除去される。その後、被処理水の溶存酸素、炭酸等が脱気装置１８によって除去される。図示は省略するが、イオン交換樹脂充填装置１７の代わりに電気式脱イオン水製造装置（ＥＤＩ）を設けることもできる。ＥＤＩは連続再生式であるため、イオン交換体の再生工程が不要となる。
ペルオキシド基を含む硫黄化合物は酸化剤であるため、イオン交換樹脂充填装置１７の樹脂を酸化劣化させる。このため、被処理水をイオン交換樹脂充填装置１７に通水する前に、硫黄化合物は被処理水から除去される。硫黄化合物の除去は逆浸透膜装置１６だけでなく、活性炭、白金族金属担持触媒などでも可能である。しかし、活性炭や触媒の場合、これら自体が酸化劣化し水質の低下につながる可能性がある。これに対し、本願発明者は、硫黄化合物の除去手段の酸化劣化挙動は手段毎に異なること、及び逆浸透膜装置１６は酸化劣化の影響を受けにくいことを見出した。
また、本願発明者は、イオン交換樹脂充填装置１７は逆浸透膜装置１６に比べ、硫黄化合物による酸化劣化の影響を受けやすいものの、硫黄化合物の濃度が十分に低ければ酸化劣化の影響を受けにくいことを見出した。実施例でも述べるが、逆浸透膜装置１６の処理水、すなわちイオン交換樹脂充填装置１７の入口水の硫黄化合物濃度は０．５ｍｇ／Ｌ以下にすることが好ましい。これによって、イオン交換樹脂の酸化劣化を防ぎつつ、イオン化された有機物を効率よく除去することが可能となる。硫黄化合物濃度が０．５ｍｇ／Ｌを上回ると、イオン交換樹脂の酸化劣化によりＴＯＣが増加し、処理水の水質が低下する可能性が高まる。逆浸透膜装置１６で硫黄化合物の濃度を０．５ｍｇ／Ｌ以下まで下げることで、イオン交換樹脂充填装置１７の樹脂の酸化劣化に伴う処理水のＴＯＣ増加を抑制することができる。イオン交換樹脂充填装置１７に通水される被処理水の硫黄化合物の濃度は、例えば以下のようにして０．５ｍｇ／Ｌ以下にすることができる。紫外線照射装置１５の供給水のＴＯＣと、紫外線照射装置１５の処理水のＴＯＣと、逆浸透膜装置１６の供給水の硫黄化合物の濃度と、イオン交換樹脂充填装置１７の供給水の硫黄化合物の濃度との少なくとも一つに基づき、硫黄化合物添加手段１９での硫黄化合物の添加量、逆浸透膜装置１６の運転条件（回収率等）、紫外線照射装置１５の運転条件（照射量等）の少なくとも一つを制御する。制御は上記のＴＯＣと硫黄化合物の濃度のいずれか一つだけを用いて行ってもよいし、複数個を用いて行ってもよい。また、硫黄化合物の濃度の取得方法は制限されないが、例えば導電率計で測定された導電率を硫黄化合物濃度に換算することができる。一例として、導電率計で測定された導電率を、あらかじめ取得した導電率と硫黄化合物濃度との関係式より、硫黄化合物濃度に換算することができる。以上の制御は所定の制御装置（図示せず）で行うことができる。
硫黄化合物の除去は重亜硫酸ナトリウム等の還元剤の添加によっても可能である。しかし、還元剤をイオン交換樹脂充填装置１７の入口水に常時供給する必要があるため、薬品コストが増加するとともに、イオン負荷が増大し、イオン交換樹脂充填装置１７のイオン交換樹脂の再生頻度が上がる。本実施形態では、ペルオキシド基を含む硫黄化合物の除去に逆浸透膜装置１６を利用するという新規な構成により、イオン交換樹脂充填装置１７の樹脂の酸化劣化を抑えるとともに、運転コスト（薬品コスト）の抑制が可能な純水製造装置１が実現される。
逆浸透膜装置１６に通水される被処理水の硫黄化合物濃度は特に限定されないが、４００ｍｇ／Ｌ以下が好ましく、イオン交換樹脂充填装置１７の負荷を抑制する観点からは１００ｍｇ／Ｌ以下がより好ましく、２０ｍｇ／Ｌ以下がさらに好ましい。硫黄化合物濃度が４００ｍｇ／Ｌを超えると、逆浸透膜装置１６の酸化劣化が生じる可能性があり、イオン交換樹脂充填装置１７の負荷も増加する可能性がある。逆浸透膜装置１６に通水される被処理水の硫黄化合物の濃度は、例えば以下のようにして４００ｍｇ／Ｌ以下にすることができる。紫外線照射装置１５の供給水のＴＯＣと、紫外線照射装置１５の処理水のＴＯＣと、逆浸透膜装置１６の供給水の硫黄化合物の濃度と、イオン交換樹脂充填装置１７の供給水の硫黄化合物の濃度との少なくとも一つに基づき、硫黄化合物添加手段１９での硫黄化合物の添加量、逆浸透膜装置１６の運転条件（回収率等）、紫外線照射装置１５の運転条件（照射量等）の少なくとも一つを制御する。制御は上記のＴＯＣと硫黄化合物の濃度のいずれか一つだけを用いて行ってもよいし、複数個を用いて行ってもよい。また、硫黄化合物の濃度の取得方法は制限されないが、例えば導電率計で測定された導電率を硫黄化合物濃度に換算することができる。一例として、導電率計で測定された導電率を、あらかじめ取得した導電率と硫黄化合物濃度との関係式より、硫黄化合物濃度に換算することができる。以上の制御は所定の制御装置（図示せず）で行うことができる。
図１（ｂ）は本発明の第２の実施形態に係る純水製造装置１の概略構成を示している。本実施形態に係る純水製造装置１は、逆浸透膜装置１６とイオン交換樹脂充填装置１７との間に、ペルオキシド基を含む硫黄化合物の除去手段２０を有する点を除き、第１の実施形態に係る純水製造装置１と同じである。説明を省略した構成や効果については第１の実施形態の説明を参照されたい。硫黄化合物の除去手段２０の種類は特に限定されるものではなく、酸化剤除去のために一般的に使用される様々な手段、例えば、還元剤、活性炭、白金族金属担持触媒などを使用することができる。
硫黄化合物の除去手段２０は、逆浸透膜装置１６とイオン交換樹脂充填装置１７との間に設けることが好ましい。硫黄化合物の除去手段２０を紫外線照射装置１５と逆浸透膜装置１６との間に設けることも可能であるが、その場合硫黄化合物の除去手段２０の負荷が増加する。除去手段２０が活性炭や触媒である場合、これらが硫黄化合物で酸化劣化し、ＴＯＣなどが処理水にリークし、処理水質を低下させる可能性がある。除去手段２０が還元剤である場合、還元剤の添加量が多くなり、薬品コストが増える可能性がある。本実施形態では、逆浸透膜装置１６でほとんどの硫黄化合物を除去した後に、残った硫黄化合物を除去手段２０で除去するため、純水製造装置１の性能向上や運転コストの抑制につながる。
以上、本発明のいくつかの実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されない。例えば、紫外線照射装置１５の上流側に金属イオン添加手段を設けることができる。金属イオンはアルカリ金属以外であれば限定されず、例えば、鉄、銅、銀、金、マンガンなどのイオンが挙げられる。金属イオンが被処理水に存在することで、硫黄化合物の活性化が促進され、有機物処理性能が向上する。
また、紫外線照射装置１５の処理水の硫黄化合物濃度は、紫外線照射装置１５の入口水のＴＯＣに応じて変動する可能性がある。すなわち、紫外線照射装置１５の入口水のＴＯＣが低い場合、より多くの硫黄化合物が消費されることなく、紫外線照射装置１５から流出する可能性がある。有機物の分解効率の向上のために硫黄化合物濃度を高くした場合も、紫外線照射装置１５の処理水の硫黄化合物濃度が高くなることがある。この様な場合でもイオン交換樹脂充填装置１７の樹脂の酸化劣化を抑制するため、逆浸透膜装置１６を２段以上直列に配置することもできる。すなわち、逆浸透膜装置１６とイオン交換樹脂充填装置１７との間に第２の逆浸透膜装置（図示せず）を有していてもよい。逆浸透膜装置１６を直列に設けることで、硫黄化合物の除去性能が向上し、イオン交換樹脂充填装置１７の負荷を低減することができる。なお、第２の実施形態の場合、硫黄化合物の除去手段２０は、直列配置される逆浸透膜装置１６の間に配置することもできる。
（実施例）
＜実施例１＞
尿素が８０μｇ／Ｌ含まれる被処理水にペルオキソ二硫酸カリウム（K2S2O8）を１０ｍｇ／Ｌ添加し、紫外線照射装置により出力０.７３ｋＷｈ／ｍ3で紫外線を照射し、その後、逆浸透膜装置（日東電工ESPA2-4040）に通水して処理した。逆浸透膜装置への通水流量は１.０ｍ3／ｈ、逆浸透膜装置の処理水流量は２００Ｌ／ｈ、濃縮水流量は８００Ｌ／ｈであった。逆浸透膜装置の処理水をイオン交換樹脂（オルガノ株式会社製ＥＳＰ－２）充填装置にＳＶ１２０（／ｈ）で通水し、イオン交換樹脂充填装置の入口水のK2S2O8濃度とＴＯＣ、イオン交換樹脂充填装置の処理水の尿素濃度とＴＯＣを測定した。
＜実施例１＞
尿素が８０μｇ／Ｌ含まれる被処理水にペルオキソ二硫酸カリウム（K2S2O8）を１０ｍｇ／Ｌ添加し、紫外線照射装置により出力０.７３ｋＷｈ／ｍ3で紫外線を照射し、その後、逆浸透膜装置（日東電工ESPA2-4040）に通水して処理した。逆浸透膜装置への通水流量は１.０ｍ3／ｈ、逆浸透膜装置の処理水流量は２００Ｌ／ｈ、濃縮水流量は８００Ｌ／ｈであった。逆浸透膜装置の処理水をイオン交換樹脂（オルガノ株式会社製ＥＳＰ－２）充填装置にＳＶ１２０（／ｈ）で通水し、イオン交換樹脂充填装置の入口水のK2S2O8濃度とＴＯＣ、イオン交換樹脂充填装置の処理水の尿素濃度とＴＯＣを測定した。
＜実施例２＞
実施例１において、K2S2O2を４０ｍｇ／Ｌ添加し、同条件で測定を行った。
実施例１において、K2S2O2を４０ｍｇ／Ｌ添加し、同条件で測定を行った。
＜実施例３＞
実施例１において、逆浸透膜装置の処理水に還元剤を添加し、イオン交換樹脂充填装置に通水した。還元剤は亜硫酸ナトリウム（Na2SO3）を用い、逆浸透膜装置の処理水のペルオキソ二硫酸濃度に対し、２倍の物質量を添加した。
実施例１において、逆浸透膜装置の処理水に還元剤を添加し、イオン交換樹脂充填装置に通水した。還元剤は亜硫酸ナトリウム（Na2SO3）を用い、逆浸透膜装置の処理水のペルオキソ二硫酸濃度に対し、２倍の物質量を添加した。
＜実施例４＞
実施例１において、紫外線照射装置の処理水に還元剤を添加し、逆浸透膜装置、イオン交換樹脂充填装置の順に通水処理した。還元剤はNa2SO3を用い、紫外線照射装置の処理水のペルオキソ二硫酸濃度に対し、２倍の物質量を添加した。
実施例１において、紫外線照射装置の処理水に還元剤を添加し、逆浸透膜装置、イオン交換樹脂充填装置の順に通水処理した。還元剤はNa2SO3を用い、紫外線照射装置の処理水のペルオキソ二硫酸濃度に対し、２倍の物質量を添加した。
＜比較例１＞
実施例１において、紫外線照射装置の処理水を逆浸透膜装置に通水せず、イオン交換樹脂充填装置に通水した。
実施例１において、紫外線照射装置の処理水を逆浸透膜装置に通水せず、イオン交換樹脂充填装置に通水した。
表１に測定結果を示す。比較例１では処理水のＴＯＣが高い。これは、紫外線照射装置で残留したペルオキソ二硫酸がイオン交換樹脂を酸化劣化させたためと考えられる。比較例１に逆浸透膜装置を設置した構成の実施例１では、処理水のＴＯＣが１μｇ／Ｌ未満であった。これは、逆浸透膜装置によりペルオキソ二硫酸の濃度が０.１ｍｇ／Ｌまで低減したことにより、イオン交換樹脂の酸化劣化が抑制されたためと考えられる。実施例２では、イオン交換樹脂充填装置の入口水のペルオキソ二硫酸の濃度は０.５ｍｇ／Ｌであったが、イオン交換樹脂充填装置の処理水のＴＯＣは１μｇ／Ｌと、比較例１より少なかった。これは、イオン交換樹脂の溶出量が少なく、酸化劣化の影響が抑えられたためと考えられる。従って、イオン交換樹脂充填装置に通水される被処理水の硫黄化合物の濃度が０.５ｍｇ／Ｌ以下である場合、処理水質への大きな影響はないと考えられる。還元剤を添加した実施例３と４は同じ処理性能が得られたが、逆浸透膜装置の上流側に還元剤を添加した場合（実施例４）、逆浸透膜装置の下流側に還元剤を添加した場合（実施例３）と比べてより多くの還元剤を使用する必要がある。これより、還元剤は逆浸透膜装置の下流側に添加するほうが好ましいことがわかる。
＜実施例５＞
純水にNaClを５ｍｇ／Ｌ、IPAを１００μｇ／Ｌ、K２S２O８を４００ｍｇ／Ｌ添加した被処理水を、逆浸透膜装置（日東電工ESPA2-4040）に８００時間通水し、８００時間後の逆浸透膜装置の透過係数、膜間差圧（（原水圧力＋濃縮水圧力）／２－透過水圧力）、Na、Cl、IPAの阻止率を求めた。阻止率は{（原水濃度＋濃縮水濃度）／２－透過水濃度}／{（原水濃度＋濃縮水濃度）／２}×１００として求められる。K２S２O８の濃度を実施例１の４０００倍、実施例２の８００倍として加速試験を行ったため、逆浸透膜装置の取り換え頻度と同レベルの時間スパンでの評価が可能となっている。逆浸透膜装置への通水流量は１ｍ3／ｈ、逆浸透膜装置の処理水流量は２００Ｌ／ｈ、濃縮流量は８００Ｌ／ｈであった。結果を表２に示す。８００時間経過後も、それぞれの値が悪化する傾向は確認されなかった。よって、K２S２O８の濃度が４００ｍｇ／Ｌ以下の場合、逆浸透膜装置の性能は低下しないことが分かった。
純水にNaClを５ｍｇ／Ｌ、IPAを１００μｇ／Ｌ、K２S２O８を４００ｍｇ／Ｌ添加した被処理水を、逆浸透膜装置（日東電工ESPA2-4040）に８００時間通水し、８００時間後の逆浸透膜装置の透過係数、膜間差圧（（原水圧力＋濃縮水圧力）／２－透過水圧力）、Na、Cl、IPAの阻止率を求めた。阻止率は{（原水濃度＋濃縮水濃度）／２－透過水濃度}／{（原水濃度＋濃縮水濃度）／２}×１００として求められる。K２S２O８の濃度を実施例１の４０００倍、実施例２の８００倍として加速試験を行ったため、逆浸透膜装置の取り換え頻度と同レベルの時間スパンでの評価が可能となっている。逆浸透膜装置への通水流量は１ｍ3／ｈ、逆浸透膜装置の処理水流量は２００Ｌ／ｈ、濃縮流量は８００Ｌ／ｈであった。結果を表２に示す。８００時間経過後も、それぞれの値が悪化する傾向は確認されなかった。よって、K２S２O８の濃度が４００ｍｇ／Ｌ以下の場合、逆浸透膜装置の性能は低下しないことが分かった。
１ 純水製造装置
１１ 原水タンク
１２ ろ過器
１３ 活性炭塔
１４ イオン交換装置
１５ 紫外線照射装置（紫外線酸化装置）
１６ 逆浸透膜装置
１７ イオン交換樹脂充填装置
１８ 脱気装置
１９ 硫黄化合物添加手段
２０ 硫黄化合物の除去手段
１１ 原水タンク
１２ ろ過器
１３ 活性炭塔
１４ イオン交換装置
１５ 紫外線照射装置（紫外線酸化装置）
１６ 逆浸透膜装置
１７ イオン交換樹脂充填装置
１８ 脱気装置
１９ 硫黄化合物添加手段
２０ 硫黄化合物の除去手段
Claims (8)
- 有機物を含む被処理水に、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加する硫黄化合物添加手段と、
硫黄化合物が添加された前記被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置と、
紫外線が照射された前記被処理水が通水される逆浸透膜装置と、
前記逆浸透膜装置で処理された前記被処理水が通水されるイオン交換樹脂充填装置と、
を有する純水製造装置。 - 前記イオン交換樹脂充填装置に通水される前記被処理水の前記硫黄化合物の濃度が０.５ｍｇ／Ｌ以下である、請求項１に記載の純水製造装置。
- 前記被処理水の前記硫黄化合物の濃度が０.５ｍｇ／Ｌ以下となるように、前記紫外線照射装置の供給水のＴＯＣと、前記紫外線照射装置の処理水のＴＯＣと、前記逆浸透膜装置の供給水の硫黄化合物の濃度と、前記イオン交換樹脂充填装置の供給水の硫黄化合物の濃度との少なくとも一つに基づき、前記硫黄化合物添加手段での硫黄化合物の添加量、前記逆浸透膜装置の運転条件、前記紫外線照射装置の運転条件の少なくとも一つを制御する制御装置を有する、請求項２に記載の純水製造装置。
- 前記逆浸透膜装置と前記イオン交換樹脂充填装置との間に、前記硫黄化合物の除去手段を有する、請求項１から３のいずれか1項に記載の純水製造装置。
- 前記逆浸透膜装置で処理される前記被処理水の前記硫黄化合物の濃度が４００ｍｇ／Ｌ以下である、請求項１から３のいずれか１項に記載の純水製造装置。
- 前記逆浸透膜装置で処理される前記被処理水の前記硫黄化合物の濃度が４００ｍｇ／Ｌ以下となるように、前記紫外線照射装置の供給水のＴＯＣと、前記紫外線照射装置の処理水のＴＯＣと、前記逆浸透膜装置の供給水の硫黄化合物の濃度と、前記イオン交換樹脂充填装置の供給水の硫黄化合物の濃度との少なくとも一つに基づき、前記硫黄化合物添加手段での硫黄化合物の添加量、前記逆浸透膜装置の運転条件、前記紫外線照射装置の運転条件の少なくとも一つを制御する制御装置を有する、請求項５に記載の純水製造装置。
- 前記逆浸透膜装置と前記イオン交換樹脂充填装置との間に設けられた第２の逆浸透膜装置を有する、請求項１から６のいずれか１項に記載の純水製造装置。
- 有機物を含む被処理水に、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加することと、
硫黄化合物が添加された前記被処理水に紫外線を照射することと、
紫外線が照射された前記被処理水を逆浸透膜装置に通水することと、
前記逆浸透膜装置で処理された前記被処理水をイオン交換樹脂充填装置に通水することと、
を有する純水製造方法。
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