JP2008246387A - 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ペルオキソ硫酸を生成させる生成工程と、一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加工程と、該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する分解工程とを含むことを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。ペルオキソ硫酸を用いているため、ペルオキソ硫酸塩を用いる場合のように後段でこの塩を脱塩する必要がなく、脱塩の負荷が抑制される。ペルオキソ硫酸の生成工程を有するため、自己分解の進んでいないペルオキソ硫酸を用いることができる。このため、難分解性有機物を効率よく分解除去することができる。
【選択図】図1
Description
SO4・−+e−→SO4 2−
2SO4・−+e−→SO4 2−
図1の装置を用い、一次純水製造プロセス水の模擬水の処理を行った。
10%H2SO4と10%H2O2とをライン混合(実施例4)又はバッチ混合(比較例3)した後、模擬水に添加したこと以外は実施例1〜3と同様にして、模擬水の処理を行った。
2 酸化剤除去装置
3 脱気装置
4 イオン交換装置
5 硫酸注入装置
6 過酸化水素注入装置
7 TOC測定器
20 電解酸化装置
Claims (9)
- ペルオキソ硫酸を生成させる生成工程と、
一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加工程と、
該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する分解工程と
を含むことを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。 - 請求項1において、前記添加工程において、該一次純水製造プロセス水に対して前記ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が5〜30mg/Lとなるように添加することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- 請求項1又は2において、前記ペルオキソ硫酸がペルオキソ一硫酸であり、
前記生成工程において、硫酸水溶液と過酸化水素水とをライン混合することによりペルオキソ一硫酸を生成させることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記添加工程の前段において、前記一次純水製造プロセス水に含まれる易分解性有機物を除去する工程を有することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、前記一次純水製造プロセス水は、逆浸透膜処理を直列に2段以上有する超純水製造プロセスにおいて1段目の逆浸透膜処理を行った後の処理水であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
- ペルオキソ硫酸を生成させる生成手段と、
一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加手段と、
該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する紫外線照射装置と
を含むことを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。 - 請求項6において、前記生成手段は、硫酸水溶液と過酸化水素水とをライン混合することによりペルオキソ一硫酸を生成させるライン混合手段であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。
- 請求項6又は7において、前記添加手段の前段において、前記一次純水製造プロセス水に含まれる易分解性有機物を除去する易分解性有機物除去手段を有することを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。
- 請求項6ないし8のいずれか1項において、易分解性有機物除去手段が逆浸透膜装置であることを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理装置。
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
JP2011183245A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
JP2016196000A (ja) * | 2011-01-17 | 2016-11-24 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーEvoqua Water Technologies LLC | 超純水を提供するための方法およびシステム |
WO2022264479A1 (ja) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP7441066B2 (ja) | 2020-02-10 | 2024-02-29 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 予備処理方法、予備処理装置、尿素濃度測定方法、尿素濃度測定装置、超純水製造方法及び超純水製造システム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1119663A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-26 | Nec Kagoshima Ltd | 有機物の除去方法 |
JPH1199395A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
JP2006150320A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Kurita Water Ind Ltd | 排水加熱分解システム |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1119663A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-26 | Nec Kagoshima Ltd | 有機物の除去方法 |
JPH1199395A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
JP2006150320A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Kurita Water Ind Ltd | 排水加熱分解システム |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011183245A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
JP2016196000A (ja) * | 2011-01-17 | 2016-11-24 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーEvoqua Water Technologies LLC | 超純水を提供するための方法およびシステム |
JP7441066B2 (ja) | 2020-02-10 | 2024-02-29 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 予備処理方法、予備処理装置、尿素濃度測定方法、尿素濃度測定装置、超純水製造方法及び超純水製造システム |
WO2022264479A1 (ja) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
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