JP5211414B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5211414B2 JP5211414B2 JP2001068833A JP2001068833A JP5211414B2 JP 5211414 B2 JP5211414 B2 JP 5211414B2 JP 2001068833 A JP2001068833 A JP 2001068833A JP 2001068833 A JP2001068833 A JP 2001068833A JP 5211414 B2 JP5211414 B2 JP 5211414B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- toc
- ultrapure water
- ultraviolet
- lamp
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
(1) 制御器としてUVランプ点灯数制御器を用い、UVランプの点灯数を望ましいUV照射量に応じて制御する。例えば、1シリンダー当り、任意の複数(例えば10本)のUVランプを設置したシリンダーを複数個備えたUV酸化装置であれば、点灯するシリンダー数を制御する。
(2) 制御器としてUVランプ電流制御器を用い、UVランプの電流値を望ましいUV照射量に応じて制御する。例えば、特定のいくつかのシリンダー或いはすべてのシリンダーについて電流値を制御する。
(3) 制御器としてUVランプ点灯数制御器とUVランプ電流制御器とを用い、上記(1)と(2)とを組み合せて望ましいUV照射量に応じて制御する。例えば、あるシリンダーについては定常電流値で点灯又は消灯し、他のシリンダーは電流値を増減する。
水道水(野木町水)を原水として、図4に示す装置により超純水を製造した。
UV酸化装置:(株)日本フォトサイエンス製低圧UV酸化装置(波長185nm付近、0.32kW・hr/m3)
温床式イオン交換装置:非再生型,SV80hr−1
微粒子分離用UF膜分離装置:栗田工業(株)製UF膜分離装置「KU−1510」
DO計:オービスフェア社製MODEL3600
TOC計:Anatel社製A−1000XP
比較例1:UV酸化装置の出力調整を行わずUV酸化装置の最大出力で運転した。
比較例2:DO計の測定値のみに基いてUV酸化装置の出力調整を行った。具体的には、DO計の測定値が1.0μg/L以上でUV出力を10%ずつ低減させた。
III: 一次純水システム
III: サブシステム
1 サブタンク
2 熱交換器
3 UV酸化装置
4 イオン交換装置
5 ユースポイント
6 DO計
7 TOC計
11 活性炭塔
12 熱交換器
13 除濁用UF膜分離装置
14 2段RO膜分離装置
15 膜式脱気装置
16 温床式イオン交換装置
17 サブタンク
18 熱交換器
19 UV酸化装置
20 混床式イオン交換装置
21 微粒子分離用UF膜分離装置
22 ユースポイント
23 DO計
24 TOC計
Claims (4)
- 紫外線酸化装置とその後段のイオン交換装置とを備えてなる超純水製造装置において、該イオン交換装置の出口水の溶存酸素濃度と有機物濃度とを測定し、これらの測定結果に基いて該紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御することを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1において、予めイオン交換装置の出口水の溶存酸素濃度の基準値と有機物濃度の基準値を定めておき、溶存酸素濃度の測定値がこの基準値を超える場合には、紫外線酸化装置の紫外線照射量を減らし、有機物濃度の測定値がこの基準値を超える場合には、紫外線酸化装置の紫外線照射量を増すことを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1又は2において、該紫外線酸化装置の紫外線照射量を以下の(1)〜(3)のいずれかの方法により制御することを特徴とする超純水製造装置。
(1) 制御器としてUVランプ点灯数制御器を用い、該紫外線酸化装置のUVランプの点灯数を制御することにより紫外線照射量を制御する。
(2) 制御器としてUVランプ電流制御器を用い、該紫外線酸化装置のUVランプの電流値を制御することにより紫外線照射量を制御する。
(3) 制御器としてUVランプ点灯数制御器とUVランプ電流制御器とを用い、上記(1)と(2)とを組み合せて紫外線照射量を制御する。
- 請求項2又は3において、該溶存酸素濃度の測定値が基準値を超える場合には、該紫外線酸化装置の紫外線照射量を5〜20%減らし、該有機物濃度の測定値が基準値を超える場合には、該紫外線酸化装置の紫外線照射量を5〜20%増すことを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001068833A JP5211414B2 (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001068833A JP5211414B2 (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002263643A JP2002263643A (ja) | 2002-09-17 |
JP5211414B2 true JP5211414B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=18926957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001068833A Expired - Fee Related JP5211414B2 (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5211414B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004249207A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Ishigaki Co Ltd | 原虫類の不活性化処理における紫外線の照射方法 |
AU2016257925B2 (en) | 2015-05-04 | 2021-12-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for providing ultrapure water with flexible lamp configuration |
JP6591211B2 (ja) * | 2015-06-11 | 2019-10-16 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
JP2018020272A (ja) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置および超純水製造方法 |
JP2018183761A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
JP6863429B2 (ja) * | 2019-10-07 | 2021-04-21 | 栗田工業株式会社 | Toc処理装置及び処理方法 |
JP7183208B2 (ja) | 2020-02-14 | 2022-12-05 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
JP2022086465A (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-09 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4294731B2 (ja) * | 1996-02-20 | 2009-07-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造方法および超純水製造装置 |
JPH10263536A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-06 | Shinko Pantec Co Ltd | 有機物含有水の処理方法とその装置 |
JPH10277572A (ja) * | 1997-04-03 | 1998-10-20 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
-
2001
- 2001-03-12 JP JP2001068833A patent/JP5211414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002263643A (ja) | 2002-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI460136B (zh) | 用於減少半導體製程用水之有機碳的紫外光活化氧化法 | |
JP5045099B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 | |
WO2009122884A1 (ja) | 純水製造方法及び純水製造装置 | |
WO2021070573A1 (ja) | Toc処理装置及び処理方法 | |
US20050263458A1 (en) | Process for removing organics from ultrapure water | |
WO2018092832A1 (ja) | 水処理方法および装置 | |
JP5280038B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
WO2018092831A1 (ja) | 水処理方法および装置 | |
JP4294731B2 (ja) | 超純水製造方法および超純水製造装置 | |
JP5211414B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP3941139B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2016005829A (ja) | 超純水製造方法および超純水製造装置 | |
JP2002210494A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP4519930B2 (ja) | 超純水製造方法及び超純水製造装置 | |
JPH0929251A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP7513213B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 | |
WO2017175794A1 (ja) | 促進酸化処理方法及び促進酸化処理装置 | |
JP2016215150A (ja) | 超純水製造装置 | |
WO2024080079A1 (ja) | 純水製造装置 | |
JPH10337568A (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH09253639A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2008173617A (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
WO2022239314A1 (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 | |
JP2023172164A (ja) | 水処理装置 | |
JP6749463B2 (ja) | 促進酸化処理方法及び促進酸化処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080303 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130211 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5211414 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |