JPH10337568A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
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- JPH10337568A JPH10337568A JP15089097A JP15089097A JPH10337568A JP H10337568 A JPH10337568 A JP H10337568A JP 15089097 A JP15089097 A JP 15089097A JP 15089097 A JP15089097 A JP 15089097A JP H10337568 A JPH10337568 A JP H10337568A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＵＶ照射装置と、イオン交換装置と、ファイ
ナルフィルタとを含む超純水製造装置において、一次純
水のＴＯＣの変動に対応してＵＶ出力を即時的に制御す
ることにより、水質を低下させることなく電力コストを
大幅に削減する。 【解決手段】 ＵＶ照射装置１として、第１のＵＶ酸化
装置１Ａとその流出水を処理する第２のＵＶ酸化装置１
Ｂを用い、第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水の比抵抗を
比抵抗計２Ａで測定し、その測定値に基いて第２のＵＶ
酸化装置１ＢのＵＶ照射強度を制御する。 【効果】 比抵抗の測定値が大きいときには原水中のＴ
ＯＣ量が多いとみて、ＵＶ照射強度を高くし、比抵抗の
測定値が小さいときにはＵＶ照射強度を低くする。
ナルフィルタとを含む超純水製造装置において、一次純
水のＴＯＣの変動に対応してＵＶ出力を即時的に制御す
ることにより、水質を低下させることなく電力コストを
大幅に削減する。 【解決手段】 ＵＶ照射装置１として、第１のＵＶ酸化
装置１Ａとその流出水を処理する第２のＵＶ酸化装置１
Ｂを用い、第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水の比抵抗を
比抵抗計２Ａで測定し、その測定値に基いて第２のＵＶ
酸化装置１ＢのＵＶ照射強度を制御する。 【効果】 比抵抗の測定値が大きいときには原水中のＴ
ＯＣ量が多いとみて、ＵＶ照射強度を高くし、比抵抗の
測定値が小さいときにはＵＶ照射強度を低くする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は超純水製造装置に係
り、特に紫外線（ＵＶ）照射装置とイオン交換装置とを
組合せた超純水製造装置において、一次純水のＴＯＣの
変動に対応してＵＶ照射量を制御することにより、ＵＶ
照射装置における電力消費量を低減する超純水製造装置
に関する。
り、特に紫外線（ＵＶ）照射装置とイオン交換装置とを
組合せた超純水製造装置において、一次純水のＴＯＣの
変動に対応してＵＶ照射量を制御することにより、ＵＶ
照射装置における電力消費量を低減する超純水製造装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＵＶ照射による酸化処理とイオン交換処
理とからなる超純水製造プロセスは公知であり、例え
ば、特許第２５００９６８号公報には、ＵＶ照射装置
と、アニオン交換装置と、混床式イオン交換装置とを備
えてなる超純水製造装置が記載されている。
理とからなる超純水製造プロセスは公知であり、例え
ば、特許第２５００９６８号公報には、ＵＶ照射装置
と、アニオン交換装置と、混床式イオン交換装置とを備
えてなる超純水製造装置が記載されている。
【０００３】この超純水製造装置では、ＵＶ照射により
原水中の有機物を有機酸の段階まで分解し、この有機酸
を後続のアニオン交換装置で除去する。このため、ＵＶ
照射装置においては、原水中の有機物をほぼ完全に分解
するためにＵＶ照射量を高める必要がなく、ＵＶ照射の
みで有機物を分解する場合に比べて使用電力量の低減を
図ることが可能となる。また、ＵＶ照射装置に対する原
水負荷が大幅に低減されることから、これを小型化する
ことができ、全体の装置の小型化を図ることも可能とな
る。
原水中の有機物を有機酸の段階まで分解し、この有機酸
を後続のアニオン交換装置で除去する。このため、ＵＶ
照射装置においては、原水中の有機物をほぼ完全に分解
するためにＵＶ照射量を高める必要がなく、ＵＶ照射の
みで有機物を分解する場合に比べて使用電力量の低減を
図ることが可能となる。また、ＵＶ照射装置に対する原
水負荷が大幅に低減されることから、これを小型化する
ことができ、全体の装置の小型化を図ることも可能とな
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような超純水製造
装置において、ＵＶ照射装置での電力コストが処理コス
トの中で占める割合は比較的大きいため、原水中の有機
物量に対応した必要最低限のＵＶ照射を行って、電力コ
ストを低減することが望まれる。
装置において、ＵＶ照射装置での電力コストが処理コス
トの中で占める割合は比較的大きいため、原水中の有機
物量に対応した必要最低限のＵＶ照射を行って、電力コ
ストを低減することが望まれる。
【０００５】しかしながら、従来の超純水製造プロセス
では、多くの場合、原水中の有機物量に対応したＵＶ出
力の制御は行われておらず、原水水質の変動で原水中の
有機物濃度が低減した場合においても、一定のＵＶ出力
で処理を行っているために、消費電力の無駄を生じてい
る。
では、多くの場合、原水中の有機物量に対応したＵＶ出
力の制御は行われておらず、原水水質の変動で原水中の
有機物濃度が低減した場合においても、一定のＵＶ出力
で処理を行っているために、消費電力の無駄を生じてい
る。
【０００６】ＵＶ照射装置の入口部分にＴＯＣ計を設置
し、ＵＶ照射装置流入水のＴＯＣを測定し、この測定値
に基いてＵＶ出力を制御することも検討されているが、
ＴＯＣ計の測定には数分の時間を要するために、原水の
水質変動に対応して即時的にＵＶ出力を制御することは
困難である。
し、ＵＶ照射装置流入水のＴＯＣを測定し、この測定値
に基いてＵＶ出力を制御することも検討されているが、
ＴＯＣ計の測定には数分の時間を要するために、原水の
水質変動に対応して即時的にＵＶ出力を制御することは
困難である。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＴＯ
Ｃの変動に対応してＵＶ出力を即時的に制御することが
でき、これにより水質を低下させることなく電力コスト
を大幅に削減することができる超純水製造装置を提供す
ることを目的とする。
Ｃの変動に対応してＵＶ出力を即時的に制御することが
でき、これにより水質を低下させることなく電力コスト
を大幅に削減することができる超純水製造装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水製造装置
は、一次純水に紫外線を照射し、含有される有機物を酸
化分解する紫外線照射装置と、該紫外線照射装置からの
有機酸を含む流出水を処理するイオン交換装置と、該イ
オン交換装置の流出水が通水されるファイナルフィルタ
とを含む超純水製造装置において、前記紫外線照射装置
は、第１の紫外線酸化装置と、その流出水の比抵抗を測
定する比抵抗測定装置と、該第１の紫外線酸化装置の流
出水を処理する第２の紫外線酸化装置と、前記比抵抗測
定装置の測定値に基づいて該第２の紫外線酸化装置の紫
外線照射量を制御する制御装置とを含むことを特徴とす
る。
は、一次純水に紫外線を照射し、含有される有機物を酸
化分解する紫外線照射装置と、該紫外線照射装置からの
有機酸を含む流出水を処理するイオン交換装置と、該イ
オン交換装置の流出水が通水されるファイナルフィルタ
とを含む超純水製造装置において、前記紫外線照射装置
は、第１の紫外線酸化装置と、その流出水の比抵抗を測
定する比抵抗測定装置と、該第１の紫外線酸化装置の流
出水を処理する第２の紫外線酸化装置と、前記比抵抗測
定装置の測定値に基づいて該第２の紫外線酸化装置の紫
外線照射量を制御する制御装置とを含むことを特徴とす
る。
【０００９】一次純水中の有機物はＵＶ照射により酸化
分解されてカルボン酸の中間体を経由して最終的にＣＯ
2 とＨ2 Ｏにまで分解されるため、ＴＯＣ分解量と比抵
抗値とには相関があり、ＴＯＣ分解量が多い程比抵抗は
低く、ＴＯＣ分解量が少い程比抵抗は高い。そして、比
抵抗は瞬時に測定することができる。
分解されてカルボン酸の中間体を経由して最終的にＣＯ
2 とＨ2 Ｏにまで分解されるため、ＴＯＣ分解量と比抵
抗値とには相関があり、ＴＯＣ分解量が多い程比抵抗は
低く、ＴＯＣ分解量が少い程比抵抗は高い。そして、比
抵抗は瞬時に測定することができる。
【００１０】従って、第１のＵＶ酸化装置の流出水の比
抵抗を測定し、この測定値に基いて第２のＵＶ酸化装置
のＵＶ照射量を制御することにより、ＴＯＣの変動に対
応してＵＶ出力の即時的な制御を行える。
抵抗を測定し、この測定値に基いて第２のＵＶ酸化装置
のＵＶ照射量を制御することにより、ＴＯＣの変動に対
応してＵＶ出力の即時的な制御を行える。
【００１１】即ち、第１のＵＶ酸化装置の流出水の比抵
抗が低い場合は第１のＵＶ酸化装置のＴＯＣ分解量が多
く、これは、第１のＵＶ酸化装置に流入する水のＴＯＣ
が多いことを示す。逆に、第１のＵＶ酸化装置の流出水
の比抵抗が高い場合は第１のＵＶ酸化装置のＴＯＣ分解
量が少なく、これは第１のＵＶ酸化装置に流入する水の
ＴＯＣが少ないことを示す。
抗が低い場合は第１のＵＶ酸化装置のＴＯＣ分解量が多
く、これは、第１のＵＶ酸化装置に流入する水のＴＯＣ
が多いことを示す。逆に、第１のＵＶ酸化装置の流出水
の比抵抗が高い場合は第１のＵＶ酸化装置のＴＯＣ分解
量が少なく、これは第１のＵＶ酸化装置に流入する水の
ＴＯＣが少ないことを示す。
【００１２】従って、第１のＵＶ酸化装置の流出水の比
抵抗が低い場合には第２のＵＶ酸化装置のＵＶ強度を高
め、第１のＵＶ酸化装置の流出水の比抵抗が高い場合に
は第２のＵＶ酸化装置のＵＶ強度を下げることで、ＴＯ
Ｃの変動に対応して即時的なＵＶ照射量の制御を行え
る。
抵抗が低い場合には第２のＵＶ酸化装置のＵＶ強度を高
め、第１のＵＶ酸化装置の流出水の比抵抗が高い場合に
は第２のＵＶ酸化装置のＵＶ強度を下げることで、ＴＯ
Ｃの変動に対応して即時的なＵＶ照射量の制御を行え
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明の実施の形態に係る超純水製
造装置を示す系統図である。
造装置を示す系統図である。
【００１５】本発明の超純水製造装置は、図１に示す如
く、ＵＶ照射装置１とＵＶ照射制御装置２とイオン交換
装置３とファイナルフィルタ４とを接続してなるもので
あって、このうち、ＵＶ照射装置１として、第１のＵＶ
酸化装置１Ａ、この第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水を
処理する第１のＵＶ酸化装置１Ｂと、ＵＶ照射制御装置
２として第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水の比抵抗を測
定する比抵抗計２Ａと、この比抵抗計２Ａの測定値に基
いて、第２のＵＶ酸化装置１Ｂの制御信号を出力する制
御装置２Ｂとを設けたものである。
く、ＵＶ照射装置１とＵＶ照射制御装置２とイオン交換
装置３とファイナルフィルタ４とを接続してなるもので
あって、このうち、ＵＶ照射装置１として、第１のＵＶ
酸化装置１Ａ、この第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水を
処理する第１のＵＶ酸化装置１Ｂと、ＵＶ照射制御装置
２として第１のＵＶ酸化装置１Ａの流出水の比抵抗を測
定する比抵抗計２Ａと、この比抵抗計２Ａの測定値に基
いて、第２のＵＶ酸化装置１Ｂの制御信号を出力する制
御装置２Ｂとを設けたものである。
【００１６】この超純水製造装置において、通常の純水
製造装置で処理されて得られた純水（一次純水）は、ま
ず、第１のＵＶ酸化装置１Ａに導入されてＵＶ照射さ
れ、更に第２のＵＶ酸化装置１Ｂに導入されてＵＶ照射
され、これにより、含有される有機物は有機酸に酸化さ
れる。なお、本発明で処理する一次純水は、一般的には
比抵抗が１５ＭΩ・ｃｍ以上、特に１６〜１８ＭΩ・ｃ
ｍ程度のものである。
製造装置で処理されて得られた純水（一次純水）は、ま
ず、第１のＵＶ酸化装置１Ａに導入されてＵＶ照射さ
れ、更に第２のＵＶ酸化装置１Ｂに導入されてＵＶ照射
され、これにより、含有される有機物は有機酸に酸化さ
れる。なお、本発明で処理する一次純水は、一般的には
比抵抗が１５ＭΩ・ｃｍ以上、特に１６〜１８ＭΩ・ｃ
ｍ程度のものである。
【００１７】第１のＵＶ酸化装置１Ａは常時一定のＵＶ
出力で運転される。一方、第２のＵＶ酸化装置１ＢはＵ
Ｖ出力の調整が可能な装置であって、比抵抗計２Ａの測
定結果に応じて制御装置２ＢでＵＶ出力が制御される。
出力で運転される。一方、第２のＵＶ酸化装置１ＢはＵ
Ｖ出力の調整が可能な装置であって、比抵抗計２Ａの測
定結果に応じて制御装置２ＢでＵＶ出力が制御される。
【００１８】第１のＵＶ酸化装置１Ａ，第２のＵＶ酸化
装置１Ｂは、規定出力が同仕様のものであっても、第１
のＵＶ酸化装置１Ａに比べて第２のＵＶ酸化装置１Ｂの
規定出力が低いものであっても良い。
装置１Ｂは、規定出力が同仕様のものであっても、第１
のＵＶ酸化装置１Ａに比べて第２のＵＶ酸化装置１Ｂの
規定出力が低いものであっても良い。
【００１９】これら第１のＵＶ酸化装置１Ａ及び第２の
ＵＶ酸化装置１Ｂとしては、好ましくは出力波長が１７
０ｎｍ以上の通常のＵＶ照射装置を用いることができ、
また、エキシマランプを使用することもできる。
ＵＶ酸化装置１Ｂとしては、好ましくは出力波長が１７
０ｎｍ以上の通常のＵＶ照射装置を用いることができ、
また、エキシマランプを使用することもできる。
【００２０】比抵抗計２Ａとしては特に制限はなく、通
常の比抵抗測定装置を用いることができる。
常の比抵抗測定装置を用いることができる。
【００２１】第２のＵＶ酸化装置１ＢにおけるＵＶ照射
量は、比抵抗計２Ａの測定結果に応じて段階的に変化さ
せても良く、また、連続的に変化させても良い。
量は、比抵抗計２Ａの測定結果に応じて段階的に変化さ
せても良く、また、連続的に変化させても良い。
【００２２】段階的に変化させる場合は、第２のＵＶ酸
化装置１ＢのＵＶ照射量を２段階又は３段階以上の複数
段階に設定しておき、比抵抗計２Ａの測定値に応じて、
ＵＶ照射量を段階的に制御するのが好ましい。
化装置１ＢのＵＶ照射量を２段階又は３段階以上の複数
段階に設定しておき、比抵抗計２Ａの測定値に応じて、
ＵＶ照射量を段階的に制御するのが好ましい。
【００２３】なお、第２のＵＶ酸化装置１ＢにおけるＵ
Ｖ照射量の調整は、ＵＶ強度の調整によって行っても良
く、ＵＶ照射時間の調整により行っても良い。もちろ
ん、これら双方の調整により行っても良い。
Ｖ照射量の調整は、ＵＶ強度の調整によって行っても良
く、ＵＶ照射時間の調整により行っても良い。もちろ
ん、これら双方の調整により行っても良い。
【００２４】このようなＵＶ照射装置１でのＵＶ照射
は、一次純水中の有機物が有機酸に酸化される程度にと
どめ、有機物がＣＯ2 やＮ2 でＨ2 Ｏまでに完全に分解
するほど照射を行わないことが重要である。もちろん、
照射の間に一部の有機物がＣＯ2 等に分解することがあ
るが不都合ではない。
は、一次純水中の有機物が有機酸に酸化される程度にと
どめ、有機物がＣＯ2 やＮ2 でＨ2 Ｏまでに完全に分解
するほど照射を行わないことが重要である。もちろん、
照射の間に一部の有機物がＣＯ2 等に分解することがあ
るが不都合ではない。
【００２５】このＵＶ照射装置１において、有機物の酸
化分解をより短時間で行うために、一次純水に酸化剤と
して過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下でＵＶを照
射して処理することもできる。
化分解をより短時間で行うために、一次純水に酸化剤と
して過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下でＵＶを照
射して処理することもできる。
【００２６】ＵＶ照射装置１（第２のＵＶ酸化装置１
Ｂ）からの有機酸を含む水は、次にイオン交換装置３に
導入され、含有される有機酸が除去される。
Ｂ）からの有機酸を含む水は、次にイオン交換装置３に
導入され、含有される有機酸が除去される。
【００２７】このイオン交換装置３としては、アニオン
交換装置と混床式イオン交換装置を直列に配置して使用
するか、混床式イオン交換装置を単独で使用することが
できる。アニオン交換装置は強塩基性アニオン交換樹脂
を充填し、混床式イオン交換装置は強酸性カチオン交換
樹脂のＨ形と強塩基性アニオン交換樹脂のＯＨ形とを混
合して用いる。具体的にはダイヤイオン（商標）ＰＡ３
１２（三菱化学（株）社製）とダイヤイオン（商標）Ｐ
Ｋ２２８（同社製）とを混合したものが好適である。
交換装置と混床式イオン交換装置を直列に配置して使用
するか、混床式イオン交換装置を単独で使用することが
できる。アニオン交換装置は強塩基性アニオン交換樹脂
を充填し、混床式イオン交換装置は強酸性カチオン交換
樹脂のＨ形と強塩基性アニオン交換樹脂のＯＨ形とを混
合して用いる。具体的にはダイヤイオン（商標）ＰＡ３
１２（三菱化学（株）社製）とダイヤイオン（商標）Ｐ
Ｋ２２８（同社製）とを混合したものが好適である。
【００２８】このイオン交換装置３でイオン交換処理し
た後、ファイナルフィルタ４を通した水は、ＴＯＣ濃度
の極めて低い、高純度の超純水である。
た後、ファイナルフィルタ４を通した水は、ＴＯＣ濃度
の極めて低い、高純度の超純水である。
【００２９】なお、ファイナルフィルタ４としては、中
空糸型のＭＦ（精密濾過）膜、ＵＦ（限外濾過）膜等を
用いることができる。
空糸型のＭＦ（精密濾過）膜、ＵＦ（限外濾過）膜等を
用いることができる。
【００３０】
【実施例】以下に実験例及び実施例を挙げて、本発明を
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り以下の実施例に限定されるものではない。
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り以下の実施例に限定されるものではない。
【００３１】実験例１ 第１の逆浸透膜分離装置、混床式イオン交換装置及び第
２の逆浸透膜分離装置で順次処理して得られた一次純水
（比抵抗１７．５〜１８．０ＭΩ・ｃｍ，ＴＯＣ３〜５
ｐｐｂ）を、給水量３ｍ3 ／ｈｒで第１のＵＶ酸化装置
及び第２のＵＶ酸化装置で順次処理し、この処理水を更
にアニオン交換装置で処理する系において、第１のＵＶ
酸化装置及び第２のＵＶ酸化装置の流出水の比抵抗を測
定する比抵抗計（栗田工業（株）製「ＭＸ−４」）をそ
れぞれ設け、また、アニオン交換装置の流出水のＴＯＣ
を測定するＴＯＣ計（アナテル社製「Ａ−１０００」）
を設け、比抵抗とＴＯＣの関係を調べた。
２の逆浸透膜分離装置で順次処理して得られた一次純水
（比抵抗１７．５〜１８．０ＭΩ・ｃｍ，ＴＯＣ３〜５
ｐｐｂ）を、給水量３ｍ3 ／ｈｒで第１のＵＶ酸化装置
及び第２のＵＶ酸化装置で順次処理し、この処理水を更
にアニオン交換装置で処理する系において、第１のＵＶ
酸化装置及び第２のＵＶ酸化装置の流出水の比抵抗を測
定する比抵抗計（栗田工業（株）製「ＭＸ−４」）をそ
れぞれ設け、また、アニオン交換装置の流出水のＴＯＣ
を測定するＴＯＣ計（アナテル社製「Ａ−１０００」）
を設け、比抵抗とＴＯＣの関係を調べた。
【００３２】なお、第１のＵＶ酸化装置及び第２のＵＶ
酸化装置としては、ランプ消費電力９０Ｗのランプ（代
表波長１８５ｎｍ及び２５４ｎｍ）４本を備えるものを
用いた。
酸化装置としては、ランプ消費電力９０Ｗのランプ（代
表波長１８５ｎｍ及び２５４ｎｍ）４本を備えるものを
用いた。
【００３３】第１のＵＶ酸化装置は１００％出力とし、
第２のＵＶ酸化装置については第１のＵＶ酸化装置の流
出水の比抵抗値により１００％又は６０％出力とした。
第２のＵＶ酸化装置については第１のＵＶ酸化装置の流
出水の比抵抗値により１００％又は６０％出力とした。
【００３４】また、アニオン交換装置としては、ゲル型
強塩基性アニオン交換樹脂３０Ｌを充填したものを用い
た。
強塩基性アニオン交換樹脂３０Ｌを充填したものを用い
た。
【００３５】第１のＵＶ酸化装置の給水に所定量のメタ
ノールを不連続的に添加し（５分添加、５分無添加）、
第１のＵＶ酸化装置及び第２のＵＶ酸化装置の流出水の
比抵抗とアニオン交換装置の流出水のＴＯＣとの関係を
表１に示した。
ノールを不連続的に添加し（５分添加、５分無添加）、
第１のＵＶ酸化装置及び第２のＵＶ酸化装置の流出水の
比抵抗とアニオン交換装置の流出水のＴＯＣとの関係を
表１に示した。
【００３６】
【表１】
【００３７】表１より明らかなように、第１のＵＶ酸化
装置の流出水の比抵抗の測定結果に基いて、第２のＵＶ
酸化装置のＵＶ照射量を制御できる。即ち、第１のＵＶ
酸化装置の流出水の比抵抗が高い場合には、第２のＵＶ
酸化装置のＵＶ照射量を少なくしても低ＴＯＣの処理水
を得ることができ（Ｎｏ．４）、また、第１のＵＶ酸化
装置の流出水の比抵抗が低い場合、第２のＵＶ酸化装置
のＵＶ照射量が少ないとＴＯＣを十分に低減することが
できないことから（Ｎｏ．５，６）、この場合には、第
２のＵＶ酸化装置のＵＶ照射量を多くする必要がある
（Ｎｏ．３）。
装置の流出水の比抵抗の測定結果に基いて、第２のＵＶ
酸化装置のＵＶ照射量を制御できる。即ち、第１のＵＶ
酸化装置の流出水の比抵抗が高い場合には、第２のＵＶ
酸化装置のＵＶ照射量を少なくしても低ＴＯＣの処理水
を得ることができ（Ｎｏ．４）、また、第１のＵＶ酸化
装置の流出水の比抵抗が低い場合、第２のＵＶ酸化装置
のＵＶ照射量が少ないとＴＯＣを十分に低減することが
できないことから（Ｎｏ．５，６）、この場合には、第
２のＵＶ酸化装置のＵＶ照射量を多くする必要がある
（Ｎｏ．３）。
【００３８】実施例１ 図１に示す装置により、一次純水（比抵抗１７．０〜１
８．０ＭΩ・ｃｍ，ＴＯＣ３〜４ｐｐｂ）を３ｍ3 ／ｈ
ｒの処理量で処理して超純水の製造を行った。
８．０ＭΩ・ｃｍ，ＴＯＣ３〜４ｐｐｂ）を３ｍ3 ／ｈ
ｒの処理量で処理して超純水の製造を行った。
【００３９】用いた各装置の仕様は次の通りである。
【００４０】第１のＵＶ酸化装置 ＵＶランプ ０．３６ＫＷ（代表波長１８５ｎｍ）第２のＵＶ酸化装置 ＵＶランプ ０．３６ＫＷ（代表波長１８５ｎｍ）比抵抗計２Ａ 栗田工業（株）製「ＭＸ−４」混床式イオン交換装置 樹脂塔 ２００ｍｍφ×１２００ｍｍＨ カチオン交換樹脂 １０Ｌ アニオン交換樹脂 ２０Ｌファイナルフィルタ４ 栗田工業（株）製、限外濾過膜装置「ＫＵ−１０１０Ｈ
Ｓ（４インチ）」 比抵抗計２Ａで測定された第１のＵＶ酸化装置１Ａの流
出水の比抵抗が１４ＭΩ・ｃｍ以上の場合には、第２の
ＵＶ酸化装置１Ｂの出力を６０％とし、この比抵抗が１
１ＭΩ・ｃｍ未満の場合には、第２のＵＶ酸化装置１Ｂ
の出力を１００％とした。
Ｓ（４インチ）」 比抵抗計２Ａで測定された第１のＵＶ酸化装置１Ａの流
出水の比抵抗が１４ＭΩ・ｃｍ以上の場合には、第２の
ＵＶ酸化装置１Ｂの出力を６０％とし、この比抵抗が１
１ＭΩ・ｃｍ未満の場合には、第２のＵＶ酸化装置１Ｂ
の出力を１００％とした。
【００４１】その結果、比抵抗１８ＭΩ・ｃｍ以上，Ｔ
ＯＣ１ｐｐｂ以下の高純度の超純水を安定に製造するこ
とができた。
ＯＣ１ｐｐｂ以下の高純度の超純水を安定に製造するこ
とができた。
【００４２】なお、この処理で要した第２のＵＶ酸化装
置１Ｂの電力量は、第２のＵＶ酸化装置１Ｂの出力を常
に１００％とした場合に比べて４０％も低減された。
置１Ｂの電力量は、第２のＵＶ酸化装置１Ｂの出力を常
に１００％とした場合に比べて４０％も低減された。
【００４３】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水製造
装置によれば、一次純水の有機物濃度の変動に対応して
ＵＶ照射装置のＵＶ照射量を即時的に制御することがで
き、従って、得られる超純水の水質を低下させることな
く、電力コストを大幅に低減することができる。
装置によれば、一次純水の有機物濃度の変動に対応して
ＵＶ照射装置のＵＶ照射量を即時的に制御することがで
き、従って、得られる超純水の水質を低下させることな
く、電力コストを大幅に低減することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る超純水製造装置を示
す系統図である。
す系統図である。
１ ＵＶ照射装置 １Ａ 第１のＵＶ酸化装置 １Ｂ 第２のＵＶ酸化装置 ２ ＵＶ照射制御装置 ２Ａ 比抵抗計 ２Ｂ 制御装置 ３ イオン交換装置 ４ ファイナルフィルタ
Claims (1)
- 【請求項１】 一次純水に紫外線を照射し、含有される
有機物を酸化分解する紫外線照射装置と、該紫外線照射
装置からの有機酸を含む流出水を処理するイオン交換装
置と、該イオン交換装置の流出水が通水されるファイナ
ルフィルタとを含む超純水製造装置において、 前記紫外線照射装置は、第１の紫外線酸化装置と、その
流出水の比抵抗を測定する比抵抗測定装置と、該第１の
紫外線酸化装置の流出水を処理する第２の紫外線酸化装
置と、前記比抵抗測定装置の測定値に基づいて該第２の
紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御する制御装置とを
含むことを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15089097A JPH10337568A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15089097A JPH10337568A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10337568A true JPH10337568A (ja) | 1998-12-22 |
Family
ID=15506627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15089097A Pending JPH10337568A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10337568A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302413A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-10-31 | Kurita Water Ind Ltd | オゾン水製造装置 |
| KR100419137B1 (ko) * | 2001-03-26 | 2004-02-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 |
| JP2009112944A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| JP2011240225A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 液浸露光用超純水の製造方法及び装置 |
| JP2011255326A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Iwasaki Electric Co Ltd | 超純水製造システム |
| JP2012205989A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| WO2024057697A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | オルガノ株式会社 | 水処理システムおよび水処理方法 |
-
1997
- 1997-06-09 JP JP15089097A patent/JPH10337568A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302413A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-10-31 | Kurita Water Ind Ltd | オゾン水製造装置 |
| KR100419137B1 (ko) * | 2001-03-26 | 2004-02-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 |
| JP2009112944A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| JP2011240225A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 液浸露光用超純水の製造方法及び装置 |
| JP2011255326A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Iwasaki Electric Co Ltd | 超純水製造システム |
| JP2012205989A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| WO2024057697A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | オルガノ株式会社 | 水処理システムおよび水処理方法 |
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