JP6741202B2 - コーティング組成物及び光学部材 - Google Patents
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Description
本発明の第1観点は、下記の(M)成分、(F)成分及び(S)成分を含有するコーティング組成物:
(M)成分は、一般式(I):
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれ炭素原子数1乃至35のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、エーテル基、アミノ基若しくはシアノ基を有する有機基であって、且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素原子数1乃至8のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1又は2の整数であり、a+bは0、1又は2の整数である。)又は一般式(II):
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素原子数1乃至5のアルキル基であり、Xは炭素原子数1乃至4のアルキル基又はアシル基であり、Yはメチレン基又は炭素原子数2乃至20のアルキレン基であり、cは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種のケイ素含有物質であって、該ケイ素含有物質は、少なくとも1種の有機ケイ素化合物の加水分解物を含み、且つ前記コーティング組成物中に20乃至85質量%含まれており、
(F)成分は、2乃至60nmの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子(A)を核として、その表面を1乃至4nmの一次粒子径を有する酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物(B)で被覆された、2乃至100nmの一次粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子(C)であって、該コロイド粒子(C)は、前記コーティング組成物中に10乃至60質量%含まれており、
(S)成分は、2乃至80nmの一次粒子径を有するシリカコロイド粒子であって、前記コーティング組成物中に0.1乃至30質量%含まれているものであり、
第2観点は、前記(S)成分を1乃至20質量%含む第1観点に記載のコーティング組成物であり、
第3観点は、前記(M)成分と前記(F)成分との質量割合が、(F)成分/(M)成分=0.1乃至3であり、且つ(M)成分と(S)成分との質量割合が、(S)成分/(M)成分=0.01乃至1.5である第1観点又は第2観点に記載のコーティング組成物であり、
第4観点は、前記金属酸化物のコロイド粒子(A)が、Ti、Fe、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Ta、W、Pb、Bi及びCeからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなる第1乃至3の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第5観点は、前記被覆物(B)が、Si、Zr、Sn、Mo、Sb及びWからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸性酸化物からなる第1乃至第3観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第6観点は、前記(S)成分のpHは、1乃至6である第1乃至5の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第7観点は、金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の硬化触媒をさらに含有する第1乃至6の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第8観点は、アルコール系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エステル系有機溶媒、脂肪族炭化水素系有機溶媒、芳香族炭化水素系有機溶媒及びアミド化合物系有機溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種をさらに含有する第1乃至7の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第9観点は、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも1種をさらに含む第1乃至8の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物であり、
第10観点は、光学基材の表面に第1乃至9の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物を硬化物からなる硬化膜を有する光学部材であり、
第11観点は、第10観点に記載の光学部材の表面に更に反射防止膜を有する光学部材であり、
第12観点は、下記(a)工程及び(b)工程を含む第1乃至9の観点のいずれか1点に記載のコーティング組成物の製造方法:
(a)工程:各々第1乃至9の観点のいずれか1点に特定されるところの前記(M)成分と前記(S)成分とを混合し、前記(M)成分の少なくとも一部又は全部を加水分解する工程、
(b)工程:(a)工程で得られた(M)成分の少なくとも一部又は全部加水分解物を含む混合物に第1乃至9の観点のいずれか1点に特定されるところの前記(F)成分を混合する工程、である。
炭素原子数1乃至35のアルキル基としては直鎖又は分枝を有する炭素原子数1乃至35のアルキル基が挙げられ、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基及び1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
上記R2の定義における炭素原子数1乃至8のアルキル基、R4の定義における炭素原子数1乃至5のアルキル基ならびに上記Xの定義における炭素原子数1乃至4のアルキル基の例は上記のアルキル基のうち炭素原子数1乃至8のアルキル基、炭素原子数1乃至5のアルキル基ならびに炭素原子数1乃至4のアルキル基を挙げることができる。
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれ炭素原子数1乃至35のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、エーテル基、アミノ基若しくはシアノ基を有する有機基であって、且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素原子数1乃至8のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1又は2の整数であり、a+bは0、1又は2の整数である。)又は一般式(II):
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素原子数1乃至5のアルキル基であり、Xは炭素原子数1乃至4のアルキル基又はアシル基であり、Yはメチレン基又は炭素原子数2乃至20のアルキレン基であり、cは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、及びそれらの加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種のケイ素含有物質であって、該ケイ素含有物質は、少なくとも1種の有機ケイ素化合物の加水分解物を含む。
本発明のコーティング組成物に含有される(S)成分は、公知な方法、例えば、イオン交換法、中和解膠法、アルコキシドの加水分解法などの作製方法により製造することができる。
前記(S)成分のpHは、1乃至6に調製されていることが好ましい。
該コーティング組成物中の(M)成分の含有率が20質量%未満では、前記硬化膜の硬化性が著しく低下し、傷がつきやすく、場合により硬化しない場合がある。また、その含有率が85質量%を超えると前記硬化膜の硬化収縮が大きくなり、硬化膜と基材との間で剥離を生じる場合がある。
すなわち、下記(a)工程及び(b)工程:
(a)工程:前記(M)成分と前記(S)成分とを混合し、前記(M)成分の少なくとも一部又は全部を加水分解する工程、
(b)工程:(a)工程で得られた(M)成分の少なくとも一部又は全部加水分解物を含む混合物に前記(F)成分を混合する工程を含むものである。
上記工程によって、シリカコロイド粒子と高屈折率粒子とが相溶安定性を有するコーティング組成物を製造することができる。
前記アルコール系有機溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等の一価アルコール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール等の多価アルコール;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールのモノエーテル類等が挙げられる。
・水分:カールフィッシャー滴定法にて求めた。
・粒子径:ゾルを銅メッシュ上に乾燥させ、透過型電子顕微鏡(型番:JEM−1010 JEOL社製、加速電圧100kV)にて観察し、100個の粒子径を測定し、その平均値を一次粒子径とした。
・比重:浮き秤法(20℃)にて求めた。
・粘度:オストワルド粘度計(20℃)にて求めた。
JIS3号珪酸ナトリウム(SiO2として29.8質量%含有、富士化学(株)製)36gを純水400gに溶解し、次いでスズ酸ナトリウムNaSnO3・H2O(SnO2として55.1質量%含有、昭和化工(株)製)9.8gを溶解した。得られた水溶液を水素型陽イオン交換樹脂(アンバーライト(登録商標)IR−120B)を充填したカラムに通すことにより、酸性の酸化第二スズ−シリカ複合コロイド粒子の水性ゾル(pH2.4、SnO2として0.44質量%、SiO2として0.87質量%を含有、SiO2/SnO2質量比2.0)1240gを得た。次いで得られた水性ゾルにジイソプロピルアミンを3.2g添加した。得られたゾルはアルカリ性の酸化第二スズ−シリカ複合コロイド粒子の水性ゾルであり、pH8.0であった。該水性ゾルは、透過型電子顕微鏡により5nm以下の1次粒子径のコロイド粒子が観察された。また、ジイソプロピルアミン/(SnO2+SiO2)のモル比は、0.15であった。
1リットルのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して42.4質量%を含有する。)水溶液251.85gと、純水95.6gとを投入し希釈水溶液とした。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、AMR製、ZrO2として40.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で491.85g投入した。添加終了後、85℃に加熱後、メタスズ酸8.23g(昭和化工(株)製、SnO2として7.08g含有する。)を徐々に添加し、105℃にて5時間加熱熟成を行った。この加熱熟成終了時点では混合液はゾル状であった。更に145℃にて5時間の水熱処理を行った。水熱処理後に得られたものは、酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子を含有するゾルであり、(ZrO2+SnO2)濃度として12.86質量%、比重1.180、pH10.62であった。次いでこのゾルを限外ろ過装置にて純水を添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、濃度6.03質量%の比重1.052、pH9.43の酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体コロイド粒子を含むゾル1040gが得られた。得られた酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイドは、電子顕微鏡観察による粒子径が5乃至15nmであった。
製造例2で調整した酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の水性ゾル830g(全金属酸化物として50g含有する。)に製造例1で調製したアルカリ性の酸化第二スズ−シリカ複合コロイド粒子の水性ゾル769gを添加し、十分に攪拌した。次いで95℃で2時間加熱熟成して、酸化第二スズ−シリカ複合コロイド粒子で被覆された変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の水性ゾル1599gを得た。得られたゾルのpHは8.3、全金属酸化物濃度は3.7質量%であった。得られた変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の水性ゾルを水素型陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−120B)が充填されたカラムに通し、酸性の変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の水性ゾル1980gを得た。得られたゾルはpH2.7、全金属酸化物濃度は3.0質量%であった。得られた酸性ゾルにジイソブチルアミンを0.5g添加し、変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズコロイド粒子の表面にジイソブチルアミンを結合させた。このときのゾルのpHは4.3であった。次いで得られたゾルを限外濾過装置を用いて全金属酸化物濃度20質量%まで濃縮した。濃縮後のゾルの比重は1.211、pHは3.7であった。この濃縮された水性ゾルをナス型フラスコ付きエバポレータに投入し、該ゾルにメタノールを添加しながら600Torrで水を留去することにより、ジイソブチルアミンが結合した変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズコロイド粒子のメタノール分散ゾルを得た。得られたメタノール分散ゾルは、比重1.184、粘度3.2mPa・s、pH4.9(ゾルと同質量の水で希釈)、全金属酸化物濃度38.5質量%、水分0.8%であった。
マグネチックスターラーを備えたガラス製容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン240質量部を加え、撹拌しながら水分散シリカゾル(スノーテックスO;シリカ濃度20質量%、一次粒子径12nm;日産化学工業(株)製)110質量部を添加し、24時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物を得た。次に特開2012−31353号公報の製造例5に記載の方法と同様にして得られた酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル290質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)、プロピレングリコールモノメチルエーテル180質量部を前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物313質量部に添加し、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート5.2質量部、メタノールで濃度10質量%に希釈したレベリング剤L−7001(東レ・ダウコーニング製)9.0質量部を混合し、十分に撹拌してハードコート用コーティング液を調整した。
(硬化膜の形成)
ポリカーボネート系のプラスチックレンズ(屈折率nD=1.58)を用意し、これにディップコート法で上記のハードコート用コーティング液を塗布し(膜厚3μm)、120℃で2時間加熱処理して、塗膜を硬化させた。評価結果を表1に示した。
実施例1に記載の酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル290質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)を前述の製造例3に記載の酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変成された酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル229質量部(全金属酸化物に換算して38質量%を含有する)に変更した以外は、実施例1と同様に実施した。
実施例1に記載の水分散シリカゾルをスノーテックスOXS(シリカ濃度15質量%、一次粒子径6nm;日産化学工業(株)製)145質量部に変更した以外は、実施例1と同様に行なった。
実施例1に記載の水分散シリカゾルをスノーテックスOL(シリカ濃度20質量%、一次粒子径40nm;日産化学工業(株)製)110質量部に変更した以外は、実施例1と同様に行なった。
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン240質量部を加え、撹拌しながら0.01規定の塩酸60質量部を3時間で滴下した。滴下終了後、0.5時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物を得た。次に特開2012−31353号公報の製造例5に記載の方法と同様にして得られた酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル290質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)、水分散シリカゾル(スノーテックスO)110質量部の順に添加して攪拌した後、更にプロピレングリコールモノメチルエーテル180質量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート5.2質量部、メタノールで濃度10%に希釈したレベリング剤L−7001(東レ・ダウコーニング製)8.5質量部を混合し、十分に撹拌してハードコート用コーティング液を作製した。
(硬化膜の形成)
実施例1と同様に実施した。
比較例1に記載のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物へ水分散シリカゾル(スノーテックスO)110質量部、酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル290質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)の順序で添加した以外は比較例1と同様に実施した。
用いる水分散シリカゾルをスノーテックスMP1040(シリカ濃度40質量%、一次粒子径100nm;日産化学工業(株)製)55質量部に変更した以外は、実施例1と同様に行なった。
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン240質量部を加え、撹拌しながら0.01規定の塩酸60質量部を3時間で滴下した。滴下終了後、0.5時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物を得た。次に特開2012−31353号公報の製造例5に記載の方法と同様にして得られた酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル145質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)、更にプロピレングリコールモノメチルエーテル180質量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート0.9質量部、メタノールで濃度10%に希釈したレベリング剤L−7001(東レ・ダウコーニング製)9.0質量部を混合し、十分に撹拌してハードコート用コーティング液を作製した。
(硬化膜の形成)
実施例1と同様に実施した。
比較例4に記載の酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子のメタノール分散ゾル145質量部(全金属酸化物に換算して30.0質量%を含有する)を水分散シリカゾル(スノーテックスO)435質量部に変更した以外は、実施例1と同様に実施した。
スチールウール#0000で硬化膜表面を10往復擦り、傷の付く度合を目視で判断した。判断基準は下記の通りである。
A:全く傷が確認できない
B:若干の傷が確認できる/1cm2に3本以下の傷が確認される
C:目立った傷が確認できる/1cm2に10本以下の傷が確認されるが、膜剥がれは確認されない
D:膜剥がれが確認できる
硬化膜に1mm間隔で100目クロスカットを施し、このクロスカットした部分に粘着テープ(セロハンテープ、ニチバン(株)製品)を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は下記の通りである。
A:全く剥離が無い
B:100目中1乃至30目剥離が確認できる
C:100目中31乃至60目剥離が確認できる
D:100目中61乃至90目剥離が確認できる
E:100目中91目以上剥離が確認できる
硬化膜をキセノンウェザーメーター(照射強度40mW/m2)で100時間照射した後、該膜にクロスカットを施して(2)密着性試験と同様の試験を行ない、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は(2)密着性試験を用いた。
硬化膜をキセノンウェザーメーター(照射強度40mW/m2)で100時間照射した後、該膜のクラックの有無を目視で調べた。判断基準は次の通りである。
A:クラックが全く確認されない
B:一部クラックが確認される
C:全面にクラックが確認される
暗室内、蛍光灯下で硬化膜の曇りの有無を目視で調べた。判断基準は次の通りである。
A:曇りの発生がほとんど無いもの
B:曇りが透明硬化膜として問題がない程度のもの
C:白化が顕著に表れるもの
暗室内、蛍光灯下で硬化膜の干渉縞の有無を目視で調べた。判断基準は次の通りである。
A:干渉縞が全く見られない
B:干渉縞が若干見られる
C:干渉縞が顕著に見られる
Abbe屈折計にて測定した値である。
本発明の実施例1乃至4は、耐擦傷性、密着性、耐候性試験後の密着性、透明性及び屋外暴露後の耐候性(クラック性)に優れるものであったのに対して、比較例1、2では、シリカコロイド粒子と酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子との表面電位の違いから凝集が起き、硬化膜の透明性、耐擦傷性、密着性が著しく低いものであった。また、比較例3では、シリカコロイド粒子の一次粒子径が大きいため、硬化膜の透明性が著しく低下したものであった。更に、比較例4では基材と屈折率を合わせるため酸化第二スズ−シリカ複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の添加量を減らした事により、硬化膜の耐擦傷性、密着性及び耐候性試験後の密着性が著しく低いものであった。加えて、比較例5ではシリカコロイド粒子のみのため、硬化膜に干渉縞が発生するものであった。
Claims (13)
- 下記の(M)成分、(F)成分及び(S)成分を含有するコーティング組成物:
(M)成分は、一般式(I):
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれ炭素原子数1乃至35のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、エーテル基、アミノ基若しくはシアノ基を有する有機基であって、且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素原子数1乃至8のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1又は2の整数であり、a+bは0、1又は2の整数である。)又は一般式(II):
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素原子数1乃至5のアルキル基であり、Xは炭素原子数1乃至4のアルキル基又はアシル基であり、Yはメチレン基又は炭素原子数2乃至20のアルキレン基であり、cは0又は1の整数である。)
で表される有機ケイ素化合物の加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種のケイ素含有物質であって、
該加水分解物は、該一般式(I)で表される有機ケイ素化合物、該一般式(II)で表される有機ケイ素化合物又はその双方を、下記(S)成分の存在下で加水分解したものであり、そして
該ケイ素含有物質は、前記コーティング組成物中に20乃至85質量%含まれており、(F)成分は、2乃至60nmの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子(A)を核として、その表面を1乃至4nmの一次粒子径を有する酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物(B)で被覆された、2乃至100nmの一次粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子(C)であって、該コロイド粒子(C)は、前記コーティング組成物中に10乃至60質量%含まれており、
(S)成分は、2乃至80nmの一次粒子径を有するシリカコロイド粒子であって、前記
コーティング組成物中に0.1乃至30質量%含まれているものである。 - (M)成分は、さらに上記式(I)及び式(II)で表される有機ケイ素化合物からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素化合物を含む請求項1に記載のコーティング組成物。
- 前記(S)成分を1乃至20質量%含む請求項1又は請求項2に記載のコーティング組成物。
- 前記(M)成分と前記(F)成分との質量割合が、(F)成分/(M)成分=0.1乃至3であり、且つ(M)成分と(S)成分との質量割合が、(S)成分/(M)成分=0.01乃至1.5である請求項1乃至3のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記金属酸化物のコロイド粒子(A)が、Ti、Fe、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Ta、W、Pb、Bi及びCeからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなる請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記被覆物(B)が、Si、Zr、Sn、Mo、Sb及びWからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸性酸化物からなる請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記(S)成分のpHは、1乃至6である請求項1乃至6のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の硬化触媒をさらに含有する請求項1乃至7のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- アルコール系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エステル系有機溶媒、脂肪族炭化水素系有機溶媒、芳香族炭化水素系有機溶媒及びアミド化合物系有機溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種をさらに含有する請求項1乃至8のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも1種をさらに含有する請求項1乃至9のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 光学基材の表面に請求項1乃至10のいずれか一項に記載のコーティング組成物の硬化物からなる硬化膜を有する光学部材。
- 請求項11に記載の光学部材の表面に更に反射防止膜を有する光学部材。
- 下記(a)工程及び(b)工程を含む請求項1乃至10のいずれか一項に記載のコーティング組成物の製造方法:
(a)工程:各々請求項1乃至9のいずれか一項に特定されるところの前記(M)成分と前記(S)成分とを混合し、前記(M)成分の少なくとも一部又は全部を加水分解する工程、
(b)工程:(a)工程で得られた(M)成分の少なくとも一部又は全部加水分解物を含む混合物に請求項1乃至9のいずれか一項に特定されるところの前記(F)成分を混合す
る工程。
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