JP6735349B2 - 微粒子の回収方法及び回収システム - Google Patents
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Description
本願は、2016年9月29日に日本に出願された、特願2016−191451号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
この方法によれば、基板の凹部と連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、連通孔が微粒子の大きさよりも小さい孔径を持つため、微粒子が連通孔を通過することはなく、微粒子を凹部で確実に保持することができる。
この方法によれば、基板の貫通孔を通じて微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、貫通孔の内壁に微粒子を支持可能な支持部が形成されているため、微粒子が貫通孔を通過することはなく、微粒子を支持部で確実に保持することができる。
この方法によれば、基板の貫通孔と支持層の連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。
この方法によれば、支持層の凹部と連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、被覆層が支持層の凹部の側の面を覆うため、支持層の連通孔に異物が侵入することを抑制することができる。
この方法によれば、ノズルを構造体の一面から離反した場合と比較して、外部の異物を吸引することを回避することができる。したがって、異物の混入(コンタミネーション)を回避するとともに、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、基板の貫通孔と支持層の連通孔との間でのみ微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、ノズルを構造体の一面から離反した場合と比較して、ノズルの吸引力を低く抑えることができる。
この構成によれば、基板の凹部と連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、連通孔が微粒子の大きさよりも小さい孔径を持つため、微粒子が連通孔を通過することはなく、微粒子を凹部で確実に保持することができる。
この構成によれば、基板の貫通孔を通じて微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、貫通孔の内壁に微粒子を支持可能な支持部が形成されているため、微粒子が貫通孔を通過することはなく、微粒子を支持部で確実に保持することができる。
この構成によれば、基板の貫通孔と支持層の連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。
この構成によれば、支持層の凹部と連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子を確実に吸引することができる。加えて、被覆層が支持層の凹部の側の面を覆うため、支持層の連通孔に異物が侵入することを抑制することができる。
この構成によれば、第一基板の貫通孔と支持層の連通孔との間で微粒子そのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができる。したがって、所望の微粒子を確実に回収することができる。
以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。
以下、本発明の第一実施形態について、図1〜図7を用いて説明する。本実施形態では、構造体に収容された微粒子をノズルにより吸引して回収する微粒子の回収方法に用いる回収システムを例に挙げて説明する。本実施形態の回収システムは、微粒子を収容可能な構造体と、構造体に収容された微粒子を吸引して回収するノズルと、を備えたものである。本実施形態の構造体は、一面側に微粒子を収容可能な凹部が形成され、かつ凹部の内壁から他面側に連通するとともに微粒子の大きさよりも小さい孔径を持つ連通孔が形成された基板である。
図1は、第一実施形態に係る回収システム1の概略構成を示す平面図である。
図1に示すように、回収システム1は、基台2と、制御装置3と、表示装置4と、入力装置5と、基板10(構造体)と、ノズル20と、ノズル位置計測装置30と、を備えている。回収システム1は、不図示のケースで覆われている。これにより、回収システム1内には外部から異物(塵埃)が侵入しないようになっている。
基台2は、回収システム1の各要素(基板10、ノズル20及びノズル位置計測装置30)を保持する。平面視で、基台2は矩形状をなしている。
制御装置3は、回収システム1の各要素(ノズル20及びノズル位置計測装置30)の駆動を制御する。
表示装置4は、文字及び画像の表示を行う。表示装置4は、回収システム1に関する種々の情報を表示する。例えば、表示装置4は、液晶ディスプレイである。
入力装置5は、作業者の操作を受け付ける入力機器を備える。例えば、入力機器は、キーボード及びマウス等である。入力装置5は、入力された情報を制御装置3に出力する。
図2は、基板10の概略構成を示す斜視図である。
図2に示すように、基板10は、矩形板状をなしている。例えば、基板10は、X軸方向及びY軸方向に50mm程度の長さを有している。基板10は、透光性を有している。
例えば、基板10は、ガラス基板又はプラスチック基板である。
凹部11の大きさは、1個の微粒子Mのみが収容され得る大きさとなっている。これにより、目的の単一種の細胞等を迅速に回収することができる。なお、凹部11の大きさは、複数の微粒子Mが収容され得る大きさであってもよく、特に限定されない。
図3は、第一実施形態に係る回収システム1の要部を示す図である。
図3に示すように、ノズル20は、Z軸方向下側に向けて先細り形状を有する筒状をなしている。例えば、ノズル20は、樹脂又は金属で形成されている。例えば、ノズル20は、マイクロキャピラリーである。ノズル20は、基板10の凹部11のサイズに対応したものを用いる。例えば、ノズル20の先端部21の内径は、凹部11の直径の2倍程度に設定されている。例えば、ノズル20の先端部21の内径は、10μm〜100μm程度となっている。
ノズル位置計測装置30は、基板10に対するノズル20の位置を計測する。ノズル位置計測装置30は、ノズル昇降機構31と、構造体移動機構35と、判定部39と、カメラ40と、を備えている。
ノズル昇降機構31は、ノズル20を第一方向V1に沿わせて基板10に対し昇降させる。ここで、「第一方向」は、基板10の表面10aの法線方向(例えば、Z軸方向)に相当する。ノズル昇降機構31は、アーム32と、Z駆動機構33と、ノズル位置調整機構34と、を備えている。
構造体移動機構35は、基板10を第一方向V1と交差する第二方向V2に移動させる。ここで、「第二方向」は、基板10の表面10aの法線方向と直交する方向(例えば、X軸方向又はY軸方向)に相当する。構造体移動機構35は、ステージ36と、XY駆動機構37と、を備えている。
なお、吸引回収領域36aにおける基板10の保持方法は、吸着機構による吸着保持であってもよく、特に限定されない。
例えば、XY駆動機構37は、モータ及び送りネジ等を備えている。なお、XY駆動機構37は、リニアモータ等を備えていてもよく、特に限定されない。
判定部39は、制御装置3に接続されている。判定部39は、基板10を第二方向V2に移動させたときに、基板10とともにノズル20が動くか否かを判定する。
カメラ40は、基板10の表面10aにピントを合わせてノズル20を撮像する。カメラ40は、ズームレンズ41と、接眼レンズ42と、ハーフミラー43と、受光部44と、を備えている。
図4に示すように、実施形態の回収システム1は、ノズル20を浸漬する(ディップする)ディップ部50を更に備えている。ディップ部50は、試薬ディップ部51と、洗浄液ディップ部52と、を備えている。
なお、試薬ディップ部51において、ノズル20の先端部21をディップする液体としては、例えば、凹部11に微粒子Mとともに配置されている培養液又はPBS(Phosphate bufferedsaline)を用いる。
なお、洗浄液ディップ部52において、ノズル20の先端部21を洗浄する洗浄液としては、例えば、凹部11に微粒子Mとともに配置されている培養液又はPBSを用いる。
以下、本実施形態の回収システム1を用いて、基板10の凹部11に収容された微粒子Mをノズル20により吸引して回収する微粒子の回収方法の一例について説明する。
回収システム1は、電源をオンにされた際、初期化動作を行う。例えば、初期化動作では、ステージ36を待機位置(初期位置)まで移動させる。そして、ノズル20の旋回動作、昇降動作、吸引排出動作を行った後に、ノズル20を待機位置(待機ポジションP2)まで移動させる。これにより、ステージ36及びノズル20が他の機構に干渉することなく正常に動作することを確認することができる。加えて、ステージ36及びノズル20が基準位置(ホームポジション)で待機した状態となる。
図5に示すように、XYアライメントにおいては、例えば、ノズル20の中心軸C1(径方向中心を通る軸)と凹部11の観察領域の基準点G1とを一致させる。ここで、「凹部11の観察領域の基準点G1」は、表示装置4に表示される表示画像G(受光部44へと導かれた画像)の中心点に相当する。
)。これにより、ノズル20の先端部21が基板10の表面10aに当接した状態を解除する。一方、位置調整工程において、判定工程での判定結果に基づいてノズル20が動かないと判定されたときはノズル20を静止させる(以下「第二の調整」という。)。これにより、ノズル20の先端部21が基板10の表面10aから離反した状態を維持する。
本実施形態に係る回収システムは、構造体が、表面10a側に微粒子Mを収容可能に窪む凹部11が形成され、かつ凹部11の内壁から裏面10b側に連通するとともに微粒子Mの大きさよりも小さい孔径を持つ連通孔11hが形成された基板10である。
本実施形態によれば、基板10の凹部11と連通孔11hとの間で微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。加えて、連通孔11hが微粒子Mの大きさよりも小さい孔径を持つため、微粒子Mが連通孔11hを通過することはなく、微粒子Mを凹部11で確実に保持することができる。
この方法によれば、基板移動工程において基板10とともにノズル20が動くか否かを判定する判定工程を含むことで、判定工程において、基板10とともにノズル20が動いたと判定されたときは、ノズル20が基板10に当接していると推定することができる。
一方、判定工程において、基板10とともにノズル20が動かないと判定されたときは、ノズル20が基板10から離反していると推定することができる。そのため、ノズル20が実際に基板10に当接しているか否かを確認しながら、ノズル20を基板10に可及的に接近させることができる。したがって、基板10とノズル20とを精度良く位置決めすることができる。
ところで、基板10とノズル20との位置決めにおいて、光センサを用いる方法も考えられる。しかし、基板10の表面10aが液面の場合、光の液面での屈折、反射等により基板10の位置を精度良く測定することができない可能性がある。これに対し、この方法によれば、光を利用しないため、基板10の表面10aが液面の場合においても、基板10とノズル20とを精度良く位置決めすることができる。
この方法によれば、位置調整工程において、判定工程での判定結果に基づいてノズル20が動いたと判定されたときはノズル20を基板10から離反させることで、ノズル20が基板10に当接した状態を解除することができる。一方、位置調整工程において、判定工程での判定結果に基づいてノズル20が動かないと判定されたときはノズル20を静止させることで、ノズル20が基板10から離反した状態を維持することができる。そして、判定工程での判定結果に基づいてノズル20と基板10との相対位置を調整することで、ノズル20を基板10に最大限接近させることができる。したがって、基板10とノズル20とをより一層精度良く位置決めすることができる。加えて、判定工程での判定結果に基づいてノズル20が動いたと判定されたときはノズル20を基板10から離反させることで、ノズル20が基板10に当接し過ぎてノズル20に過度の負荷がかかったり、ノズル20が基板10にめり込んだりすることを回避することができる。
この構成によれば、基板10を第二方向V2に移動させたときに基板10とともにノズル20が動くか否かを判定する判定部39を備えることで、判定部39によって基板10とともにノズル20が動いたと判定されたときは、ノズル20が基板10に当接していると推定することができる。一方、判定部39によって基板10とともにノズル20が動かないと判定されたときは、ノズル20が基板10から離反していると推定することができる。そのため、ノズル20が実際に基板10に当接しているか否かを確認しながら、ノズル20を基板10に可及的に接近させることができる。したがって、基板10とノズル20とを精度良く位置決めすることができる。
この構成によれば、基板10の表面10aにノズル20が接近したときにピントが合うため、カメラ40の撮像画像によってノズル20を明確に認識することができる。そのため、カメラ40の撮像画像を見ながらノズル20を基板10の表面10aに容易に接近させることができる。したがって、基板10の表面10aとノズル20とを精度よく容易に位置決めすることができる。
ところで、ノズル20をガラスで形成した場合には、ノズル20が基板10に当接し過ぎてノズル20に過度の負荷がかかったときに、ノズル20が折れる可能性がある。これに対し、本実施形態では、ノズル20が樹脂又は金属で形成されているため、ノズル20が基板10に当接し過ぎてノズル20に過度の負荷がかかったとしても、ある程度たわむため、ノズル20が折れることを回避することができる。
以下、本発明の第二実施形態について、図8を用いて説明する。
図8は、第二実施形態に係る基板210の要部を示す、図6に相当する図である。
図8に示すように、本実施形態では、第一実施形態に対して、基板(構造体)の態様が特に異なる。図8において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
基板210の表面210a側(一面側)には、微粒子Mを収容可能に窪む凹部211が形成されている。凹部211の断面形状は、矩形の凹形状となっている。凹部211の大きさは、1個の微粒子Mのみが収容され得る大きさであり得る。これにより、目的の単一種の細胞等を迅速に回収することができる。なお、凹部211の大きさは、複数の微粒子Mが収容され得る大きさであってもよく、特に限定されない。
以下、本発明の第三実施形態について、図9を用いて説明する。
図9は、第三実施形態に係る基板310の要部を示す、図6に相当する図である。
図9に示すように、本実施形態では、第一実施形態に対して、基板(構造体)の態様が特に異なる。図9において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
基板310には、微粒子Mを収容可能に貫通する貫通孔311が形成されている。貫通孔311は、微粒子Mを収容する空間を基板310の一面側と他面側とに連通する。貫通孔311は、「連通部」に相当する。貫通孔311は、表面310a側から裏面310bに向けて縮径するテーパ状をなしている。貫通孔311のうち裏面310b側の部分は、微粒子Mの大きさよりも小さい孔径を有している。
支持部311aは、貫通孔311の内壁のうち微粒子Mの大きさよりも小さい孔径を有する部分である。
本実施形態に係る回収システムは、構造体が、微粒子Mを収容可能に貫通する貫通孔311が形成され、かつ貫通孔311の内壁に微粒子Mを支持可能な支持部311aが形成された基板310である。
本実施形態によれば、基板310の貫通孔311を通じて微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。
加えて、貫通孔311の内壁に微粒子Mを支持可能な支持部311aが形成されているため、微粒子Mが貫通孔311を通過することはなく、微粒子Mを支持部311aで確実に保持することができる。
以下、本発明の第四実施形態について、図10を用いて説明する。
図10は、第四実施形態に係る構造体410の要部を示す、図6に相当する図である。
図10に示すように、本実施形態では、第一実施形態に対して、構造体の態様が特に異なる。図10において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
構造体410は、基板411と、支持層412と、を備えている。
例えば、基板411は、ガラス基板又はプラスチック基板である。基板411には、微粒子Mを収容可能に貫通する貫通孔411hが形成されている。貫通孔411hの大きさは、1個の微粒子Mのみが収容され得る大きさとなっている。これにより、目的の単一種の細胞等を迅速に回収することができる。なお、貫通孔411hの大きさは、複数の微粒子Mが収容され得る大きさであってもよく、特に限定されない。
本実施形態の微粒子の回収方法は、構造体410を用いて、基板411の表面411a側(一面側)から微粒子Mをノズル20により吸引して回収する回収工程を含む。例えば、回収工程の前には、ノズル位置計測工程を行う。
回収工程では、ノズル20の先端部21を基板411の表面411aに当接させた状態で、微粒子Mをノズル20により吸引して回収する。
本実施形態に係る回収システムは、構造体410が、微粒子Mを収容可能に貫通する貫通孔411hが形成された基板411と、基板411の裏面411b側に配置されるとともに、貫通孔411hに連通する連通孔412hが形成され、かつ微粒子Mを支持可能な支持層412と、を備えている。
本実施形態によれば、基板411の貫通孔411hと支持層412の連通孔412hとの間で微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。
この方法によれば、ノズル20を基板411の表面411aから離反した場合と比較して、外部の異物を吸引することを回避することができる。したがって、異物の混入を回避するとともに、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。加えて、基板411の貫通孔411hと支持層412の連通孔412hとの間でのみ微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、ノズル20を基板411の表面411aから離反した場合と比較して、ノズル20の吸引力を低く抑えることができる。
以下、本発明の第五実施形態について、図11を用いて説明する。
図11は、第五実施形態に係る構造体510の要部を示す、図6に相当する図である。
図11に示すように、本実施形態では、第一実施形態に対して、構造体の態様が特に異なる。図11において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
構造体510は、支持層512と、被覆層513と、を備えている。
例えば、支持層512は、樹脂層である。支持層512には、微粒子Mを収容可能に窪む凹部512dが形成されている。凹部512dの断面形状は、矩形の凹形状となっている。凹部512dの大きさは、1個の微粒子Mのみが収容され得る大きさとなっている。
これにより、目的の単一種の細胞等を迅速に回収することができる。なお、凹部512dの大きさは、複数の微粒子Mが収容され得る大きさであってもよく、特に限定されない。
凹部512d及び連通孔512hは、微粒子Mを収容する空間を構造体510の一面側と他面側とに連通する。凹部512d及び連通孔512hは、「連通部」に相当する。複数の連通孔512hは、X軸方向及びY軸方向に沿って一定の間隔でマトリックス状に配置されている。連通孔512hは、支持層512を厚み方向に貫通するように直線状に延びている。連通孔512hは、微粒子Mの大きさよりも小さい孔径を有している。これにより、支持層512は、微粒子Mを支持可能となっている。
本実施形態に係る回収システムは、構造体510が、微粒子Mを収容可能に窪む凹部512dが形成されるとともに、凹部512dに連通する連通孔512hが形成され、かつ微粒子Mを支持可能な支持層512と、支持層512の表面512aを覆う被覆層513と、を備えている。
本実施形態によれば、支持層512の凹部512dと連通孔512hとの間で微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。加えて、被覆層513が支持層512の表面512aを覆うため、支持層512の連通孔512hに異物が侵入することを抑制することができる。
以下、本発明の第六実施形態について、図12〜図14を用いて説明する。
図12は、第六実施形態に係る構造体610の概略構成を示す斜視図である。図13は、第六実施形態に係る構造体610の概略構成を示す断面図である。
図12に示すように、本実施形態では、第一実施形態に対して、構造体の態様が特に異なる。図12〜図14において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
構造体610は、矩形状をなしている。例えば、構造体610は、X軸方向及びY軸方向に50mm程度の長さを有している。構造体610は、透光性を有している。構造体610は、第一基板611と、第二基板612と、支持層613と、支持柱614と、を備えている。
第一基板611は、矩形板状をなしている。例えば、第一基板611は、ガラス基板又はプラスチック基板である。例えば、第一基板611の厚みは、5μm〜100μm程度である。第一基板611の表面611a(上面)の角部には、マーキング12が形成されている。
第二基板612は、支持層613及び支持柱614を介して第一基板611に対向している。
第二基板612は、矩形板状をなしている。例えば、第二基板612は、ガラス基板又はプラスチック基板である。
支持層613は、第一基板611と第二基板612との間に配置されている。具体的に、支持層613は、第一基板611の裏面611b(下面)に結合されている。例えば、支持層613は、樹脂層である。支持層613の厚みは、第一基板611の厚みよりも薄い。
支持柱614は、第一基板611と第二基板612との間に配置されている。支持柱614は、Z軸方向に延びる円柱状をなしている。例えば、支持柱614は、樹脂製である。支持柱614は、貫通孔611hを避けた位置で、第一基板611と第二基板612とを連結している。
図14に示すように、本実施形態では、吸引ポジションP1において、ノズル20の先端部21は、第一基板611の支持層613とは反対側の面(すなわち、表面611a)に当接されている。すなわち、本実施形態に係るノズル位置計測工程において、位置調整工程では、ノズル20の先端部21を第一基板611の表面611aに当接(密着)させる。
この構成によれば、ノズル20と第一基板611とを離反した場合と比較して、外部の異物を吸引することを回避することができる。したがって、異物の混入を回避するとともに、所望の微粒子Mを確実に吸引することができる。加えて、第一基板611の貫通孔611hと支持層613の連通孔613hとの間でのみ微粒子Mそのものを巻き込んだ吸気の流れを作ることができるため、ノズル20と第一基板611とを離反した場合と比較して、ノズル20の吸引力を低く抑えることができる。
次に、第六実施形態に係る構造体610の変形例について、図15〜図18を用いて説明する。
図15〜図18は、構造体610の変形例を示す斜視図である。
図15〜図18に示すように、本変形例では、第二実施形態に係る構造体610に対して、支持層613の態様が特に異なる。図15〜図18において、第六実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
以下、本発明の第七実施形態について、図19〜図21を用いて説明する。
図19は、第七実施形態に係る回収システム701の概略構成を示す平面図である。
図19に示すように、本実施形態では、第六実施形態に対して、検出装置760を更に備えた点で特に異なる。図19〜図21において、第六実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図19に示すように、平面視で、検出装置760は、吸引回収領域36aと重なる位置に配置されている。検出装置760は、第一検出装置761と、第二検出装置762と、を備えている。
図20に示すように、第一検出装置761は、検出光としてレーザー光を用いることで、第一基板611の表面611aの高さ及び平行度を非接触方式で測定可能である。第一検出装置761は、不図示の固定部材によって基台2(図19参照)に固定されている。
そのため、第一検出装置761は、ステージ36上に載置された構造体610に対して相対的な位置が固定されたものとなっている。これにより、第一検出装置761は、精度の高い測定を行うことが可能である。
図21に示すように、第二検出装置762は、検出光としてレーザー光を用いることで、ノズル20の先端部21の高さを非接触方式で計測可能である。第二検出装置762は、不図示の固定部材によって基台2(図19参照)に固定されている。そのため、第二検出装置762は、ノズル20に対して相対的な位置が固定されたものとなっている。これにより、第二検出装置762は、精度の高い測定を行うことが可能である。
例えば、第二検出装置762によってノズル20の検出を行わない場合、第二検出装置762をアーム32よりも上方の待機位置に退避させることで、ノズル20の動作を妨げないようになっている。
ところで、第一検出装置761による第一基板611の表面611aの検出は、表面611aの全域について実施するものでは無い。そのため、表面611aの一部の領域(検出エリアの外側の領域)に何らかの理由によって僅かな凹凸が生じていることも想定される。そのため、作業者が入力装置5(例えば、キーボード)により、上記データに対して数μmのマージンを加えることが可能となっていてもよい。この場合、第一検出装置761で検出した第一基板611の表面611aの高さデータに所定のマージンを加えたものを、第一表面611aの高さとして設定することができる。
2 入力書面
3 1次元イメージセンサ
4 ワイドレンズ
5 照明ランプ
1,601,701 回収システム
10,210,310 基板(構造体)
10a 表面
11h 連通孔
11,211 凹部
20 ノズル
212 連通孔
311 貫通孔
311a 支持部
410,510,610,610A,610B,610C,610D 構造体
411 基板
411h 貫通孔
412 支持層
412h 連通孔
512 支持層
512d 凹部
512h 連通孔
513 被覆層
611 第一基板
611h 貫通孔
612 第二基板
613 支持層
613h,613i,613j,613k,613m 連通孔
H1 微粒子の大きさ
H2 ノズルと構造体との間隔
M 微粒子
Claims (5)
- 構造体に収容された微粒子をノズルにより吸引して回収する微粒子の回収方法であって、
前記構造体として、前記微粒子を収容する空間を前記構造体の一面側と他面側とに連通する少なくとも1つの連通部が形成されたものであって、
前記連通部として前記微粒子を収容可能に窪む少なくとも1つの凹部が形成されるとともに、前記凹部に連通する少なくとも1つの連通孔が形成され、かつ、
前記微粒子を支持可能な支持層と、
前記支持層の前記凹部の側の面を覆う被覆層と、を備えたものを用いる
微粒子の回収方法。 - 前記支持層には、一面側に前記微粒子を収容可能に窪む少なくとも1つの前記凹部が形成され、かつ前記凹部の内壁から他面側に連通するとともに前記微粒子の大きさよりも小さい孔径を持つ少なくとも1つの前記連通孔が形成されている
請求項1に記載の微粒子の回収方法。 - 前記ノズルを前記構造体の一面に当接させた状態で、前記微粒子を前記ノズルにより吸引して回収する
請求項1または2に記載の微粒子の回収方法。 - 少なくとも1つの微粒子を収容可能な構造体と、前記構造体に収容された前記微粒子を吸引して回収するノズルとを備えた回収システムであって、
前記構造体には、前記微粒子を収容する空間を前記構造体の一面側と他面側とに連通する少なくとも1つの連通部が形成され、
前記構造体は、
前記微粒子を収容可能に窪む少なくとも1つの凹部が形成されるとともに、前記凹部に連通する少なくとも1つの連通孔が形成され、かつ前記微粒子を支持可能な支持層と、
前記支持層の前記凹部の側の面を覆う被覆層と、を備えている
回収システム。 - 前記支持層には、一面側に前記微粒子を収容可能に窪む少なくとも1つの前記凹部が形成され、かつ前記凹部の内壁から他面側に連通するとともに前記微粒子の大きさよりも小さい孔径を持つ少なくとも1つの前記連通孔が形成されている
請求項4に記載の回収システム。
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