JP6727858B2 - 半導体受光モジュールおよび半導体受光モジュールの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、半導体受光モジュールおよび半導体受光モジュールの製造方法に関する。

半導体装置として、特許文献１に記載されるように、ＩｎＰ基板上にＩｎＧａＡｓ系の層が形成され、メサ形状をなす半導体受光素子が知られている。この半導体受光素子において、チップの上面にはコンタクト層が設けられており、このコンタクト層上に、絶縁膜を介して遮光メタルが形成されている。チップの側面までが、遮光メタルによって被覆されている。チップの裏面には、光入射部としての傾斜面が形成されている。傾斜面上には、反射防止膜および遮光メタルが堆積されている。傾斜面の一部を除いた領域のすべてが、遮光メタルで被覆されている。

特開２００５−１０８９５５号公報

特許文献１に記載の装置では、遮光メタルを形成することで、光源であるレーザからの迷光を遮蔽している。遮光メタルをチップの側面に密着させるために、当該側面を順メサ形状にしている。しかし、側面が傾斜していることにより、チップのサイズに比して、受光領域のサイズは小さくなる。言い換えれば、受光領域のサイズを基準にすると、チップのサイズは大型化する。

本発明は、外乱光の影響を低減しつつ、半導体受光素子の小型化を可能とした半導体受光モジュールおよび半導体受光モジュールの製造方法を提供する。

本発明の一態様は、基板と、基板上に設けられ、受光部を含む半導体受光素子と、を備える半導体受光モジュールであって、半導体受光素子は、受光部が設けられた第１面と、第１面に対向する第２面と、第１面および第２面を接続し第１面に垂直な方向に延びる４つの側面と、を含む半導体チップと、第２面および４つの側面を連続して被覆する金属製の遮光膜と、を有し、遮光膜が、固定電位に接続されることにより第２面および４つの側面における電磁シールド効果を有する。

この半導体受光モジュールによれば、半導体チップの４つの側面は、第１面に垂直な方向に延びているため、受光部が設けられた第１面よりも側面は広がらない形状になっている。受光部は、４つの側面の近傍まで形成することができ、受光領域を大きくすることができる。したがって、受光部の面積を基準とした場合に、半導体チップの小型化が可能である。したがって、半導体受光素子の全体としての小型化が可能である。しかも、第２面および４つの側面には、連続してこれらの面を被覆する遮光膜が設けられているので、第２面および４つの側面からの外乱光の入射を抑制でき、外乱光の影響を低減できる。その結果として、分光感度を向上させることができる。

いくつかの態様において、遮光膜は、第２面および４つの側面の全面を被覆している。この場合、外乱光の入射をより確実に防止できる。

いくつかの態様において、半導体チップは、ガラスエポキシ基板である基板に第２面が対面するように設けられており、半導体受光モジュールは、基板上に設けられた端子部と、半導体チップの第２面上の遮光膜と端子部との間に介在されて、半導体チップを固定する導電性の接着剤層と、を更に備え、端子部は、固定電位に接続されることにより、遮光膜が電磁シールド効果を有する。この構成によれば、第２面を被覆する金属製の遮光膜は、導電性の接着剤層および端子部を介して、固定電位に接続される。これにより、第２面および４つの側面が同一電位となり、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。端子部が固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。

いくつかの態様において、半導体受光モジュールは、第１面に設けられた電極部と、電極部と上記の端子部とを電気的に接続するワイヤを更に備える。この構成によれば、第１面に設けられた電極部と半導体チップの外周を覆う遮光膜とが、ワイヤを介して同一電位となる。ワイヤがない場合と比較して、例えば、半導体チップの内部抵抗による電位変動要因がなくなり、より安定した電位となり、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。第１面の電極部がワイヤにより端子部に接続され、端子部が固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。

いくつかの態様において、半導体チップは、所定波長の光に対して光学的に透明な基板に第１面が対面するように設けられると共に、基板に対してバンプを介してフリップチップ実装されている。この構成によれば、フリップチップ実装により、耐久性が高く高信頼な半導体受光モジュールが実現される。

本発明のいくつかの態様によれば、外乱光の影響を低減しつつ、半導体受光素子の小型化が可能である。

本発明の一実施形態に係る半導体受光モジュールを示す断面図である。 図１の半導体受光モジュールを示す斜視図である。 （ａ）は図１中の半導体受光素子を示す斜視図、（ｂ）は図１の半導体受光素子を第２面側から見て示す斜視図である。 図３の半導体受光素子の断面図である。 図１の半導体受光モジュールの製造方法を示す流れ図である。 図５に示す製造方法の一工程における被処理体を示す断面図である。 図６に続く工程における被処理体を示す断面図である。 図７に続く工程における被処理体を示す断面図である。 図８に続く工程における被処理体を示す断面図である。 図９に続く工程における被処理体を示す断面図である。 図１０に続く工程における被処理体を示す断面図である。 （ａ）は本発明の他の実施形態に係る半導体受光モジュールを示す斜視図、（ｂ）は、実装用基板に実装された図１２（ａ）の半導体受光モジュールを示す斜視図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の説明において同一要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。

図１、図２、および図３（ａ），（ｂ）を参照して、本実施形態に係る半導体受光モジュール１について説明する。半導体受光モジュール１は、たとえば、小型の電子機器等に搭載される、表面入射型の受光モジュールである。半導体受光モジュール１は、いわゆる正面光を入力して検出する。半導体受光モジュール１が搭載される電子機器は、特に限られず、あらゆる種類の電子機器が挙げられる。半導体受光モジュール１は、たとえば携帯電話等に搭載されてもよいし、車載用の電子機器等に搭載されてもよい。半導体受光モジュール１は、扁平な直方体状を呈している。半導体受光モジュール１の寸法は、たとえば、一辺が０，５〜５ｍｍ程度である。半導体受光モジュール１の寸法は、その用途により任意に定めることができる。

半導体受光モジュール１は、実装用基板２上に搭載される基板３と、基板３上に設けられる半導体受光素子１０と、基板３および半導体受光素子１０を封止する透明な封止樹脂４とを備える。基板３は、たとえば矩形の板状をなす絶縁基板である。基板３は、配線基板であり、たとえばガラスエポキシ基板である。基板３上には、所定の配線パターンが形成されている。半導体受光素子１０は、基板３に対し、ワイヤボンディングにより接続・固定されている。

半導体受光素子１０は、直方体状をなしている。半導体受光素子１０は、直方体状の半導体チップ２０と、半導体チップ２０を被覆する金属製の遮光膜３０とを有する。半導体チップ２０の上面である第１面２１には、受光部２０ａが設けられている。受光部２０ａは、第１面２１の略中央に形成されている。半導体チップ２０は、いわゆるプレーナ型（平坦型）の受光素子である。半導体チップ２０は、たとえば、単結晶シリコンからなる。半導体チップ２０は、たとえば、ｐｎ接合構造を有するフォトダイオードである。半導体チップ２０は、これに限定されず、たとえば、ｐｉｎ構造を有するフォトダイオードであってもよい。

半導体チップ２０は、対向する第１面２１および第２面２２と、対向する第３面２３および第４面２４と、対向する第５面２５および第６面２６とを有する。第１面２１と、その反対側の第２面２２とは、平行である。第３面２３および第４面２４は、第１面２１および第２面２２を接続しており、これらの面に垂直な方向に延びている。第５面２５および第６面２６は、第１面２１および第２面２２を接続しており、これらの面に垂直な方向に延びている。第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６は、半導体チップ２０の４つの側面を構成している。

半導体チップ２０は、第２面２２が基板３に対面するように設けられている。半導体チップ２０と基板３との間には、導電性の接着剤層６が介在されている。接着剤層６は、半導体チップ２０の底面を構成する第２面２２上に形成された３０に対し、面状に接触する。接着剤層６に用いられる導電性の接着剤としては、ＡｇペーストまたはＡｕペースト等が挙げられる。

半導体チップ２０の外周を覆う遮光膜３０は、導電性の接着剤層６により、基板３に設けられた第１端子部８ａと電気的に接続されている。第１端子部８ａが、たとえば接地電位等の、安定的な固定電位に接続されることにより、半導体チップ２０の第１面２１を除く第２面から第６面２２，２３，２４，２５，２６が同一電位となり、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。この第１端子部８ａは、たとえば接地電位等の、安定的な固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。

半導体チップ２０の第１面２１に設けられた第１電極部７ａは、第１ワイヤ１１によって、第１端子部８ａと電気的に接続されてもよい。半導体チップ２０の第１電極部７ａと半導体チップ２０の外周を覆う遮光膜３０とが、第１ワイヤを介して同一電位となる。この構成によれば、第１ワイヤ１１がない場合と比較して、例えば、半導体チップ２０の内部抵抗による電位変動要因がなくなり、より安定した電位となり、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。第１端子部８ａが、たとえば接地電位等の、安定的な固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。

半導体チップ２０の第１面２１の受光部２０ａに設けられた第２電極部７ｂは、第２ワイヤ１２によって、基板３に設けられた第２端子部８ｂと電気的に接続されてもよい。

封止樹脂４は、全体として、直方体状をなしている。封止樹脂４は、基板３の表面の全体を覆っている。封止樹脂４は、上記の第１端子部８ａ、第１電極部７ａ、および第１ワイヤ１１と、第２端子部８ｂ、第２電極部７ｂ、および第２ワイヤ１２とを封止し、これらを保護する。封止樹脂４は、所定波長の光に対して光学的に透明である。封止樹脂４は、たとえば、熱硬化性樹脂であり、エポキシ樹脂などから形成されている。封止樹脂４の屈折率は、空気の屈折率より大きい。たとえば、エポキシ樹脂から形成された封止樹脂４の屈折率ｎは、約１．５である。なお、封止樹脂４は、特定の波長の光を照射することによって硬化する光硬化樹脂から形成されてもよい。封止樹脂４には、光を拡散するためのフィラーが含まれてもよい。

半導体受光素子１０では、半導体チップ２０の６つの面のうち、第１面２１以外の面は、すべて遮光膜３０によって被覆されている。すなわち、金属製の遮光膜３０は、第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６の５つの面を被覆している。

遮光膜３０は、たとえば、モネル（すなわちＮｉとＣｕの合金）からなる。遮光膜３０は、Ａｕからなってもよく、ＣｒやＡｇからなってもよい。遮光膜３０は、半導体チップ２０に対する密着性を有することが好ましい。

図３（ａ），（ｂ）および図４に示されるように、遮光膜３０は、第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６を連続して被覆している。遮光膜３０は、第２面２２の全面を被覆しており、さらに、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６のそれぞれの全面を被覆している。第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６のうち、いずれか２面が合わさり稜部（辺部）が形成されるが、遮光膜３０は、各面の間に形成されたいずれの稜部をも覆っている。遮光膜３０は、途切れることなく、第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６を覆っている。図４に示されるように、遮光膜３０は、４つの側面の上端縁（第１面２１側の端縁）にまで延在している。ただし、遮光膜３０は、第１面２１上には設けられていない。したがって、第１面２１は露出している。

なお、遮光膜３０は、第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６の範囲でほぼ連続していればよく、多少の不連続部、孔部、またはスリット等が存在してもよい。第２面２２、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６のうち、いずれの２面においても、少なくとも稜部（辺部）の一部で遮光膜３０が連続している。あるいは、４つの側面２３，２４，２５，２６同士において遮光膜３０は連続しておらず、第２面２２と各側面との間で遮光膜３０が連続していてもよい。

表面入射型の半導体受光素子１０では、第２面２２および４つの側面２３，２４，２５，２６が、連続する遮光膜３０で被覆されているため、側面遮光が実現されている。すなわち、側面から入射し得る光が遮光膜３０で遮断され、半導体チップ２０内に侵入しないようになっている（図１参照）。さらには、底面である第２面２２にも遮光膜３０が設けられているため、ガラスエポキシ基板である基板３に入射し、その最表層（第一層目）を伝搬し得る光を遮断できる。これらの遮光機能により、半導体受光モジュール１全体における分光感度が向上している。第２面２２に設けられた遮光膜３０が接着剤層６に面状に密着し、これが接地電位に接続されることにより、遮光膜３０全体での電磁シールド効果が高められている。半導体受光素子１０では、遮光機能および電磁シールド機能がチップそのものに備わっているため、たとえば黒樹脂などの特異的な材料を用いる必要がない。

続いて、図５〜図１１を参照して、半導体受光モジュール１の製造方法について説明する。なお、以下の説明において参照する図面（図６〜図１１）では、ダイシングシートＳ上の一部の領域のみが示されている。

まず、図５および図６に示されるように、単結晶シリコン等からなるウエハ５０を用意する（ステップＳ０１）。ウエハ５０は、受光部２０ａが形成されたウエハ５０の第１面５１が上面側となるように配置される。第１面５１に対向する第２面５２は、下面側に配置される。

次に、図７に示されるように、ウエハ５０の第２面５２をダイシングシートＳ上に貼り付け（貼り替え）、ダイシングブレードを用いてダイシングする（ステップＳ０２）。これにより、縦横に配列された多数の半導体チップ２０（ダイ）が得られる。各半導体チップ２０は、第１面２１および第２面２２を接続しこれらの面に垂直な４つの側面、すなわち第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６を含む。これにより、垂直な側面を含むプレーナ型受光素子が得られる。ステップＳ０２の実施後、隣り合う半導体チップ２０同士の間には、極僅かな隙間ｇが形成される。隙間ｇは、たとえば、１００μｍ程度であり、半導体チップ２０の厚み（第１面２１から第２面２２までの長さ）よりも小さい。

次に、図８に示されるように、各半導体チップ２０を反転して、ダイシングシートＳに再度貼り付ける（貼り替える）（ステップＳ０３）。この工程により、複数の半導体チップ２０がダイシングシートＳに並べられる。各半導体チップ２０において、第２面２２が上面側に配置され、第１面２１が下面側に配置される。言い換えれば、第１面２１は、ダイシングシートＳに密着した状態となり、それ以外の５面（第２面２２と４つの側面）は露出した状態となる。ここでも、隣り合う半導体チップ２０同士の間には、極僅かな隙間ｇが維持されている。

続いて、図９に示されるように、ダイシングシートＳを水平方向（第１面２１および第２面２２に平行な方向）にエクスパンドすなわち拡張する（ステップＳ０４）。ここでは、ダイシングシートＳをダイシングフレームからエキスパンダ（拡張装置）に付け替え、ダイシングシートＳを水平方向に引っ張り、拡張させる。これにより、隣り合う半導体チップ２０同士の間には、より大きい間隔（ギャップ）Ｇが形成される。間隔Ｇは、エキスパンダが通常利用される場合の間隔（チップのピックアップに必要な間隔）よりも大きい。間隔Ｇは、たとえば、半導体チップ２０の厚みよりも大きく、たとえば、５００μｍ程度である。間隔Ｇは、半導体チップ２０の幅（一対の側面間の長さ）より大きくてもよい。

次に、図１０に示されるように、遮光膜６０を形成する（ステップＳ０５）。ここでは、スパッタ装置または蒸着装置などといった成膜装置を用いて、成膜装置内で処理を行う。各半導体チップ２０をダイシングシートＳに貼り付けた状態であるため、蒸着は、常温処理にて行う。用いられる金属媒体としては各種挙げられるが、たとえば、上記したように、モネル（ＮｉとＣｕの合金）が適している。金属媒体は、蒸着性および光学性などを考慮して選定することができる。

ステップＳ０４で広い間隔Ｇを設けたことにより、上面側に配置された第２面２２と、４つの側面である第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６とが、遮光膜６０によって被覆され易くなっている。本実施形態では、第３面２３、第４面２４、第５面２５、および第６面２６に溝や凹凸等を形成することなく、平坦な側面に対する遮光膜３０の形成を可能としている。また、ステップＳ０２のダイシング処理で得られた第３面から第６面２３，２４，２５，２６は粗面であるので、これらが垂直面であっても、遮光膜６０は形成し易くなっている。

次に、半導体チップ２０を再度反転して、ダイシングシートＳに貼り付ける（貼り替える）（ステップＳ０６）。これにより、第１面２１が上面側に再度位置することになる。そしてこれらの半導体チップ２０をピックアップし、基板３上に実装する（ステップＳ０７）。実装にあたっては、ダイボンディングおよびワイヤボンディングにより、半導体チップ２０を基板３上に固定・接続し、さらに、封止樹脂４を形成する。これにより、図１に示される半導体受光モジュール１が得られる。

以上の工程により、半導体受光モジュール１が製造される。上記したように、遮光機能および電磁シールド機能が半導体受光素子１０（半導体チップ２０）そのものに備わっているため、製造工程においても、モールドパッケージ構造のような特殊な製造方法を採用する必要がなく、半導体受光モジュール１を安価に製造することができる。

本実施形態の半導体受光モジュール１によれば、半導体受光素子１０の４つの側面２３，２４，２５，２６は、第１面２１に垂直な方向に延びているため、受光部２０ａが設けられた第１面２１よりも側面が広がらない形状になっている。受光部２０ａは、４つの側面２３，２４，２５，２６の近傍まで形成することができ、受光領域を大きくすることができる。したがって、受光部２０ａの面積を基準とした場合に、半導体チップ２０の小型化が可能である。したがって、半導体受光素子１０の全体としての小型化が可能である。しかも、第２面２２および４つの側面２３，２４，２５，２６には、連続してこれらの面を被覆する遮光膜３０が設けられているので、第２面２２および４つの側面２３，２４，２５，２６からの外乱光の入射を抑制でき、外乱光の影響を低減できる（図１参照）。その結果として、分光感度を向上させることができる。たとえば、赤外光に対する分光感度を向上させることができる。半導体チップ２０がシリコン製である場合、シリコンは赤外光を透過させ易いため、側面入射に対し、遮光膜３０が一層有効に機能する。

遮光膜３０が第２面２２および４つの側面２３，２４，２５，２６の全面を被覆しているため、外乱光の入射をより確実に防止できる（図１参照）。

また、半導体受光モジュール１の構成によれば、第２面２２を被覆する金属製の遮光膜３０は、導電性の接着剤層６および第１端子部８ａを介して、固定電位に接続される。これにより、第２面２２および４つの側面２３，２４，２５，２６を連続して被覆する遮光膜３０全体が同一電位となり、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。このように、第１端子部８ａが固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。第２面２２を被覆する遮光膜３０の一面全体が、接着剤層６を介して、接地電位である第１端子部８ａに接続されるため、この電磁シールド効果は大きい。

第１ワイヤ１１を介して、第１面２１に設けられた第１電極部７ａと半導体チップ２０の外周を覆う遮光膜３０とが同一電位となる。第１ワイヤ１１がない場合と比較して、例えば、半導体チップ２０の内部抵抗による電位変動要因がなくなり、より安定した電位となる。よって、外部からの電磁的ノイズを遮蔽する効果が見込まれる。第１面２１の第１電極部７ａが第１ワイヤ１１により第１端子部８ａに接続され、第１端子部８ａが固定電位に接続されることにより、安定的な電磁的シールド効果が見込まれる。

本実施形態の半導体受光モジュール１の製造方法によれば、ダイシングシートＳ上に半導体チップ２０を並べる際に隙間ｇをあけるため、第１面２１に垂直な方向に延びる４つの側面２３，２４，２５，２６であっても、それらの側面２３，２４，２５，２６に遮光膜を形成し易い。

ダイシングシートＳを水平方向にエクスパンドする工程（ステップＳ０４）により間隔が広げられることで、４つの側面２３，２４，２５，２６に、より一層遮光膜３０を形成し易くなっている（図９の間隔Ｇおよび図１０参照）。

上記特許文献１に記載されるような従来の装置では、チップ側面へ遮光膜を形成するために、チップ側面に傾斜面を形成している。この場合、チップサイズに比べて受光領域が小さくなり、結果として小型化はできない。また、製造方法の観点においても、傾斜部を形成する工程に起因する長時間化、或いは歩留まり劣化を招きやすい。本発明では、ウエハ５０の状態で個片化する際、ダイシング後にダイシングシートＳを貼り替え、水平方向のエクスパンドによりギャップ（間隔Ｇ）を拡張し、スパッタによるチップ側面への遮光膜３０の形成に成功している。

図１２を参照して、他の実施形態について説明する。図１２（ａ）は、他の実施形態に係る半導体受光モジュール１Ａを示す斜視図であり、図１２（ｂ）は、実装用基板に実装された半導体受光モジュール１Ａを示す斜視図である。本実施形態の半導体受光モジュール１Ａが先の実施形態の半導体受光モジュール１と違う点は、基板３へのワイヤボンディングによる実装に代えて、透明なガラス基板１３に第１面２１が対面するように、半導体受光素子１０をフリップチップ実装した点である。半導体受光素子１０は、バンプを介してガラス基板１３に実装されている。半導体受光素子１０とガラス基板１３との間の間隙には、アンダーフィルが充填されている。ガラス基板１３は、所定波長の光に対して光学的に透明であるが、たとえば、透明樹脂製の配線基板であってもよい。

この半導体受光モジュール１Ａは、たとえば、図１２（ｂ）に示されるように、ガラス基板１３が実装用基板１５の裏面に配置されて、実装用基板１５の貫通穴１５ａを介して受光部２０ａから光を入射させる態様で使用され得る。半導体受光モジュール１Ａによれば、半導体受光モジュール１と同様の作用・効果が奏される。更には、フリップチップ実装により、耐久性が高く高信頼な半導体受光モジュール１Ａが実現される。なお、ガラス基板１３へのフリップチップ実装を行った半導体受光モジュール１Ａでは、半導体受光素子１０は、半導体チップ２０の基板抵抗（シリコンの直列抵抗に相当）を介して接地電位に接続される。そのため、半導体受光モジュール１よりも電磁シールド効果は劣る。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限られない。たとえば、半導体受光素子１０の基板への接続・固定方式は、ワイヤボンディング方式やフリップチップ方式に限られない。他の方式を適宜採用してもよい。

上記の製造方法において、ステップＳ０４でのエクスパンド工程、すなわち広い間隔Ｇを設ける工程は省略されてもよい。スパッタまたは蒸着工程の条件を最適化し、図８に示されるエクスパンド前の隙間ｇにて遮光膜３０（遮光膜６０）の形成を行ってもよい。

上記の実施形態では、ダイシングブレードを用いたダイシング工程を前提として、製造方法が説明されたが、上記の製造方法には限られない。たとえば、ダイシングブレードを用いず、チップとして個片化したい領域（すなわちチップ予定領域）の周縁領域の半導体基板にレーザ光を照射し、半導体基板の内部に改質領域（厚さ方向に延びる亀裂）を形成し、半導体基板に水平方向の応力をかけることでチップを個片化する、所謂ステルスダイシングを用いてもよい。ステルスダイシングを用いた場合、レーザが照射された領域が改質領域（亀裂）となる為、個片化後のチップ側面では改質領域とそれ以外の領域で微小な凹凸（段差）が生じる。その凹凸（段差）上に遮光膜が形成される為、アンカー効果すなわち遮光膜が剥れにくい効果が生じ得る。

１…半導体受光モジュール、１Ａ…半導体受光モジュール、２…実装用基板、３…基板、４…封止樹脂、６…接着剤層、７ａ…第１電極部、７ｂ…第２電極部、８ａ…第１端子部、８ｂ…第２端子部、１０…半導体受光素子、１１…第１ワイヤ、１２…第２ワイヤ、１３…ガラス基板、１５…実装用基板、２０…半導体チップ、２０ａ…受光部、２１…第１面、２２…第２面、２３…第３面（側面）、２４…第４面（側面）、２５…第５面（側面）、２６…第６面（側面）、３０…遮光膜、５０…ウエハ、５１…第１面、５２…第２面、６０…遮光膜、Ｓ…ダイシングシート。

Claims (5)

1. 基板と、基板上に設けられ、受光部を含む半導体受光素子と、を備える半導体受光モジュールであって、
   前記半導体受光素子は、
   前記受光部が設けられた第１面と、前記第１面に対向する第２面と、前記第１面および前記第２面を接続し前記第１面に垂直な方向に延びる４つの側面と、を含む半導体チップと、
   前記第２面および前記４つの側面を連続して被覆する金属製の遮光膜と、を有し、
   前記遮光膜が、固定電位に接続されることにより前記第２面および前記４つの側面における電磁シールド効果を有する、半導体受光モジュール。
2. 前記遮光膜は、前記第２面および前記４つの側面の全面を被覆している、請求項１に記載の半導体受光モジュール。
3. 前記半導体チップは、ガラスエポキシ基板である前記基板に前記第２面が対面するように設けられており、
   前記基板上に設けられた端子部と、
   前記半導体チップの前記第２面上の遮光膜と前記端子部との間に介在されて、前記半導体チップを固定する導電性の接着剤層と、を更に備え、
   前記端子部が前記固定電位に接続されることにより、前記遮光膜が前記電磁シールド効果を有する、請求項１または２に記載の半導体受光モジュール。
4. 前記第１面に設けられた電極部と、
   前記電極部と前記端子部とを電気的に接続するワイヤと、を更に備える、請求項３に記載の半導体受光モジュール。
5. 前記半導体チップは、所定波長の光に対して光学的に透明な前記基板に前記第１面が対面するように設けられると共に、前記基板に対してバンプを介してフリップチップ実装されている、請求項１または２に記載の半導体受光モジュール。

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