JP6717700B2 - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る表示装置100の斜視図である。本実施形態に係る表示装置100の構成を、図1を参照して説明する。表示装置100は、第1基板102に表示領域106が設けられている。表示領域106は複数の画素108が配列することによって構成されている。表示領域106の上面には封止材としての第2基板104が設けられている。第2基板104は、例えば、表示領域106を囲むシール材110によって第1基板102に固定されている。第1基板102に形成された表示領域106は、封止材である第2基板104とシール材110によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素に設けられる発光素子の劣化を抑制している。尚、第2基板104の設置に際して、表示領域106を囲むシール材110を用いず他の手段で固定しても良い。
図4を参照して、本実施形態における表示装置100の製造方法について説明する。尚、本実施形態においては、封止膜の形成以外は既存の方法を用いることが可能であるため、その説明を省略し、図面においては表示領域106および封止領域113における、共通画素電極124以上の層を成膜する方法として説明する。
本実施形態と第1実施形態において、表示装置100の構造や、一部の製造工程については共通するため、重複する説明は省略する。
第1実施形態に係る成膜方法では、第1の絶縁膜130の略全面に有機分子を吸着し、次に第1の絶縁膜130上の第2の絶縁膜132の成膜領域における有機分子を除去して、第2の絶縁膜132を成膜した。第2実施形態に係る成膜方法では、第1の絶縁膜130上の第2の絶縁膜132の非成膜領域に有機分子を吸着し、第2の絶縁膜132を成膜する。なお第1実施形態と同様である部分は、その詳しい説明を省略する。
本実施形態と第1実施形態において、一部の表示装置100の構造や、一部の製造工程については共通するため、重複する説明は省略する。
第1実施形態に係る成膜方法では、第1の絶縁膜130の略全面に有機分子を吸着し、次に第1の絶縁膜130上の第2の絶縁膜132の成膜領域における有機分子を除去して、第2の絶縁膜132を成膜した。第2実施形態に係る成膜方法では、第1の絶縁膜130上の第2の絶縁膜132の非成膜領域に有機分子を吸着し、第2の絶縁膜132を成膜した。第3実施形態では、第1の絶縁膜130上の第2の絶縁膜132の成膜領域に酸化シリコンやアモルファスシリコン等の密着膜131を形成し、密着膜131上に第2の絶縁膜132を成膜する。このとき表示領域を取り囲む外部領域の基板端側すなわち外側には密着膜131が形成されない。このことにより基板端付近の前記外部領域の一部には第2の絶縁膜132も形成されない。
Claims (18)
- 複数の表示素子が配列された表示領域を有する基板の、前記表示領域を含む面に第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜の前記基板とは反対側の第1面の略全面に有機分子を吸着させ、
前記第1の絶縁膜の前記第1面において、前記表示領域を含み、前記第1の絶縁膜の端部に至らない内側の領域として画定される第1の領域に吸着する前記有機分子を除去し、
前記第1の絶縁膜において前記有機分子が除去された前記第1の領域に第2の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜の前記第1の領域外に吸着された前記有機分子を除去し、
前記第1の絶縁膜及び前記第2の絶縁膜上に、前記第2の絶縁膜の外側で前記第1の絶縁膜と接する第3の絶縁膜を形成すること、
とを含む表示装置の製造方法。 - 前記第1の絶縁膜上に、前記第1の領域を露出させる開口部を有するマスクを配置してプラズマ処理を行い、前記有機分子を除去する、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
- 前記プラズマ処理は、酸素を含む気体のグロー放電プラズマで処理する、請求項2に記載の表示装置の製造方法。
- 複数の表示素子が配列された表示領域を有する基板の、前記表示領域を含む面に第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜の前記基板とは反対側の第1面において、前記表示領域を含み、前記第1の絶縁膜の端部に至らない内側の領域として画定される第1の領域をマスクした前記第1の絶縁膜に有機分子を吸着させ、
前記第1の絶縁膜において前記有機分子が吸着されない前記第1の領域に第2の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜の前記第1の領域外に吸着された前記有機分子を除去し、
前記第1の絶縁膜及び前記第2の絶縁膜上に、前記第2の絶縁膜の外側で前記第1の絶縁膜と接する第3の絶縁膜を形成すること、
とを含む表示装置の製造方法。 - 前記有機分子は、フタル酸エステル類、低分子シロキサン、リン酸エステル類、またはジブチルヒドロキシトルエンから選択される一種又は複数の有機材料の分子である、請求項1乃至4の何れか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記有機分子は、前記第1の絶縁膜の第1面の撥液性を高くする、請求項5に記載の表示装置の製造方法。
- 複数の表示素子が配列された表示領域を有する基板の、前記表示領域を含む面に第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜の前記基板とは反対側の第1面において、前記表示領域を含み、前記第1の絶縁膜の端部に至らない内側の領域として画定される第1の領域以外をマスクした前記第1の絶縁膜に密着膜を形成し、
前記第1の絶縁膜において密着膜が形成された前記第1の領域に第2の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記第2の絶縁膜上に、前記第2の絶縁膜の外側で前記第1の絶縁膜と接する第3の絶縁膜を形成すること、
とを含む表示装置の製造方法。 - 前記密着膜は前記第1の領域に形成され、第1の領域よりも外側の領域には形成されないことを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記密着膜は酸化シリコンまたはアモルファスシリコンである、請求項8に記載の表示装置の製造方法。
- 前記密着膜は、前記第2の絶縁膜の密着性を高くする、請求項9に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2の絶縁膜の端部を、前記表示領域の端部より外側に形成し、前記第1の絶縁膜の端部および前記第3の絶縁膜の端部を、前記第2の絶縁膜の端部より外側に形成する、請求項1乃至10の何れか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記基板はさらに駆動回路を含む駆動回路領域を有し、
前記第1の領域を前記駆動回路領域の外側に形成する、請求項11に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2の絶縁膜の端部は、前記表示領域の端部と駆動回路領域の端部との間に形成する、請求項12に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2の絶縁膜を、インクジェット法で形成する、請求項13に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2の絶縁膜は、有機絶縁材料を用いて形成する、請求項14に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1の絶縁膜及び前記第3の絶縁膜を、プラズマCVD法で形成する、請求項15に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1の絶縁膜及び前記第3の絶縁膜は、無機絶縁材料を用いて形成する、請求項16に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1の絶縁膜及び前記第3の絶縁膜は、窒化シリコン膜を用いて形成する、請求項17に記載の表示装置の製造方法。
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