JP6715861B2 - 配向焼結体の製法 - Google Patents

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Description

本発明は、配向焼結体の製法に関する。
配向焼結体を得るために、従来、TGG(Templated Grain Growth)法を用いることが提案されている(例えば特許文献1参照)。この方法は、微細原料粒子と板状原料粒子(テンプレート粒子)を所定の割合で混合し、ドクターブレードのようなテープ成形においてせん断のかかる方法で成形体中の板状原料粒子を並べ、焼成時にこの板状原料粒子が微細原料粒子を取り込みながら、ホモエピタキシャル成長させるというものである。
特許第5770905号公報(段落0036及び0037)
しかしながら、この方法では、装置が制約される。たとえば、テンプレート粒子を配列させるにあたり、テープ成形時に、非常に高いせん断力を与えることが必要であるため、大型のテープ成形機が必要になる。すなわち、テープ成形機は、せん断力を与えるために成形速度を早くする必要がある。この場合、乾燥不足となるのを防ぐため、成形機の長さを長くすることで乾燥させることが必要となる。そのため、テープ成形機が大型化するのである。こうしたことから、TGG法と比べて簡便に配向焼結体を製造する方法の開発が望まれていた。
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、TGG法と比べて簡便に配向焼結体を製造することを主目的とする。
本発明の配向焼結体の製法は、
(a)微細原料粉末層と、板状原料粒子の板面が前記微細原料粉末層の表面に沿うように配列された板状原料粉末層とが、交互に積層された積層体を作製する工程と、
(b)前記積層体を焼成する工程と、
を含むものである。
本発明の配向焼結体の製法では、微細原料粉末層と板状原料粉末層とが交互に積層された積層体を作製してその積層体を焼成する。板状原料粉末層では、板状原料粒子の板面が微細原料粉末層の表面に沿うように配列されている。従来のTGG法では、微細原料粉末と板状原料粉末との混合粉末をテープ成形する際、板状原料粉末を配列させるために非常に高いせん断力を与えなければならなかった。しかし、本発明では、混合粉末ではなく板状原料粉末を配列させるため、TGG法のような大きなせん断力は必要にならない。そのため、装置構成はTGG法に比べてコンパクトになる。したがって、本発明の配向焼結体の製法によれば、TGG法と比べて簡便に配向焼結体を製造することができる。
板状アルミナ粒子の模式図で、(a)は平面図、(b)は正面図。 配向焼結体20の製造工程図で、(a)は積層体10の断面図、(b)は配向焼結体20の断面図。 チルト角の説明図。 ロッキングカーブ測定の説明図。
本発明の配向焼結体の製法は、
(a)微細原料粉末層と、板状原料粒子の板面が前記微細原料粉末層の表面に沿うように配列された板状原料粉末層とが、交互に積層された積層体を作製する工程と、
(b)前記積層体を焼成する工程と、
を含むものである。
工程(a)で用いる微細原料粉末層は、微細原料粒子の集合体の層である。微細原料粉末は、平均粒径が板状原料粉末よりも小さい粉末である。微細原料粉末層は、微細原料粉末そのものを成形した層であってもよいし微細原料粉末に添加剤を加えたものを成形した層であってもよい。添加剤としては、例えば焼結助剤やグラファイト、バインダー、可塑剤、分散剤、分散媒などが挙げられる。成形方法は特に限定するものではないが、例えば、テープ成形、押出成形、鋳込み成形、射出成形、一軸プレス成形等が挙げられる。微細原料粉末層の厚みは、5〜100μmであることが好ましく、10〜100μmであることがより好ましく、20〜60μmであることが更に好ましい。
工程(a)で用いる板状原料粉末層は、板状原料粒子の集合体の層である。板状原料粉末は、アスペクト比が3以上のものが好ましい。アスペクト比は、平均粒径/平均厚さである。ここで、平均粒径は、粒子板面の長軸長の平均値、平均厚さは、粒子の短軸長の平均値である。これらの値は、走査型電子顕微鏡(SEM)で板状原料粉末中の任意の粒子100個を観察して決定する。図1は、板状原料粒子の一例である板状アルミナ粒子の模式図であり、(a)は平面図、(b)は正面図である。板状アルミナ粒子は、平面視したときの形状が略六角形状であり、その粒径は図1(a)に示したとおりであり、厚みは図1(b)に示したとおりである。板状原料粉末の平均粒径は、配向焼結体の高配向化の観点からは大きい方が好ましく、1.5μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、10μm以上が更に好ましく、15μm以上が特に好ましい。但し、緻密化の観点からは小さい方が好ましく、30μm以下が好ましい。こうしたことから、高配向と緻密化を両立するには平均粒径が1.5μm〜30μmであることが好ましい。板状原料粉末層は、板状原料粉末そのものの層であってもよいし板状原料粉末に添加剤を加えたものの層であってもよい。添加剤としては、例えば焼結助剤やグラファイト、バインダー、可塑剤、分散剤、分散媒などが挙げられる。板状原料粉末層は、板状原料粉末を構成する板状原料粒子の板面が微細原料粉末層の表面に沿うように配列されている。板状原料粉末は、単一粒子になっていることが好ましい。単一粒子になっていない場合には、配向度やチルト角を悪化させることがある。粒子を単一にするには、分級処理、解砕処理及び水簸処理の少なくとも1つの処理を採用すればよいが、すべての処理を採用するのが好ましい。分級処理や解砕処理は、凝集等がある際に採用するのが好ましい。分級処理としては、気流分級等が挙げられる。解砕処理としては、ポット解砕、湿式微粒化方式等が挙げられる。水簸処理は、微粒粉が混入している際に採用するのが好ましい。
工程(a)で作製される積層体は、微細原料粉末層と板状原料粉末層とが交互に積層されたものである。積層体を作製する際、微細原料粉末の成形体の片面を板状原料粉末層で全面的に又は部分的に被覆した片面加工体を作製し、該片面加工体を利用して積層体を作製してもよい。あるいは、微細原料粉末の成形体の両面を板状原料粉末層で全面的に又は部分的に被覆した両面加工体を作製し、該両面加工体と未加工の成形体とを利用して積層体を作製してもよい。
片面加工体又は両面加工体は、微細原料粉末の成形体の片面又は両面に該成形体よりも厚みの薄い板状原料粉末の成形体を積層することにより作製してもよい。この場合、板状原料粉末の成形体は、板状原料粒子の板面がその成形体の表面に沿うようにテープ成形や印刷などによってせん断力を与えて成形したものを用いてもよい。あるいは、片面加工体又は両面加工体は、微細原料粉末の成形体の片面又は両面に板状原料粉末の分散液を印刷、スプレーコート、スピンコート又はディップコートすることにより作製してもよい。スプレーコート、スピンコート、ディップコートでは、強制的にせん断力を与えずとも、板状原料粒子の板面がその成形体の表面に沿うように配列する。成形体の表面に配列した板状原料粒子は、数個の板状原料粒子が重なっていてもよいが、他の板状原料粒子と重なっていないことが好ましい。印刷においては、スクリーン印刷が好適に用いられる。この場合、メッシュマスクを用いてもよいし、メタルマスクを用いてもよい。ただし薄膜に印刷する場合には、メッシュマスクを用いるほうが好ましい。また、メッシュマスクを用いる場合は、粒子を重ならずに配列させるには、線径は小さいほうが好ましく、メッシュマスクの目開きは、50μm以下が好ましい。印刷においては、スクリーン印刷が好適に用いられる。この場合、メッシュマスクを用いてもよいし、メタルマスクを用いてもよい。但し、薄膜に印刷する場合には、メッシュマスクを用いる方が好ましい。また、メッシュマスクを用いる場合、粒子を重ならずに配列させるには、線径は小さい方が好ましく、メッシュマスクの目開きは、50μm以下が好ましい。
片面加工体を利用する場合、微細原料粉末層と板状原料粉末層とが交互に積層されるように片面加工体を積み重ねていけばよい。両面加工体を利用する場合、両面加工体と未加工の微細原料粉末の成形体とを交互に積層すればよい。なお、片面加工体と両面加工体の両方を利用して積層体を作製してもよいし、片面加工体と両面加工体と未加工の成形体とを利用して積層体を作製してもよい。
工程(b)では、積層体を焼成する。この場合、積層体を加圧焼成するのが好ましい。加圧焼成としては、例えばホットプレス焼成やHIP焼成などが挙げられる。なお、加圧焼成前に常圧予備焼成を行ってもよい。HIP焼成を行うときにはカプセル法を用いることもできる。ホットプレス焼成の場合の圧力は、50kgf/cm2以上が好ましく、200kgf/cm2以上がより好ましい。HIP焼成の場合の圧力は、1000kgf/cm2以上が好ましく、2000kgf/cm2以上がより好ましい。焼成雰囲気は特に限定はないが、大気、窒素、Ar等の不活性ガス、真空雰囲気下のいずれかが好ましく、窒素、Ar雰囲気下が特に好ましく、窒素雰囲気が最も好ましい。図2は、本発明の製法で配向焼結体を作製する工程の模式図である。図2(a)に示すように、積層体10は、微細原料粒子12aの集合体の層である微細原料粉末層12と、板状原料粒子14aの板面が微細原料粉末層12の表面に沿って配列された板状原料粉末層14とが、交互に積層されたものである。積層体10を焼成すると、板状原料粒子14aが種結晶(テンプレート)となり、微細原料粒子12aがマトリックスとなって、テンプレートがマトリックスを取り込みながらホモエピタキシャル成長する。そのため、図2(b)に示すように、得られる焼結体は配向度が高く、かつ、チルト角が小さい配向焼結体20となる。配向度とチルト角は、板状原料粉末が微細原料粉末層の表面を覆う被覆率に依存する。この被覆率が1〜60%(好ましくは1〜20%、さらに好ましくは3〜20%)のときに配向度が高く、チルト角が小さくなる。また、配向度とチルト角は、微細原料粉末層の厚みに依存する。微細原料粉末層の厚みが5〜100μm(好ましくは10〜100μm、より好ましくは20〜60μm)のときに配向度が高く、チルト角は小さくなる。ここで、配向度は、X線回折プロファイルを用いてロットゲーリング法により求めたc面配向度を指し、チルト角は、XRC半値幅(XRC・FWHM)を用いる。
微細原料粉末及び板状原料粉末の主成分としては、例えば、アルミナ、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、ZnO、BaTiO3、(K,Na)NbO3などが挙げられるが、このうちアルミナが好ましい。主成分がアルミナの場合、本発明の効果が顕著に得られるからである。主成分がアルミナの場合、焼成温度(最高到達温度)は1850〜2050℃が好ましく、1900〜2000℃がより好ましい。なお、「主成分」とは、粉末全体に占める質量割合が50%(好ましくは60%、より好ましくは70%、更に好ましくは80%)以上の成分のことをいう。
本発明の製法によって得られる配向焼結体は、c面配向度が高く、チルト角が小さいものである。例えば、X線回折プロファイルを用いてロットゲーリング法により求めたc面配向度が80%以上(好ましくは90%以上、より好ましくは96%以上)のものを得ることが可能となる。また、チルト角についていえば、X線ロッキングカーブ法を用いて測定したXRC・FWHMは5°以下(好ましくは2.5°以下、より好ましくは1.5°以下)のものを得ることが可能となる。図3にアルミナ結晶のチルト角の模式的な説明図を示す。
このようにして得られた配向焼結体は、光学素子や光学素子用下地基板、エピタキシャル成長用基板、静電チャックなどに用いることができる。光学素子、光学素子用下地基板としては、例えばLED、LD、太陽電池、センサ、フォトダイオード、光学部材、窓材等が挙げられる。
[実験例1]
1.アルミナ焼結体の作製
(1)積層体の作製
微細アルミナ粉末(TM−DAR(平均粒径0.1μm)、大明化学製)100質量部に対し、酸化マグネシウム(500A、宇部マテリアルズ製)0.0125質量部(125質量ppm)と、バインダーとしてポリビニルブチラール(品番BM−2、積水化学工業製)7.8質量部と、可塑剤としてジ(2−エチルヘキシル)フタレート(黒金化成製)3.9質量部と、分散剤としてトリオレイン酸ソルビタン(レオドールSP−O30、花王製)2質量部と、分散媒として2−エチルヘキサノールとを加えて混合した。分散媒の量は、スラリー粘度が20000cPとなるように調整した。このようにして調製されたスラリーを、ドクターブレード法によってPETフィルムの上に乾燥後の厚みが40μmとなるようにシート状に成形し、微細アルミナ粉末層とした。
板状アルミナ粉末(YFA10030(平均粒径10μm、平均厚み0.3μm、アスペクト比33)、キンセイマテック製)100質量部に対し、バインダーとしてポリビニルブチラール(品番BM−2、積水化学工業製)50質量部と、可塑剤としてジ(2−エチルヘキシル)フタレート(黒金化成製)25質量部と、分散剤としてトリオレイン酸ソルビタン(レオドールSP−O30、花王製)2質量部と、分散媒としてキシレンと1−ブタノールの混合溶液(混合比率1:1)とを加えて混合した。分散媒の量は、スラリー粘度が5000cPとなるように調整した。このようにして調製されたスラリーを、リバースドクターブレード法によってPETフィルムの上に乾燥後の厚さが3μmとなるようにシート状に成形し、板状アルミナ粉末層とした。
PETフィルムから剥がした微細アルミナ粉末層と板状アルミナ粉末層とを各50層、交互に積層し、厚さ10mmのAl板の上に載置した後、パッケージに入れて内部を真空にすることで真空パックとした。この真空パックを85℃の温水中で100kgf/cm2の圧力にて静水圧プレスを行い、積層体を得た。このとき、板状アルミナ粉末層が微細アルミナ粉末層の表面を被覆する被覆率は60%であった。なお、被覆率は、以下のようにして算出した。すなわち、微細アルミナ粉末層表面を光学顕微鏡で観察し、この観察写真を画像処理にて、板状アルミナ粉末の部分とそれ以外に切り分け、観察写真における微細アルミナ粉末層表面の面積に対する板状アルミナ粉末の面積の割合を、被覆率とした。
(2)積層体の焼成
得られた積層体を脱脂炉中に配置し、600℃で10時間の条件で脱脂を行った。得られた脱脂体を黒鉛製の型を用い、ホットプレスにて窒素中、焼成温度(最高到達温度)1975℃で4時間、面圧200kgf/cm2の条件で焼成し、アルミナ焼結体を得た。なお、焼成温度から降温する際に1200℃までプレス圧を維持し、1200℃未満の温度域ではプレス圧をゼロに開放した。
2.アルミナ焼結体の特性
(1)c面配向度
得られたアルミナ焼結体の配向度を確認するため、アルミナ焼結体の上面に対して平行になるように研磨加工した後、その研磨面に対してX線を照射しc面配向度を測定した。XRD装置(リガク製、RINT−TTR III)を用い、2θ=20〜70°の範囲でXRDプロファイルを測定した。具体的には、CuKα線を用いて電圧50kV、電流300mAという条件で測定した。c面配向度は、ロットゲーリング法によって算出した。具体的には、以下の式により算出した。式中、Pはアルミナ焼結体のXRDから得られた値であり、P0は標準α−アルミナ(JCPDSカードNo.46−1212)から算出された値である。実験例1のアルミナ焼結体のc面配向度は100%であった。
(2)チルト角
チルト角は、結晶軸の傾き分布であり、アルミナの結晶方位がc軸からどの程度の頻度で傾いているかを評価するパラメータである。ここでは、チルト角をX線ロッキングカーブ(XRC)半値幅(FWHM)で表す。XRC・FWHMは、アルミナ焼結体の板面(c面配向度測定と同じ面)に対し、図4のようにX線源と検出器を連動させてスキャンし、得られたカーブの半値幅を測定した。このように2θ(検出器と入射X線とのなす角度)の値をその回折ピーク位置に固定し、ω(試料基板面と入射X線とのなす角度)のみ走査する測定方法をロッキングカーブ測定とよぶ。装置はリガク製、RINT−TTR IIIを用い、CuKα線を用いて電圧50kV、電流300mAという条件でωの走査範囲を3.8°〜38.8°とした。実験例1のアルミナ焼結体のXRC・FWHMは2.2°であった。
[実験例2]
実験例1の1.(1)において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。結果を表1に示す。
[実験例3]
実験例1の1.(1)において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いたことと、微細アルミナ粉末層の乾燥後の厚みを100μmとしたこと以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。結果を表1に示す。
[実験例4]
実験例1の1.(1)において、積層体を作製する際に、微細アルミナ粉末層の片面に板状アルミナの印刷ペーストをスクリーン印刷して片面加工体としたあと、その片面加工体を50層積層して積層体を作製した以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例4では、片面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、バインダーとしてポリビニルブチラール(品番BLS、積水化学工業製)100質量部と、分散媒として2エチルヘキサノールを加えて混合した。分散媒の量は、ペースト粘度が50000cPとなるように調整して印刷ペーストを得た。この印刷ペーストを、乳剤付の製版(SX360メッシュ、乳剤厚:5μm)にて、乾燥後の厚さが20μmとなるように微細アルミナ粉末層の片面に印刷して片面加工体を得た。
[実験例5]
実験例4において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例4と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例6]
実験例4において、片面加工体の作製方法を以下のように変更した以外は、実験例4と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例6では、片面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、バインダーとしてポリビニルブチラール(品番BLS、積水化学工業製)100質量部と、分散剤としてテルピネオール3500質量部を加えて混合し、印刷ペーストを得た。この印刷ペーストを、乳剤付の製版(ST640メッシュ、乳剤厚:5μm)にて、微細アルミナ粉末層の片面に印刷して片面加工体を得た。このときの板状アルミナ粉末層の厚みは0.5μmであった。
[実験例7]
実験例6において、板状アルミナ粉末として、キンセイマテック製のYFA10030を気流分級機(日清エンジニアリング製TC−15N)にてカット点を3μmに設定して分級し、次にポット解砕機にてφ0.3mmの玉石で20時間解砕し、最後に水簸にて微粒粉末を除去したものを使用したこと以外は、実験例6と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例8]
実験例7において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例7と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例9]
実験例4において、微細アルミナ粉末層の厚みを80μmとし、片面加工体の作製方法を以下のように変更した以外は、実験例4と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例9では、片面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末として、キンセイマテック製のYFA10030を気流分級機(日清エンジニアリング製TC−15N)にてカット点を3μmに設定して分級し、次にポット解砕機にてφ0.3mmの玉石で20時間解砕し、最後に水簸にて微粒粉末を除去したものを、100重量部に対し、バインダーとしてポリビニルブチラール(品番BLS、積水化学工業製)60質量部と、分散媒としてテルピネオール2000部を加えて混合し、印刷ペーストを得た。この印刷ペーストを、乳剤付の製版(ST640メッシュ、乳剤厚:5μm)にて、微細アルミナ粉末層の片面に印刷して片面加工体を得た。このときの板状アルミナ粉末層の厚みは1μmであった。
[実験例10]
実験例9において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例9と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例11]
実験例1の1.(1)において、積層体を作製する際に、微細アルミナ粉末層の片面に板状アルミナスラリーをスプレーコートして片面加工体としたあと、その片面加工体を50層積層して積層体を作製した以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例11では、片面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、分散媒としてイソプロピルアルコール5000質量部を加えた。得られた分散液(板状アルミナスラリー)を超音波分散機で5分間分散させた後、スプレーガン(タミヤ製スプレーワークーHG エアーブラシワイド)にて、噴霧圧0.2MPa、噴射距離20cm、にて微粒子成形体上に、被覆率が1%となるように噴霧して片面加工体を得た。
[実験例12]
実験例11において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例11と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例13]
実験例11において、板状アルミナ粉末として、キンセイマテック製のYFA10030を気流分級機(日清エンジニアリング製TC−15N)にてカット点を3μmに設定して分級し、次にポット解砕機にてφ0.3mmの玉石で20時間解砕し、最後に水簸にて微粒粉末を除去したものを用いた以外は、実験例11と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例14]
実験例11において、板状アルミナ粉末として、自社製のものを用いた以外は、実験例11と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
自社製の板状アルミナ粉末は、以下のようにして作製した。高純度γ−アルミナ(TM−300D、大明化学製)96質量部と、高純度AlF3(関東化学製、鹿特級)4質量部と、種結晶として高純度α−アルミナ(TM−DAR、大明化学製、D50=1μm)0.17質量部とを、溶媒をIPA(イソプロピルアルコール)としてφ2mmのアルミナボールを用いて5時間ポットミルで混合した。得られた混合粉末中のF,H,C,S以外の不純物元素の質量割合の合計は1000ppm以下であった。得られた混合原料粉末300gを純度99.5質量%の高純度アルミナ製のさや(容積750cm3)に入れ、純度99.5質量%の高純度アルミナ製の蓋をして電気炉内でエアフロー中、900℃、3時間熱処理した。エアの流量は25000cc/minとした。熱処理後の粉末を大気中、1150℃で40時間アニール処理した後、φ2mmのアルミナボールを用いて4時間粉砕して平均粒径2μm、平均厚み0.2μm、アスペクト比10の板状アルミナ粉末を得た。粒子の平均粒径、平均厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)で板状アルミナ粉末中の任意の粒子100個を観察して決定した。平均粒径は、粒子の長軸長の平均値、平均厚みは、粒子の短軸長の平均値、アスペクト比は平均粒径/平均厚みである。得られた板状アルミナ粉末は、α−アルミナであった。
[実験例15]
実験例13において、板状アルミナ粉末100質量部に対して分散媒を1000質量部用いた以外は、実験例13と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例16]
実験例15において、片面加工体を、スプレーガン(タミヤ製スプレーワークーHG エアーブラシワイド)にて、噴霧圧0.2MPa、噴射距離20cmにて微細アルミナ粉末層上に、被覆率が5%となるように噴霧して作製した以外は、実験例15と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例17]
実験例16において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例16と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例18]
実験例1の1.(1)において、積層体を作製する際に、微細アルミナ粉末層の片面に板状アルミナスラリーをスピンコートして片面加工体としたあと、その片面加工体を50層積層して積層体を作製した以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例18では、片面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、分散媒としてイソプロピルアルコール1000質量部を加えた。得られた分散液(板状アルミナスラリー)を超音波分散機で5分間分散させた後、スピンコーターにて、微粒子成形体上に塗布して片面加工体を得た。塗布条件は、回転速度2000rpm、滴下量は3質量部とした。
[実験例19]
実験例18において、微細アルミナ粉末層の乾燥後の厚みを10μmとした以外は、実験例18と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例20]
実験例18において、片面加工体を作製する際に、板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、分散媒としてイソプロピルアルコール3000質量部としたこと以外は、実施例18と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例21]
実験例18において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例18と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例22]
実験例1の1.(1)において、積層体を作製する際に、微細アルミナ粉末層を板状アルミナスラリーにディップコートして両面加工体としたあと、その両面加工体と未加工の微細アルミナ粉末層とを50層ずつ交互に積層して積層体を作製した以外は、実験例1と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
実験例22では、両面加工体を以下のようにして作製した。板状アルミナ粉末(YFA10030、キンセイマテック製)100質量部に対し、分散媒としてイソプロピルアルコール700質量部を加えた。得られた混合液を超音波分散機で5分間分散させた後、ディップコーターにて、微粒子成形体を液中に浸し、引き上げ速度4mm/minにて引き上げた。このようにして、微細アルミナ粉末層の両面に板状アルミナ粉末層が形成された両面加工体を得た。
[実験例23]
実験例22において、引き上げ速度を10mm/minとしたこと以外は、実験例22と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
[実験例24]
実験例22において、微細アルミナ粉末としてAKP−20(平均粒径0.4μm、住友化学製)を用いた以外は、実験例13と同様にしてアルミナ焼結体を作製し、その特性を測定した。積層体の特徴及びアルミナ焼結体の特性を表1に示す。
ここで、表1の板状アルミナ粉末層の厚みについて説明する。板状アルミナ粉末層をテープ成形やスクリーン印刷で作製した場合には、乾燥後に板状アルミナ粉末だけでなくその他の成分も残っていて全体として一様な層になっていたため、板状アルミナ粉末層の厚みを測定することができた。しかし、板状アルミナ粉末層をスプレーコートやスピンコート、ディップコートで作製した場合には、乾燥後に板状アルミナ粉末が分散した状態で残っただけで全体として一様な層にならないため、板状アルミナ粉末層の厚みを測定することができなかった。それらの板状アルミナ粉末層の厚みの欄には、測定不可を示す「−」を記入した。
[評価]
実験例1〜24では、c面配向度が100%、XRC・FWHMが2.5°以下の高配向焼結体が得られた。このうち、板状アルミナ粉末層をスプレーコート、スピンコート又はディップコートで形成した実験例11〜24では、XRC・FWHMが1.5°以下であり、一段と配向度の高い焼結体が得られた。その理由は、定かではないが、板状アルミナ粒子をテープ成形やスクリーン印刷した場合に比べてスプレーコートやスピンコート、ディップコートした場合の方が板状アルミナ粒子同士の重なり合う程度が少なく、また、微細アルミナ粉末の成形体上に沿うように配列するためだと推察される。特に、板状アルミナ粉末として分級等の処理を施したものを用いた場合(実験例8)や自社製のものを用いた場合(実験例9)には、XRC・FWHMが1.0°以下となり、最も配向度の高い焼結体が得られた。また、スクリーン印刷を採用した実験例5〜10においても、板状アルミナ粉末層の厚みを薄く形成できたものについては、XRC・FWHMが1.5°以下であり、一段と配向度の高い焼結体が得られた。この理由についても定かではないが、上述したように、板状アルミナ粒子同士の重なり合う程度が少なく、また、微細アルミナ粉末の成形体上に沿うように配列するためだと推察される。
実験例1〜24では、TGG法のように微細アルミナ粉末と板状アルミナ粉末との混合粉末中の板状アルミナ粒子を配列させるのではなく、板状アルミナ粉末を配列させればよいため、TGG法のような大きなせん断力は必要にならない。そのため、装置構成をTGG法に比べてコンパクトにすることができる。したがって、TGG法と比べて簡便に配向焼結体を製造することができる。
なお、実験例1〜24が本発明の実施例に相当する。本発明は、上述した実施例に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
本出願は、2016年7月14日に出願された日本国特許出願第2016−139508号及び2015年11月16日に出願された日本国特許出願第2015−224164号を優先権主張の基礎としており、引用によりそれらの内容の全てが本明細書に含まれる。
本発明の配向焼結体は、例えば、光学素子や光学素子用下地基板、エピタキシャル成長用基板、静電チャックなどに用いることができる。
10 積層体、12 微細原料粉末層、12a 微細原料粒子、14 板状原料粉末層、14a 板状原料粒子、20 配向焼結体。

Claims (9)

  1. (a)微細原料粉末を成形した層である微細原料粉末層と、板状原料粉末を構成する板状原料粒子の板面が前記微細原料粉末層の表面に沿うように配列された板状原料粉末層とが、交互に積層された積層体を作製する工程と、
    (b)前記積層体を焼成する工程と、
    を含み、
    前記板状原料粒子が前記微細原料粉末層の表面を覆う被覆率は、1〜60%である、
    配向焼結体の製法。
  2. 前記板状原料粒子が前記微細原料粉末層の表面を覆う被覆率は、1〜20%である、
    請求項1に記載の配向焼結体の製法。
  3. 前記微細原料粉末層の厚みは、5〜100μmである、
    請求項1又は2に記載の配向焼結体の製法。
  4. 前記工程(a)では、前記微細原料粉末の成形体の片面を前記板状原料粉末層で被覆した片面加工体を作製し、該片面加工体を利用して前記積層体を作製する、
    請求項1〜3のいずれか1項に記載の配向焼結体の製法。
  5. 前記片面加工体は、前記微細原料粉末の成形体の片面に該成形体よりも厚みの薄い前記板状原料粉末の成形体を積層することにより作製するか、前記微細原料粉末の成形体の片面に前記板状原料粉末の分散液を印刷、スプレーコート、スピンコート又はディップコートで塗布することにより作製する、
    請求項4に記載の配向焼結体の製法。
  6. 前記工程(a)では、前記微細原料粉末の成形体の両面に前記板状原料粉末の板面が前記成形体の片面に沿うように前記板状原料粉末が配列された両面加工体を作製し、該両面加工体と未加工の前記成形体とを利用して前記積層体を作製する、
    請求項1〜3のいずれか1項に記載の配向焼結体の製法。
  7. 前記両面加工体は、前記微細原料粉末の成形体の両面に該成形体よりも厚みの薄い前記板状原料粉末の成形体を積層することにより作製するか、前記微細原料粉末の成形体の両面に前記板状原料粉末の分散液を印刷、スプレーコート、スピンコート又はディップコートで塗布することにより作製する、
    請求項6に記載の配向焼結体の製法。
  8. 前記工程(b)では、前記積層体を加圧焼成する、
    請求項1〜7のいずれか1項に記載の配向焼結体の製法。
  9. 前記微細原料粉末及び前記板状原料粉末は、いずれも主成分がアルミナである、
    請求項1〜8のいずれか1項に記載の配向焼結体の製法。
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