JP6710690B2 - 光の透過を制御するためのデバイス - Google Patents

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Description

本願は光の透過を制御するためのスイッチ可能デバイスに関し、該デバイスはセグメント化された構造を有し、ただしセグメント化された構造のセグメントのスイッチ状態は、タッチ動作で制御される。
光は本願の意味において、320nm〜2000nmの範囲内の電磁放射、即ち、NIR−、VIS−およびUV−A−光を含むと解される。好ましくはスイッチ可能デバイスで制御される光は、電磁スペクトルの可視(VIS)範囲内の光であると理解される。
電圧は本願の意味において、特定のRMS(root−mean−square、二乗平均平方根)値、特定の振幅、特定の周波数および/または特定の波形で特徴付けられる任意の電気信号であると解される。よって、それは狭い文言の意味のみであるとは理解されない。
光の透過を制御するスイッチ可能デバイスは少なくとも2つの状態を有するデバイスと解され、これらの状態のうちの一方(暗い状態または散乱状態)において、デバイスは入射光の僅かな割合しか全く通過させないか、または入射光の僅かな部分だけを散乱せずに通過させ、一方でこれらの状態の他方(透明状態)において、デバイスは入射光の大部分を通過させる。この機能により屋内気候および光条件を改善するために、特に建築または自動車用途における使用において、スイッチ可能デバイスはかなりの関心を集めている。これらのデバイスは典型的には機能材料を含むスイッチ層を横切って電圧を印加することで、一方の状態から他方の状態にスイッチする。
この目的のために種々の技術的解決法が提案され商業的に使用されており、それらの中には液晶系スイッチ可能デバイス、エレクトロクロミックスイッチ可能デバイスおよび懸濁粒子系スイッチ可能デバイスがある。液晶系スイッチ可能デバイスの中で、色素ドープ低分子液晶系およびポリマー分散液晶系が現在、技術的に関連性が高い。種々の技術的解決法の概説が例えば、R.Baetensら、Solar Energy Materials&Solar Cells、2010年、87〜105頁(非特許文献1)に与えられる。
従来のウィンドウと比較して上述のスイッチ可能デバイスを含むウィンドウは、新しい設計およびファサードを可能にする。使用者は、インターフェースを介して任意のウィンドウを通る光の透過程度を決定できる。周囲の照明条件のために、ウィンドウの特定部分だけをスイッチすることが望ましいことが多い。また太陽がウィンドウを照らす角度に依存して多くの場合、例えば、ウィンドウの上部のみを暗い状態にスイッチし、ウィンドウの下部を透明な状態のままにすることが望ましい。
多数のスイッチ可能なセグメントを有するウィンドウは現在、商業的に入手できない。その結果これまでの先行技術では、それらを制御のための直接的な解決法は提案されていない。
R.Baetensら、Solar Energy Materials&Solar Cells、2010年、87〜105頁
この技術水準に鑑み本発明は、容易かつ直感的に操作することができ、全領域にわたってセグメントを選択的にスイッチできるエネルギー伝達を制御するためのスイッチ可能デバイスを提案する。
本発明は、シールおよびフレームを追加することで得られるデバイスを容易に屋外で安定および堅固にでき、UV光に対して安定にでき、および暗から透明状態への調整可能な透過範囲が広域である利点を有する。それらは更に、セットアップが簡単なため、費用効果の良い態様で製造できる。
本発明は従って、
光の透過を制御するためのスイッチ可能デバイスであって、
第1基板層、第2基板層、第1および第2基板層間に位置するスイッチ層、スイッチ層および第1基板層間に位置する第1導電層、ならびにスイッチ層および第2基板層間に位置する第2導電層を含む層スタックを含み、ただし
スイッチ層は、電圧を印加すると光の透過率が変化する材料を含み、およびただし
第1および第2導電層の少なくとも一方は、複数の絶縁域および複数の導電域を含み、ただし
絶縁域および導電域は、導電層の領域にわたって交互に配置され、およびただし
スイッチ可能デバイスのスイッチ状態は、タッチ動作で制御される
スイッチ可能デバイスに関する。
図1は、本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックの側面図を示す。 図2は、IGUの一部である本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックの側面図を示す。 図3は、IGUの一部である本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックの側面図を示し、ただし本願に係る2個のスイッチ可能デバイスが、最上部で互いにスタックされ、二重の液晶(LC、liquid crystal)セルデバイスを形成する。 図4は、複数の導電域および複数の絶縁域を有する本願に係る導電層の正面図を示す。 図5は、最上部で互いに積層される第1導電層および第2導電層の正面図を示し、ただし2層の導電層は完全には重ならない。 図6は、本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックの側面図を示し、ただし2層の導電層は完全には重ならない。 図7は、スイッチ可能デバイスに接続される電気部品のアセンブリを示す。 図7aは、スイッチ可能デバイスに接続される電気部品の代替のアセンブリを示す。 図8は、スイッチ可能デバイスの表面上で行われるタッチジェスチャの位置および形態を概略的に示す。 図9はデバイスの第1動作モードに従って、セグメント化された基板に印加される信号を示す。 図10はデバイスの第2動作モードに従って、セグメント化されていない基板に印加される信号と、セグメント化された基板に印加される信号とを示す。
以下の図により、本発明の説明を供する。
図1は本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックを示し、第1基板層(1)および第2基板層(5)、第1導電層(2)および第2導電層(4)ならびにスイッチ層(3)を含む。
図2はインシュレーティッドガラスユニット(IGU、insulated glass unit;絶縁、隔離ガラスユニット)の一部である本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックを示し、図1の層に加え、好ましくはガラスからの固体層(9)、層スタックの任意部品であるタッチセンシティブ層(10)およびスペーサー(8b)で囲まれたガス充填空間(8a)を有する。
図3はIGUの一部である本願によるスイッチ可能デバイスの層スタックを示し、スペーサー(8b)で囲まれたガス充填空間(8a)で連結された2個の部分構造と共に層スタック中に2回存在する図1の層セットアップに加え、好ましくはガラスからの固体層(9)、層スタックの任意部品であるタッチセンシティブ層(10)およびスペーサー(8b)で囲まれたガス充填空間(8a)を有する。部分(8a)および(8b)から成る2層の少なくとも一方を省略してよいことに留意されたい。この場合、構造を単純化するために、基板層(1)または(5)および固体層(9)も省略してよい。
図4は、平行に間隔をとる線の形態の複数の絶縁域(7)および複数の導電域(6)を有し、ただし絶縁域および導電域は交互しているスイッチ可能デバイスの第1導電層(2)の正面図を、例の意味で示す。
図5は最上部で互いに積層される第1導電層(2)および第2導電層(4)を示し、ただし図を見る者の視点から、第2導電層(4)は第1導電層(2)の最上部上にあり、ただし2層の導電層(2)および(4)は完全には重ならないが、第1導電層(2)の比較的小さい部分(2a)は第2導電層(4)が重ならずに残っており、一方で第1導電層の比較的大きい部分(2b)は第2導電層(4)が重なる。図4の通り、複数の導電域(6)および複数の絶縁域(7)が第1導電層(2)に存在しており、ただし第1導電層の導電域の第2導電層が重ならない部分を符号(6a)で示し、第1導電層の導電域の第2導電層が重なる部分を符号(6b)で示す。明確にする理由から、導電層(2)および(4)の間に存在するスイッチ層(3)は図5に示さない。
図6は図1の層スタックを示し、導電層(2)はスタック内の他の層と完全に位置合わせされておらず、第1導電層の部分(2a)は第2導電層(4)およびスイッチ層(3)が重ならずに残っており、よって少なくとも一方側より自由にアクセス可能であるとの追加の態様を有する。同図は図5に示される通りと同じ状況を示しており、ただしデバイスの最上部からの代わりに、デバイスの側面から見るのみである。
図7は本願によるスイッチ可能デバイスに接続される電気部品のアセンブリを示し、タッチセンシティブデバイス(11)、任意構成のコンピュータ(12)、デジタル出力(13b)およびアナログ出力(13a)を含むプログラマブル論理制御装置(13)、好ましくは可変電圧を有する電圧源(14)、接地レベル(15)、複数のスイッチを含むデバイス(16)、ならびにスイッチ可能デバイスの導電層の導電域に対するスイッチの接続(17)を含む。
図7aは本願によるスイッチ可能デバイスに接続される電気部品の代替のアセンブリを示し、タッチセンシティブデバイス(11)、任意構成のコンピュータ(12)、デジタル出力(13b)およびアナログ出力(13a)を含むプログラマブル論理制御装置(13)、好ましくはHブリッジ回路を含有し、好ましくは可変電圧を有する交流電圧源(14)、共通電圧(15a)、信号電圧(15b)、複数のスイッチを含むデバイス(16)、共通または信号出力に接続できる、スイッチ可能デバイスの導電層の導電域に対するスイッチの接続(17)ならびに絶縁域を含有しない基板に接続される、共通出力に対する接続を含む。
図8は、ソフトウェアで定義される通りでスイッチ可能デバイスに対するタッチジェスチャの結果を示す。(A)はセグメント上でのシングルタップ(セグメントは破線で模式されている。)で、それぞれのセグメントがオンからオフまたはオフからオンにスイッチする結果となる。(B)はウィンドウの右側領域内での垂直ドラッグ動作で、セグメントが連続的にスイッチする結果となる。ドラッグで下げる動作はセグメントを連続的に暗状態にスイッチし、最上のセグメントから開始しドラッグ動作が停止するまで継続する。ドラッグで上げる動作はセグメントを連続的に明状態にスイッチし、最下のセグメントから開始しドラッグ動作が停止するまで継続する。(C)はウィンドウの下部領域内での水平ドラッグ動作で、そこで左にドラッグすると、オンにスイッチされているセグメントが薄暗くなる結果となり、右にドラッグすると、オンにスイッチされているセグメントの透過率が増加する。(D)は右下領域内でのダブルタップで、全てのセグメントが暗状態にスイッチするか、全てのセグメントが明状態にスイッチする結果となる。
スイッチ可能層が2層の導電層間に位置しており、低電圧を有する電圧源がスイッチ可能層の主な面のそれぞれの一方と、スイッチ層の反対側に位置する第2導電層とに接続されている場合、導電層は本願の目的のために、スイッチ可能層の2つの主な面間に電界を生じることを可能にする十分な態様で電気を通す層であると解する。
類似の定義を用語「導電域」に適用する。反対に絶縁域は、適切な程度に電気を通すことができない域であると解する。それらは特に電気伝導に対して境界を形成することで、導電層内の導電域をそれぞれ互いに隔離する目的を果たす。好ましい実施形態によれば、絶縁域でそれぞれ互いに区切られた2つの導電域間の抵抗は1MΩより大きく、好ましくは10MΩより大きく、特に好ましくは50MΩより大きい。
導電層に絶縁域を形成する直接的な手段は、これらの位置の導電材料を除去することである。これに適する特に顕微鏡レベルの方法を当業者は了知しており例えば、レーザーアブレーション、化学エッチング、レーザーフォトリソグラフィー、機械的エンボス技術および光エンボスである。好ましい手法は、エキシマレーザーを使用するレーザーアブレーションである。
代替的解決策は、ITO(indium tin oxide、インジウムスズ酸化物)もしくは導電層として類似の導電性材料のコーティングを、一定域を覆いながらスパッタリングし、その後、覆っている材料を除去してコーティングのないガラス域を得ることである。この手法に、上節で述べた方法を使用できる。再度の代替的解決策は、溶液加工可能な導体をインクジェット印刷して特定域のみに導電性材料をコートすることで、それによれば、絶縁域を全く生成する必要がなくなる。
導電層は、金属、好ましくは銀、または他の材料の薄層から作製でき、ただし他の材料は好ましくは、金属酸化物から、より好ましくは透明導電性金属酸化物(TCO、transparent conductive metal oxide)から、特に好ましくはインジウムスズ酸化物(ITO、indium tin oxide)、フッ素化スズ酸化物(FTO、fluorinated tin oxide)およびアルミニウムドープスズ酸化物(AZO、aluminium doped tin oxide)から、または銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、グラフェン、導電性ポリマー、特にPEDOT:PSS、金属メッシュ、または銀ナノ粒子から選択される。
第1および第2の導電層は長方形であることが更に好ましい。特定の状況下、特にウィンドウが乗物、例えば車両などで使用されるとき、ウィンドウは非長方形の形状を有することが好ましい。
第1および第2導電層の一方のみが複数の絶縁域を含み、第1および第2導電層の他方が絶縁域を含まないかまたは本質的に含まないことが更に好ましい。
本発明によれば導電層の絶縁域および導電域は、導電層の領域にわたって規則的なパターンで交互に配置されることが好ましい。そのようなパターンは好ましい実施形態によれば線のパターンで表され、線は規則的に間隔をあけてそれぞれ互いに平行であり、好ましくは導電層の端とも平行であり、ただし導電層は好ましくは長方形である。この場合、線は絶縁域を表し、線の間の間隔は導電域を表す。それぞれの場合で好ましくは、平行で規則正しい間隔の線の間の距離は、1μmおよび1mの間、好ましくは1cmおよび50cmの間、特に好ましくは1cmおよび10cmの間である。絶縁域および導電域の規則的なパターンを有するそのような導電層の代表例を図4に示す。
好ましい実施形態によれば絶縁域は、0.2μm〜100μm、好ましくは1μm〜75μm、特に好ましくは10μm〜50μmの幅の線である。
第1および第2導電層の少なくとも一方は複数の平行線を有しており、ただし導電材料は存在しないかまたは不活性化されており、ただし平行線は絶縁域を表し、層の残りの部分は導電域を表すことが好ましい。それぞれの場合で好ましくは、線は規則的に間隔をあけて互いに平行である。
導電層内で、絶縁域により導電域が互いに分離されていることが好ましい。それぞれ互いに絶縁域によって分離される2個の隣接する導電域間の好ましい電気抵抗は、上で開示する通りである。これにより、別個の導電域のそれぞれに個別の電気的コンタクトおよびアドレスが可能になる。複数の導電域のそれぞれについて、それぞれの導電層の導電域のそれぞれに独立して電源を印加できることが好ましい。これは好ましくは、直接アドレス、パッシブ・マトリクス・アドレス、アクティブ・マトリクス・アドレスおよび多重駆動から選択される手段によって達成される。
電気的に別個に接触されるべき複数の導電域のそれぞれについて、スイッチ可能デバイスの層スタックの以下の構造化が好ましい。
第1および第2導電層の一方の一部は、スタック内で第1および第2導電層の他方と重ならず、好ましくは少なくとも一方側から自由にアクセスでき、この部分は電圧に、好ましくは電気的スイッチまたはスイッチ可能層の透過率を制御する電気信号に電気的に接続される。好ましくは、この部分は導電層のサイドマージン部分にある。
更に、スタック内で第1および第2導電層の他方と重ならない第1および第2導電層の一方の一部は、導電層のそれぞれの導電域と重なる領域を有し、ただし好ましくは、これらの重なる領域において導電域は電圧に、好ましくは電気的スイッチまたはスイッチ可能層の透過率を制御する電気信号に個別にそれぞれ電気的に接続されることが好ましい。第1および第2導電層のこの特定の配置を正面図で図5に、層の側面図で図6に示す。
導電域および絶縁域を有さない導電層は、ゼロ電圧、即ち共通接地に設定され、一方で導電域および絶縁域を有する導電層は電圧に接続されることが好ましい。
そのような操作方法を図9に模式的に示し、ただしパートa)は接地に設定された電圧を示し、パートb)は、「オン」のときにセグメント化基板に印加される電圧(信号電圧)を示し、パートc)は、「オフ」のときにセグメント化基板に印加される電圧を示す。図9でグラフにおいて、x軸は時間、y軸は電圧である。
他の好ましい実施形態において、導電域および絶縁域を有さない導電層は共通電圧に設定され、一方で導電域および絶縁域を有する導電層は、オフにスイッチされているときは共通電圧に接続され、オンにスイッチされているときは信号電圧に接続される。
そのような操作方法を図10に模式的に示し、ただしパートa)はセグメント化されていない基板に印加される共通電圧を示し、パートb)は、「オン」のときにセグメント化基板に印加される電圧(信号電圧)を示し、パートc)は、「オフ」のときにセグメント化基板に印加される共通電圧を示す。図10でグラフにおいて、x軸は時間、y軸は電圧である。
第1および第2導電層の一方のそれぞれの導電域で他方の第1および第2導電層とスタックにおいて重ならない部分は、1〜10mm、好ましくは2〜8mmの幅を有することが好ましい。これは好ましい実施形態において、複数の導電域および複数の絶縁域を有する導電層に層スタックの隣接する層と重ならない縁を残すことで達成される。この縁は好ましくは、1〜10mm、好ましくは2〜8mmの幅を有する。この手順に従えば縁において、一方から導電域にアクセス可能である。
上述の重ならない部分は、好ましくは1〜10mm、特に好ましくは2〜8mmの距離で、2層の等しい大きさの導電層をずらして配置することにより達成できる。これを図5に層の正面図で、図6に側面図で示す。代わりに一方の導電層を、上述の重ならない部分を残して他方の導電層と大きさが異なるように選択できる。更に代わりに導電域および絶縁域を有さない導電層から1個以上の小片を切り出して、重ならない部分を得てよい。
本発明の好ましい実施形態によれば複数の導電域のそれぞれ1つについて、導電域の領域で覆われているスイッチ層の特定域のスイッチ状態は、スイッチ層の他域のスイッチ状態から独立して選択できる。好ましくは、独立に選択できるスイッチ層の特定域のそれぞれのスイッチ状態は、タッチセンシティブ層上のタッチ動作で制御され、ただしタッチ動作は好ましくは、タップジェスチャ、ダブルタップジェスチャおよびドラッグジェスチャから選択される。
スイッチ可能デバイスの層スタックにおいて、第1導電層は第1基板層に直接隣接し、第2導電層は第2基板層に直接隣接することが好ましい。第1導電層および第1基板層は導電層について上に開示したように、金属または他の材料の層で被覆されたガラスまたはポリマーの第1シートで形成され、第2導電層および第2基板層は導電層について上に開示したように、金属または他の材料の層で被覆されたガラスまたはポリマーの第2シートで形成される。
他の好ましい実施形態によれば、第1導電層は第1基板層に直接隣接せず、第2導電層は第2基板層に直接隣接していないが、好ましくはイオン移動に対するバリア層、特に好ましくはSiOの層が、それぞれの基板層およびそれぞれの導電層の間に存在する。
更にSiO層は、導電層および配向層またはスイッチ層の間に存在してよい。
層スタックは少なくとも1層、好ましくは2層の配向層を含み、配向層はスイッチ層と直接接触し、スイッチ層および導電層の間に位置することが更に好ましい。配向層の結果生じる液晶の配向は、スイッチ可能デバイスの所望のモード(即ち、要求されるツイスト角)に対応しなければならない。ツイストネマチックモードでは例えば、第1配向層は第2配向層に垂直に配置しなければならない。二重セルの設計では例えば、第2セルの第1配向層は、第1セルの第2配向層に対して垂直になるように配置しなければならない。
本発明によるデバイスの層スタックは、好ましくは以下の順序で以下の層を含む:
・第1基板層
・第1導電層
・第1配向層
・スイッチ層
・第2配向層
・第2導電層
・第2基板層。
特定の状況で好ましい一実施形態によれば、スイッチ可能デバイスの層スタックは偏光層を含み、偏光層は好ましくは、一方の基板層およびスイッチ層の間、または基板層の外側で、スイッチ層から離れるように向く基板層の表面に位置する。特に好ましくは偏光層は、基板層の外側で、スイッチ層から離れるように向く基板層の表面に位置する。特定の状況で好ましい更なる実施形態によれば、スイッチ可能デバイスの層スタックは、2層の偏光層を含み、その一方はスイッチ層の一方側に位置し、他方はスイッチ層の反対側に位置する。偏光層は、吸収性および反射性偏光層から選択される。偏光層は、スペクトルの可視部分において偏光しなければならない。外向きのウィンドウに使用するときは、光(またはUV)安定でなければならない。一方の偏光方向についての透過値は、好ましくは10%未満でなければならない。他の偏光方向についての透過値は、好ましくは90%を超えなければならない。偏光層の配向は、隣接する液晶配向層の配向に対して垂直でなければならない。
層スタックは、350nm〜390nmの範囲内の波長を有する光の透過を阻止するUVブロック層を含むことが更に好ましい。好ましくはUVブロック層は、350nm〜390nmの範囲内で95%以下の透過率を有する。
更に特定の状況において、第1および第2基板の少なくとも一方が固体材料の層、好ましくはガラスまたはポリマーから成る層に取り付けられることが好ましい。好ましくは、ラミネートまたは接着で取り付けられる。そのような実施形態は、車両などの乗物のウィンドウでデバイスを適用する際に特に好ましい。
更にスイッチ可能デバイスの層スタックの内部または上にタッチセンシティブ層が存在することが好ましい。タッチセンシティブ層は好ましくは、デバイスの外面、例えば基板層の外面、または基板層の最上部に位置する他の層のスイッチ可能層から離れるように向く表面上に位置する。他の好ましい実施形態によればタッチセンシティブ層は実施例および図3で示す通り、スイッチ可能デバイスを含むインシュレーティッドガラスユニット内のガス充填空間を囲む2層の一方の内面上に、または二重セル機構内のガス充填空間を囲む2層の一方の内面上に位置する。代わりの好ましい実施形態においてタッチセンシティブ層は、電気配線もしくはWiFi、ブルートゥースもしくはIRトランスミッタなどの無線接続でスイッチ可能デバイスに接続される外部タッチセンシティブデバイス内に存在する。
タッチセンシティブ層は好ましくは、静電容量性タッチセンシティブ層、抵抗性タッチセンシティブ層、音響波タッチセンシティブ層、静電容量性表面−静電容量性タッチセンシティブ層、投影型静電容量性タッチセンシティブ層、相互キャパシタタッチセンシティブ層、自己キャパシタタッチセンシティブ層、赤外グリッドタッチセンシティブ層、赤外アクリル投影型タッチセンシティブ層、光学撮像タッチセンシティブ層、分散信号技術タッチセンシティブ層および音響パルス認識タッチセンシティブ層から選択される。特に好ましくは、静電容量性タッチセンシティブ層および抵抗性タッチセンシティブ層から選択される。
好ましい実施形態によればスイッチ可能デバイスは、タッチセンシティブ層と、タッチセンシティブ層の出力信号を出力信号に変換する1個以上の論理ユニット、好ましくはプログラマブル論理制御装置(PLC、programmable logic controller)またはコンピュータを含むアセンブリと、入力信号に応じて出力電圧が変化する1個以上の電圧源と、および入力信号に応じて複数の導電性セグメントのそれぞれをオンおよびオフにスイッチできる複数のスイッチとを含む相互接続アセンブリを含む。
スイッチは、信号/電圧(スイッチ可能デバイスのセグメントがオンでなければならない場合)と、スイッチ可能デバイスのそれぞれのセグメントがオフの状態(オフ信号または全く信号なし)との間でスイッチする。PLCは、さまざまなスイッチを駆動する:それぞれのスイッチは、この例ではリレーである。PLCから電圧を受け取るときスイッチは一方の状態にあり、PLCから電圧を受け取らないときスイッチは他の状態にある。PLCは、リレーを所望の状態に設定するために必要な信号にプログラムされる。本発明によれば、他のタイプのスイッチ、例えばMOSFETも使用してよい。異なるオペレーティングシステムが両方のデバイスで使用される場合、タッチセンシティブデバイスおよびPLCと間にコンピュータを有することが好ましい。タッチセンシティブデバイスおよびPLCがそれぞれ互いに直接交信できる場合、コンピュータを使用しないことが好ましい。
更に好ましい実施形態によれば、タッチセンシティブ層はコンピュータに接続され、コンピュータはタッチスクリーンの出力信号を変更信号に変換するソフトウェアを実行し、変更信号は更にプログラマブル論理制御装置に転送され、プログラマブル論理制御装置はデジタル出力信号を有する複数のスイッチのスイッチ状態を制御し、アナログ出力信号を有する1個以上の電圧源より供給される電圧を制御し、ただし1個以上の電圧源が複数のスイッチに接続され、ただしそれらのスイッチ状態に応じてスイッチ可能デバイスの導電層の導電域にスイッチは電圧を印加し、これにより、スイッチ可能層の対応する部分の透過率を決定することでスイッチ可能デバイスが特徴付けられる。
更に好ましい実施形態によれば、タッチセンシティブ層はプログラマブル論理制御装置に接続され、プログラマブル論理制御装置はタッチスクリーンの出力信号を変更信号に変換するソフトウェアを実行し、これによりデジタル出力信号を有する複数のスイッチのスイッチ状態を制御し、アナログ出力信号を有する1個以上の電圧源より供給される電圧を制御し、ただし1個以上の電圧源が複数のスイッチに接続され、ただしそれらのスイッチ状態に応じてスイッチ可能デバイスの導電層の導電域にスイッチは電圧を印加し、これにより、スイッチ可能層の対応する部分の透過率を決定することでスイッチ可能デバイスが特徴付けられる。
他の好ましい実施形態において、複数のスイッチのそれぞれのスイッチは、独立して調整可能な電圧を有する別個の電源に接続される。これにより、スイッチ可能デバイスのそれぞれのセグメントが異なる程度の透過に独立にスイッチすることが可能になる。
特により高いコントラストのスイッチを得るには、上記の通りの第1スイッチ可能デバイスと、上記の通りの第2スイッチ可能デバイスとを含むスタックをスイッチ可能デバイスが含むことが好ましい。任意構成として第1および第2スイッチ可能デバイスはガス充填空間で分離され、スペーサーが第1および第2スイッチ可能デバイスの間に位置する。そのような二重セルデバイスを図3に模式的に図示する、代わりにラミネートまたは光学的に透明な接着剤を使用し、第1および第2スイッチ可能デバイスを互いに直接取り付ける。他の実施形態において、第1および第2スイッチ可能デバイスは、上部のスイッチ可能デバイスの下部基板層および下部のスイッチ可能デバイスの上部基板層の両方として機能する1層の基板層を共有する。
二重セルデバイスの場合、層スタックは好ましくは、以下の順序で以下の層を含む:
・第1基板層
・第1導電層
・第1配向層
・スイッチ層
・第2配向層
・第2導電層
・第2基板層
・ガス充填空間およびそれを囲むスペーサー、またはラミネート層
・第1基板層(繰り返し)
・第1導電層(繰り返し)
・第1配向層(繰り返し)
・スイッチ層(繰り返し)
・第2配向層(繰り返し)
・第2導電層(繰り返し)
・第2基板層(繰り返し)。
この層スタックの変形として、ガス充填空間およびそれを囲むスペーサーまたはラミネート層、ならびに第2基板層および第1基板層(繰り返し)から選択される1層を省略できる。
二重セルデバイスの場合、第2スイッチ可能デバイスの導電層の絶縁域および導電域のパターンは、第1スイッチ可能デバイスの導電層の絶縁域および導電域のパターンに正確に対応することが好ましい。
更に上記の二重LCセル機構の場合、二重LCセル機構は第1スイッチ可能デバイスおよび第2スイッチ可能デバイスを含むスタックを含み、ただし第2スイッチ可能デバイスに隣接する基板上の第1スイッチ可能デバイスの配向層の配向と、第1スイッチ可能デバイスに隣接する第2スイッチ可能デバイス内の配向層の配向とは互いに直交していることが好ましい。
好ましくはスイッチ可能デバイス内のスイッチ層は電界の印加によって、少なくとも2つの異なるスイッチ状態間でスイッチされ、ただし一方の状態は暗または散乱状態であり、他方の状態は透明状態である。特定の状況下で好ましい実施形態によればデバイスのスイッチ状態の少なくとも1つは、スイッチ層が光を散乱する状態である。代わりの好ましい実施形態によれば、デバイスのスイッチ状態のいずれも光を散乱しない。デバイスの暗状態は、比較的低い割合の光がデバイスを透過する非散乱状態であると解される。デバイスの透明状態は、比較的高い割合の光がデバイスを透過する非散乱状態であると解される。デバイスの散乱状態は、デバイスを透過する光が散乱されるという事実のためにデバイスが透明でない状態であると解され、デバイスに入る前に平行な光線が偏向され、よってデバイスを通過することで非平行になることを意味する。
スイッチ可能デバイス内のスイッチ層は好ましくは、エレクトロクロミックスイッチ層、懸濁粒子スイッチ層、電気泳動スイッチ層および液晶スイッチ層から選択される。
液晶スイッチ層は好ましくは、液晶を含むポリマースイッチ層からおよび低分子系液晶スイッチ層から、好ましくは低分子系液晶スイッチ層から選択される。他の好ましい実施形態によれば、それらは、液晶を含むポリマーおよび低分子液晶の組み合せに基づく。
更に液晶スイッチ層は、少なくとも1種類の二色性色素を含むことが好ましい。
本発明によるスイッチ層で使用される好ましい二色性色素は、国際特許出願公開第2014/187529号公報に開示されるなどのベンゾチアジアゾール色素、国際特許出願公開第2015/090497号公報に開示されるなどのジケトピロロピロール色素、チエノチアジアゾール色素、リレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素、ピロメテン色素およびマロノニトリル色素である。
特定の状況下で好ましい一実施形態によれば、液晶スイッチ層は、液晶を含むポリマースイッチ層、好ましくはポリマー分散型液晶(PDLC、polymer dispersed liquid crystal)スイッチ層から選択される。
好ましくは液晶スイッチ層は、液晶材料に溶解された1種類以上の二色性色素を含み、ただし液晶材料は好ましくは、低分子およびポリマー材料から、好ましくは低分子から選択される1種類以上の液晶有機化合物を含む。
本発明によるスイッチ層で使用される好ましい液晶材料は、以下の出願に開示されている:国際特許出願公開第2014/090367号公報、国際特許出願公開第2015/090506号公報および未公開の欧州特許出願第14001335.0号。
好ましくは液晶材料は少なくとも1つのスイッチ状態で、より好ましくは全てのスイッチ状態でネマチック液晶状態にある。
好ましくは暗状態で液晶材料はホモジニアス状態にあり、一方透明状態では液晶材料はホメオトロピック状態にある。この場合、ホメオトロピック状態は、スイッチ可能層に電界を印加することで達成される。しかしながら、液晶スイッチ層の他の機能モードも可能であり、液晶系スイッチデバイスの分野の当業者により自己の知識に基づき選択される。
暗状態で液晶材料は、ネマチック非ツイスト、ネマチックツイストおよびネマチックスーパーツイストから選択される状態にあるが、透明状態で材料は、ホメオトロピック状態にあることが更に好ましい。
本発明は更に上記のスイッチ可能デバイスを含むウィンドウに関し、インシュレーティッドガラスユニットを含み、ただしスイッチ可能デバイスは、インシュレーティッドガラスユニットの内側に位置することを好ましくは特徴とする。好ましい実施形態によればスイッチ可能デバイスを含むウィンドウは、好ましくはウィンドウのフレーム上に位置する別個のタッチセンシティブデバイスを含むことを特徴とする。タッチセンシティブデバイスは好ましくは、ウィンドウまたはその1個以上のセグメントの透明度を制御するためのインターフェースとして機能する。
本発明は更に、建物内または乗物内における本願によるスイッチ可能デバイスまたは本願によるウィンドウの使用に関する。乗物としては他の中でも特に、車両、バス、船舶、電車、路面電車および飛行機を含むものを意味する。建物という用語には、コンテナまたは移動式もしくは一時的な建物を含むものを意味する。
以下の実施例は本発明を説明するためのものである。それらは、請求項で規定される通りの制限を如何なる態様においても超えて本発明を限定するものとして解釈されるべきではない。
1)セグメント化構造を有するスイッチ可能ウィンドウの製造。
4枚の導電性ITO被覆ガラス(ITO層の厚さ80nm)シートを商業的に入手する。セグメント化パネルを得るために、2枚のこれらのシート上にITOコーティングのレーザーアブレーションで電気的な絶縁域を生成する。このために、300mJ/cmの強度および一箇所当たり40超パルスのエキシマレーザーを使用する。レーザーの強度は、ITO層の厚さに適合させる。図4に示す通りセグメントを、規則的に間隔を置いた線のパターンで生成する。最終製品中でレーザー線が視認されるのを避けるため、線幅を25μmに選択する。他の2枚の導電性ITO被覆ガラスシートは、レーザーアブレーションで処理しない。
4枚のシートを全て洗浄後、ポリイミドをITOコーティング上に印刷する。次いで基板をオーブン中で焼成し、ポリイミドをラビングして配向層を得る。続いて4枚の基板を、配向層が内側に面し、それぞれセグメント化および非セグメント化シートから成る2個の液晶(LC、liquid crystal)セルとして配置する。全てのセグメントに接触することを可能にする、3〜5mmの幅を有する側部にシートの小さな重ならない領域を形成する(図6参照、単一のLCセルについての簡略化された構成、配向層を示さない)。ツイストネマチック構造の25μmセルギャップ内に、色素をドープした液晶混合物でセルを充填する。使用する混合物は、0.11重量%の色素D1、0.15重量%の色素D2および0.23重量%の色素D3と組み合わせて、混合物「H2」と名付けられた国際特許出願公開第2014/1355240号公報で使用されるものと同一であり、ただし色素D1、D2およびD3は、上記の特許出願においてもこれらの名称で言及される。
次いで得られたLCセルの両方を図3に概略的に示す通りに二重セル構造に組み合わせて、色素ドープ二重LCセルのレイアウトを有するスイッチ可能ウィンドウを得る。静電容量性タッチ箔(Pro Display社、ホイランド市、英国から商業的に入手)を図3に概略的に示す通り、外側ガラスシートの外側に取り付ける。電気配線を、アクセス可能な位置にあるシートの全ての導電域に設ける。
2)タッチ制御可能ウィンドウに到達するためにウィンドウをタッチセンシティブ箔にコンタクトする。
図7に示す方式に従い2個のLCセルのそれぞれの導電域を、接地および電源(0〜24V AC)間で各域をスイッチできる別個のスイッチに接続する。スイッチを、プログラマブル論理制御装置(PLC、programmable logic controller)のデジタル出力(DO、digital output)を使用して制御する。また電源の電圧もPLCで設定し、PLCのアナログ出力で制御する。対応するドライバを実行し、タッチセンシティブ箔上の特定のタッチ領域およびジェスチャの効果を定義するソフトウェアを含むPCにタッチ箔を接続する。PCをPLCに接続し、タッチイベント後の所望のウィンドウ状態を決定する。
ソフトウェアで定義されるタッチ領域およびタッチジェスチャによって、水平方向のドラッグ動作を使用してデバイスの中間階調を制御でき、タッチで個々のセグメントをスイッチでき、ダブルタッチで全てのセグメントを同時にスイッチでき、垂直方向のドラッグ動作でブラインドを模倣して連続するセグメントをスイッチできる。
図8は、液晶ウィンドウへのタッチジェスチャの効果を示す。シングルタップによって、対応する領域内のセグメントをオンおよびオフ状態間でスイッチする(A)。ウィンドウの側面には領域(B)があり、そこで垂直方向にドラッグで下げる動作の結果、セグメントを連続的に暗くにスイッチする(最上のセグメントから開始し、ドラッグ動作が停止するまで継続する)か、またはドラッグで上げる動作の結果、セグメントを連続的に明るくスイッチし(最下から開始し、ドラッグ動作が停止するまで継続する)、ウィンドウが部分的にスイッチした結果となる。ウィンドウの下部には領域(C)があり、そこで左にドラッグすると、オンにスイッチされているセグメントが薄暗くなる結果となり、右にドラッグすると、オンにスイッチされているセグメントの輝度が増加する。右下の領域(D)内でダブルタップすると、全てのセグメントが暗および明状態間でスイッチする。図8の点線は、セグメント(レーザーアブレーションで生成された導電層の絶縁域)の位置決めを示す。
1 第1基板層
2 第1導電層
2a スタック内で第2導電層と重ならない第1導電層の一部
2b スタック内で第2導電層と重なる第1導電層の一部
3 スイッチ層
4 第2導電層
5 第2基板層
6 第1導電層の導電域
6a 第2導電層と重ならない第1導電層の導電域の一部
6b 第2導電層と重なる第1導電層の導電域の一部
7 導電層の絶縁域
8a ガス充填空間
8b スペーサー
9 固体層、好ましくはガラス層
10 タッチセンシティブ層
11 タッチセンシティブデバイス
12 コンピュータ
13 プログラマブル論理制御装置
(PLC、programmable logic controller)
13a PLCのアナログ出力
13b PLCのデジタル出力
14 交流電圧源
15 接地
15a 共通電圧
15b 信号電圧
16 複数のスイッチを含むスイッチデバイス
17 スイッチ可能デバイスの導電層の導電域に対するスイッチの接続
18 共通出力
A セグメントにおけるシングルタップジェスチャ
B ウィンドウの右側における垂直ドラッグジェスチャ
C ウィンドウの下部における水平ドラッグジェスチャ
D ウィンドウの右下領域におけるダブルタップジェスチャ

Claims (24)

  1. 光の透過を制御するためのスイッチ可能デバイスであって、
    第1基板層、第2基板層、第1および第2基板層間に位置するスイッチ層、スイッチ層および第1基板層間に位置する第1導電層、ならびにスイッチ層および第2基板層間に位置する第2導電層を含む層スタックを含み、ただし
    スイッチ層は、電圧を印加すると光の透過率が変化する材料を含み、およびただし
    第1および第2導電層の少なくとも一方は、複数の絶縁域および複数の導電域を含み、ただし
    絶縁域および導電域は、導電層の領域にわたって交互に配置され、およびただし
    スイッチ可能デバイスのスイッチ状態は、タッチ動作で制御される
    第1スイッチ可能デバイスと、
    第1基板層、第2基板層、第1および第2基板層間に位置するスイッチ層、スイッチ層および第1基板層間に位置する第1導電層、ならびにスイッチ層および第2基板層間に位置する第2導電層を含む層スタックを含み、ただし
    スイッチ層は、電圧を印加すると光の透過率が変化する材料を含み、およびただし
    第1および第2導電層の少なくとも一方は、複数の絶縁域および複数の導電域を含み、ただし
    絶縁域および導電域は、導電層の領域にわたって交互に配置され、およびただし
    スイッチ可能デバイスのスイッチ状態は、タッチ動作で制御される
    第2スイッチ可能デバイス
    とを含むスタックを含むことを特徴とするスイッチ可能デバイス
  2. 絶縁域および導電域は、導電層の領域にわたって規則的なパターンで交互に配置されることを特徴とする請求項1に記載のスイッチ可能デバイス。
  3. 複数の導電域のそれぞれについて、導電域の領域で覆われるスイッチ層の特定域のスイッチ状態を、スイッチ層の他域のスイッチ状態から独立して選択できることを特徴とする請求項1または2に記載のスイッチ可能デバイス。
  4. 独立に選択できるスイッチ層の特定域のそれぞれのスイッチ状態は、タッチセンシティブ層上のタッチ動作で制御されることを特徴とする請求項3に記載のスイッチ可能デバイス。
  5. 絶縁域は0.2μm〜100μm、好ましくは1μm〜75μm、特に好ましくは10μm〜50μmの幅の線であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  6. 絶縁域は互いに平行で規則的に間隔をあけた線であり、
    それぞれの場合で平行線の間隔は1μmおよび1mの間であり、
    導電域は該線の間の空間に位置することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  7. 第1および第2導電層は、金属、好ましくは銀、または他の材料の薄層を含み、ただし他の材料は好ましくは、金属酸化物から、より好ましくは透明導電性金属酸化物(TCO、transparent conductive metal oxide)から、特に好ましくはインジウムスズ酸化物(ITO、indium tin oxide)、フッ素化スズ酸化物(FTO、fluorinated tin oxide)およびアルミニウムドープスズ酸化物(AZO、aluminium doped tin oxide)から、または銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、グラフェン、導電性ポリマー、特にPEDOT:PSS、金属メッシュ、または銀ナノ粒子から選択されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  8. 導電層の絶縁域は、レーザーアブレーション、化学エッチング、レーザーフォトリソグラフィー、機械的エンボス技術および光エンボスから選択される方法;または
    ITO(indium tin oxide、インジウムスズ酸化物)もしくは導電層として類似の導電性材料のコーティングを、一定域を覆いながらスパッタリングし、その後、覆っている材料を除去してコーティングのないガラス域を得ることで;または
    溶液加工可能な導体をインクジェット印刷して特定域のみに導電性材料をコーティングすることで生成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  9. 第1および第2導電層の一方のみが複数の絶縁域を含み、第1および第2導電層の他方は絶縁域を含まないかまたは本質的に含まないことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  10. 第1および第2導電層の一方の一部は、スタック内で第1および第2導電層の他方と重ならず、好ましくは少なくとも一方側から自由にアクセスでき、この部分は電圧に電気的に接続されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  11. スタック内で第1および第2導電層の他方と重ならない第1および第2導電層の一方の一部は、導電層のそれぞれの導電域と重なる領域を有し、ただし好ましくは
    これらの重なる領域において導電域は、それぞれ別個に電圧に電気的に接続されることを特徴とする請求項10に記載のスイッチ可能デバイス。
  12. 第1および第2導電層の一方の導電域は、直接アドレス、パッシブ・マトリクス・アドレス、アクティブ・マトリクス・アドレスおよび多重駆動から選択される手段によって電源に、それぞれ別個に独立に電気的に接続されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  13. タッチセンシティブ層は、スイッチ可能デバイスの層スタックの内部もしくは上、または電気配線もしくは無線接続でスイッチ可能デバイスに接続される外部タッチセンシティブデバイス内に存在することを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  14. タッチセンシティブ層と、タッチセンシティブ層の出力信号を出力信号に変換する1個以上の論理ユニット、好ましくはプログラマブル論理制御装置(PLC、programmable logic controller)またはコンピュータを含むアセンブリと、入力信号に応じて出力電圧が変化する1個以上の電圧源と、および入力信号に応じて複数の導電性セグメントのそれぞれをオンおよびオフにスイッチできる複数のスイッチとを含む相互接続アセンブリを含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  15. 複数のスイッチのそれぞれのスイッチは、独立して調整可能な電圧を有する別個の電源に接続されることを特徴とする請求項14に記載のスイッチ可能デバイス。
  16. スイッチ層は、エレクトロクロミックスイッチ層、懸濁粒子スイッチ層、電気泳動スイッチ層および液晶スイッチ層から選択されることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  17. 液晶スイッチ層は、液晶を含むポリマースイッチ層からおよび低分子系液晶スイッチ層から選択されることを特徴とする請求項16に記載のスイッチ可能デバイス。
  18. 液晶スイッチ層は、ポリマー分散液晶スイッチ層である液晶スイッチ層を含むポリマーから選択されることを特徴とする請求項16または17に記載のスイッチ可能デバイス。
  19. 液晶スイッチ層は、液晶材料中に溶解された1種類以上の二色性色素を含み、ただし液晶材料は、低分子およびポリマー材料から選択される1種類以上の液晶有機化合物を含むことを特徴とする請求項16〜18のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  20. スイッチ層は電界の印加によって、少なくとも2つの異なるスイッチ状態間でスイッチされ、ただし
    一方の状態は暗状態または散乱状態であり、他方の状態は透明状態であることを特徴とする請求項1〜19のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイス。
  21. 暗状態で液晶材料は、ネマチック非ツイスト、ネマチックツイストおよびネマチック超ツイストから選択される状態にあるが、
    透明状態で材料は、ホメオトロピック状態にあることを特徴とする請求項20に記載のスイッチ可能デバイス。
  22. 請求項1〜21のいずれか1項に記載のスイッチ可能デバイスを含むウィンドウであって、
    インシュレーティッドガラスユニットを含み、ただし
    スイッチ可能デバイスは、インシュレーティッドガラスユニットの内側に位置することを特徴とするウィンドウ。
  23. 好ましくはウィンドウのフレーム上に位置する別個のタッチセンシティブデバイスを含むことを特徴とする請求項22に記載のウィンドウ。
  24. 建物内または乗物内における、請求項1〜21のいずれか1項に記載のデバイスまたは請求項22または23に記載のウィンドウの使用。
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