JP4031506B2

JP4031506B2 - 電子ブラインド並びに電子ブラインドの製造方法

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Publication number: JP4031506B2
Application number: JP2006141634A
Authority: JP
Inventors: ラジェッシュクマール
Original assignee: Vision Multimedia Technology Co., Ltd.
Current assignee: Vision Multimedia Technology Co., Ltd.
Priority date: 2006-05-22
Filing date: 2006-05-22
Publication date: 2008-01-09
Anticipated expiration: 2026-05-22
Also published as: US20090303402A1; JP2007309049A; US8248546B2; WO2007136063A1

Description

本発明は電子ブラインド並びに電子ブラインドの製造方法に関する。詳しくは、建物の窓等に用いられると共に、全体的に若しくは部分的に光透過性制御が可能な電子ブラインド並びに電子ブラインドの製造方法に係るものである。

液晶パネルは通常、内側に塗布されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）からなる透明電極を備えた一対の透明プラスチック基板（以下、単に「基板」とする。）によって、高分子相と液晶相を含んだ（高分子／液晶）複合材料が挟持された構造を有している。また、一般的に、（高分子／液晶）複合材料は、基板上に塗布され、そして紫外線（ＵＶ）照射を施され、更に２枚の基板でサンドイッチ状に挟まれ、相分離して乳白色な状態になる。そして、この基板に特定の電圧で交流信号周波数を加えたときに、（高分子／液晶）複合材料が誘導され、回転及び整列すると、光を透過して透明になり、交流信号周波数を加えないときには光を透過せず不透明となる。

このような液晶パネルとしては様々なものが提案されており（例えば、特許文献１参照。）、図６は従来の液晶パネルの構造を説明する概略図であるが、図６には、２種類の高分子材料と液晶材料が分散した（高分子／液晶）複合膜１０１の両面に、透明電極１０２及び透明電極１０３を貼着して構成された液晶パネルが記載されており、ここで透明電極１０２及び透明電極１０３はそれぞれ、ベースとなる透明フィルム１０２Ａ及び透明フィルム１０３Ａ上に透明導電層１０２Ｂ及び透明導電層１０３Ｂが被着されて形成され、透明導電層１０２Ｂ及び透明導電層１０３Ｂが（高分子／液晶）複合膜１０１に接触しており、これら透明電極１０２及び透明電極１０３間に交流電源１０４から駆動電圧を印加すると、（高分子／液晶）複合膜１０１の光の透過率が増加し、交流電源１０４から駆動電圧を印加しないと光の透過率が減少する。

特開平５−４５６３４号公報

しかしながら、従来の液晶パネルは、透明電極全面を一度に光制御で切り替えるものであり、部分的にしかもライン状に光制御で切り替えたいという要求を満たすものではなかった。

また、上下の基板に単一の透明電極が形成された液晶パネル同士を接続させることも考えられるが、各液晶パネルには、（高分子／液晶）複合材料を封止材で封止する必要があるので、電極接続部分が相当複雑になってしまい、最終製品までの工程も複雑になるため、高コストになるうえに、封止材の厚みほど液晶パネル間が離れてしまい乳白色部分が多くなってしまうという問題がある。

本発明は、以上の点に鑑みて創案されたものであり、全体的及び部分的な光の制御が可能な電子ブラインド並びに電子ブラインドの製造方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明の電子ブラインドは、一対の基板と、該一対の基板の間に挟持された（高分子／液晶）複合材料と、前記一対の基板の対向面に形成された一対の電極とを備えた電子ブラインドにおいて、前記一対の電極のうち一方の電極は、一方の基板の一端から他端にわたりライン状に互いに離れて形成され、前記一対の電極のうち他方の電極は、他方の基板の全面に形成されたことを特徴とする。

ここで、一方の基板の一端から他端にわたりライン状に互いに離れて形成されたことによって、部分的に電圧を印加することができる。また、他方の電極は、他方の基板の全面に形成されたことによって、一方の電極の位置と他方の電極の位置を細かく調整する必要がない。

また、本発明の電子ブラインドにおいて、一方の電極は、０．６６ｍｍ以下または０．２ｍｍ以下の間隔を隔てて形成された場合、光が透過しないで乳白色となる領域が少なくてすみ、全面が透明であるように見える。

また、本発明の電子ブラインドにおいて、（高分子／液晶）複合材料は、２−エチルヘキシルアクリレートと、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートと、オリゴマー及びポリアクリレートから選ばれる少なくとも１つのものとを含み、残部が液晶材料である場合、２−エチルヘキシルアクリレートによって電子ブラインドが低電圧で駆動できるようになり、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートによって電子ブラインドの応答速度が速くなり、そしてオリゴマー及びポリアクリレートから選ばれる少なくとも１つのものによって（高分子／液晶）複合材料の粘度を増大させることができる。

また、上記の目的を達成するために、本発明の電子ブラインドの製造方法は、一対の基板の対向面に一対の電極を形成する工程と、該一対の基板の間に（高分子／液晶）複合材料を配置して該（高分子／液晶）複合材料を挟持する工程とを有する電子ブラインドの製造方法において、前記一対の基板の対向面に一対の電極を形成する工程が、一方の基板の一端から他端にわたって複数の電極をライン状に互いに離して形成する工程と、他方の基板の全面に単一の電極を形成する工程とを有することを特徴とする。

ここで、一方の基板の一端から他端にわたって複数の電極をライン状に互いに離して形成する工程によって、部分的に電圧を印加することができる電子ブラインドを製造できる。また、他方の基板の全面に単一の電極を形成する工程によって、一方の電極の位置と他方の電極の位置を細かく調整する必要がない電子ブラインドを製造できる。

また、本発明の電子ブラインドの製造方法において、複数の電極を０．６６ｍｍ以下または０．２ｍｍ以下の間隔を隔てて形成する場合、光が透過しないで乳白色となる領域が少なくてすみ、全面が透明であるように見える電子ブラインドを製造することができる。

また、本発明の電子ブラインドの製造方法において、（高分子／液晶）複合材料は、２−エチルヘキシルアクリレートと、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートと、オリゴマー及びポリアクリレートから選ばれる少なくとも１つのものとを含み、残部が液晶材料である場合、２−エチルヘキシルアクリレートによって低電圧で駆動できる電子ブラインドを製造でき、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートによって応答速度が速くなった電子ブラインドを製造でき、そしてオリゴマー及びポリアクリレートから選ばれる少なくとも１つのものによって（高分子／液晶）複合材料の粘度を増大させることができる。

本発明に係る電子ブラインドは、全体的及び部分的な光の制御が可能である。

本発明に係る電子ブラインドの製造方法は、全体的及び部分的な光の制御が可能な電子ブラインドを製造できる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。本明細書は、パターニング加工された電極が形成されて光透過性制御が可能であると共に、建造物や乗り物等に使用される電子ブラインド、並びに電子ブラインドの製造方法を具体的に説明するものである。

本発明の電子ブラインドに使用される基板（フィルム基板）の材質としては、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴフィルム）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮフィルム）、ポリカーボネート（ＰＣ）のようなフィルムが挙げられ、このような基板にＩＴＯと言われる透明なインジウムスズ酸化物を塗布し、透明導電性電極層が形成される。

また、本発明を適用した電子ブラインドに使用される（高分子／液晶）複合材料には、適宜、スペーサと言うミクロ球体をした、（高分子／液晶）複合材料の厚みを均一に保つ材料が混入される。また、マルチコーティング、カーテンコーティング、スクリーン印刷のいずれかで（高分子／液晶）複合材料を基板に塗布する。更に、（高分子／液晶）複合材料の質を低下させてしまう空気や湿気の侵入を防ぐために基板の外枠を封止材で密封し、紫外線（ＵＶ）照射によりモノマーを硬化させ、（高分子／液晶）複合材料を相分離させる。

また、本発明を適用した電子ブラインドに使用される（高分子／液晶）複合材料は、アクリルモノマーの混合物を含んだものであり、オリゴマーまたはポリアクリレートは（高分子／液晶）複合材料の粘度を高めるために（高分子／液晶）複合材料に加えられる。また、光重合開始剤の速度を速める効果があり、光重合の加速のために２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンのような光硬化剤が（高分子／液晶）複合材料に添加される。

また、本発明を適用した電子ブラインドに使用される（高分子／液晶）複合材料中の液晶材料は、ビフェニール、シクロヘキサン、そしてフローリン含有の混合物である。また、液晶材料の複屈折率及び粘度と同様にその温度範囲も選択可能であるが、複屈折率Δｎが０．１８の液晶材料を用いた（高分子／液晶）複合材料は、ヘイズを少なくし、希望通りの特性を示すため特に好ましい。
また、液晶材料は、均質性の澄明な液を形成してモノマーで溶解され、粘度は５０〜２５０ｃｐｓ（５０〜２５０ｍＰａ・ｓ）の範囲内で、基板上でのロールトゥシート（ＲｏｌｌｔｏＳｈｅｅｔ）プロセスのために選択可能である。ここで、液晶材料の粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満だと、基板への粘着が弱く、はがれやすくなり好ましくなく、また、２５０ｍＰａ・ｓを越えると、液晶材料が固まって使用し難くなり好ましくない。

また、（高分子／液晶）複合材料中、（高分子／液晶）複合材料全量基準で、液晶材料の割合は７０〜８２質量％であり、プリポリマーの割合は３０〜１８質量％である。ここで、液晶材料の比率が大きくなると駆動電圧は低くなるが、コントラストも低くなり、プリポリマーの比率が大きくなると駆動電圧が高くなると共にヘイズも高くなってしまい、粘度が下がってしまう。

また、プリポリマーは、モノアクリレート、ジアクリレート、並びにオリゴマー及びポリアクリレートから選ばれる少なくとも１つのもので構成され、これらの比率が（高分子／液晶）複合材料の電気光学特性に影響する。液晶材料の粘度の増加と同様に、モノアクリレート比率の増加は低電圧駆動を導き、一方でジアクリレート比率を増加すると、より高い電圧、より高速な応答を導く。また、モノアクリレート及びオリゴマーは、（高分子／液晶）複合材料の粘度に影響し、液晶の粘度はポリアクリレートまたはオリゴマーを加えることで増加する。

本発明で使用する（高分子／液晶）複合材料は、アクリルモノマーとオリゴマーの混合物であり、（高分子／液晶）複合材料の粘度は希望に応じて変えることができる。また、本発明で使用する（高分子／液晶）複合材料は、低価格でしかも高コントラストを有し、ヘイズを少なくできるという特徴を持つ。

実施例１
次のような組成の（高分子／液晶）複合材料を調製した。即ち、（高分子／液晶）複合材料全量基準で、２−エチルヘキシルアクリレート（アルドリッチ社製）６質量％、Ｍ−１２１０（商品名、アクリレート系オリゴマー、東亜合成社製）１２質量％、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（アルドリッチ社製）２質量％、及び液晶ＴＥＢ−５０（商品名、ＳｈｉｊｉａｚｈｕａｎｇＳｌｉｃｈｅｍ液晶材料社製）８０質量％で構成された（高分子／液晶）複合材料を作製した。更に、２−エチルヘキシルアクリレート、Ｍ−１２１０及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレートの全量に対して５質量％の２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン光重合開始剤を（高分子／液晶）複合材料に加えた。
次に、透明導電性ガラス基板上に（高分子／液晶）複合材料を塗布した後、別の透明導電性ガラス基板を（高分子／液晶）複合材料上に載せて２枚の基板で（高分子／液晶）複合材料を挟んで１６μｍの厚みとし、そして２０℃の温度で、３０秒間、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で紫外線を基板の上から照射して（高分子／液晶）複合材料を硬化させて１６μｍの厚みのテストセルを得た。２５℃での（高分子／液晶）複合材料の電気光学的特性を測定した結果を表１に示す。

実施例２
次のような組成の（高分子／液晶）複合材料を調製した。即ち、（高分子／液晶）複合材料全量基準で、２−エチルヘキシルアクリレート（アルドリッチ社製）６質量％、Ｍ−１２１０（商品名、アクリレート系オリゴマー、東亜合成社製）１２質量％、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（アルドリッチ社製）２質量％、及び液晶ＴＥＢ−３００（商品名、複屈折率０．１８、ＳｈｉｊｉａｚｈｕａｎｇＳｌｉｃｈｅｍ液晶材料社製）８０質量％で構成された（高分子／液晶）複合材料を作製した。更に、２−エチルヘキシルアクリレート、Ｍ−１２１０及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレートの全量に対して５質量％の２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン光重合開始剤を（高分子／液晶）複合材料に加えた。
次に、透明導電性ガラス基板上に（高分子／液晶）複合材料を塗布した後、別の透明導電性ガラス基板を（高分子／液晶）複合材料上に載せて２枚の基板で（高分子／液晶）複合材料を挟んで１６μｍの厚みとし、そして２５℃の温度で、３０秒間、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で紫外線を基板の上から照射して（高分子／液晶）複合材料を硬化させて１６μｍの厚みのテストセルを得た。２５℃での（高分子／液晶）複合材料の電気光学的特性を測定した結果を表１に示す。

図１（ａ）は、ＩＴＯが片側全面に塗布されたロール状のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）−ＩＴＯフィルム基板の概略図であり、図１（ｂ）は、片面にＩＴＯが所定の間隔で幅方向にライン状に塗布されたロール状のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）−ＩＴＯフィルム基板の概略図である。
図１（ａ）に示すように、ＰＥＴフィルムで構成された第１のフィルム基板１上に、ＩＴＯで構成された第１の透明導電性電極層３が第１のフィルム基板１の片側全面に形成されて単一の電極層を構成しており、また、図１（ｂ）に示すように、ＩＴＯを第２のフィルム基板２の幅方向に塗布して形成された複数のＩＴＯ層４Ａと、ＩＴＯが塗布されていない複数の非ＩＴＯ層４Ｂとで構成された第２の透明導電性電極層４が、ＰＥＴフィルムで構成された第２のフィルム基板２上に形成されている。このような第２の透明導電性電極層４が形成された第２のフィルム基板２として株式会社トービで作製されたものを使用できる。ＩＴＯ層４Ａの幅は４０ｍｍであり、非ＩＴＯ層４Ｂの幅は０．５ｍｍである。即ちＩＴＯ層４Ａは非ＩＴＯ層の幅だけ互いに離れている。

ここで、ＩＴＯ層が所定の間隔で複数形成されていれば、ＩＴＯ層の幅は必ずしも４０ｍｍでなくてもよく、また非ＩＴＯ層の幅は必ずしも０．５ｍｍでなくてもよく、非ＩＴＯ層の幅は０．６６ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、または０．３ｍｍであってもよい。また、ＩＴＯ層が所定の間隔で複数形成されていれば、必ずしも第２のフィルム基板の幅方向にＩＴＯ層が形成されていなくてもよく、第２のフィルム基板の長さ方向に形成されていてもよい。
また、第１のフィルム基板及び第２のフィルム基板の厚みは、１２５μｍが一般的であるが、ＩＴＯの塗布によって１７５μｍや１８８μｍになってもよい。

図２は、電子ブラインドパネルをロールトゥシート工程で製造する一例を示す概略図である。先ず、ＩＴＯで構成された単一の第１の透明導電性電極層（図示せず。）が片側全面に形成された第１のフィルム基板１及び、複数のＩＴＯ層とＩＴＯが塗布されていない複数の非ＩＴＯ層とで構成された第２の透明導電性電極層（図示せず。）が片面に形成された第２のフィルム基板２がそれぞれ巻かれた状態から繰り出される。また、（高分子／液晶）複合材料５には、スペーサと呼ばれるミクロ球体が混入されており、（高分子／液晶）複合材料５の厚みを均一に保っている。
そして、第１のフィルム基板１の第１の透明導電性電極層（図示せず。）上に（高分子／液晶）複合材料５を塗布する塗布処理６を行い、次に第２の透明導電性電極層（図示せず。）を（高分子／液晶）複合材料５に向けた状態で第２のフィルム基板２を（高分子／液晶）複合材料５に当て、ローラー回転方向７Ａの方向に回転するローラー７で第１のフィルム基板１と第２のフィルム基板２を（高分子／液晶）複合材料５にラミネートして、積層体とする。
次に、２５℃で３０秒間、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度の紫外線を積層体に照射する紫外線硬化加工８を行う。
紫外線が照射されて相分離した（高分子／液晶）複合材料５を有する積層体はカットされて個々のセグメントに分けられ、積層体の周囲を封止材で囲って（高分子／液晶）複合材料５を密封し、電子ブラインドパネル９が得られる。

図３（ａ）は、電子ブラインドパネルの側面の一例を示す概略側面図であり、図３（ｂ）は、電子ブラインドパネルの平面の一例を示す概略平面図であり、図３（ｃ）は、電子ブラインドパネルの分解状態の一例を示す分解斜視図である。
図３（ａ）〜（ｃ）においては、（高分子／液晶）複合材料５を第１のフィルム基板１と第２のフィルム基板２とで挟まれて封止材（図示せず。）によって周囲が囲まれて（高分子／液晶）複合材料５が密封されており、（高分子／液晶）複合材料５は乳白色を呈している。また、第２のフィルム基板２には４０ｍｍ幅のＩＴＯ層４Ａが０．５ｍｍ間隔で形成されている（即ち、ＩＴＯが塗布されていない０．５ｍｍ幅の非ＩＴＯ層４Ｂ）。また、電子ブラインドパネル長さ１０は、用途に応じていかなる長さにも対応でき、更に電子ブラインドパネル幅１１も、図３（ｂ）の例では６００ｍｍであるが、いかなる長さにも対応できる。

図４（ａ）は、電極が取り付けられた第１のフィルム基板の一例を示す概略図であり、図４（ｂ）は、個々のＩＴＯ層に電極が取り付けられた第２のフィルム基板の一例を示す概略図であり、図４（ｃ）は、電極が取り付けられた第１のフィルム基板と個々のＩＴＯ層に電極が取り付けられた第２のフィルム基板とによって作製された電子ブラインドの一例を示す概略図である。
図４（ａ）に示すように、ＩＴＯで構成された第１の透明導電性電極層（図示せず。）が片側全面に形成された第１のフィルム基板１のオフセット部分に銅板電極１２が取り付けられている。また、図４（ｂ）に示すように、８つのＩＴＯ層それぞれに接続電極１３（１３Ａ〜１３Ｈ）が取り付けられている。そして、図４（ｃ）に示すように、銅板電極１２と接続電極１３（１３Ａ〜１３Ｈ）とが電子ブラインドパネル９のそれぞれ横辺と縦辺に位置するように第１のフィルム基板と第２のフィルム基板とを配置し、乳白色の（高分子／液晶）複合材料を挟んで電子ブラインドを作製する。

図５（ａ）は、電圧が印加されて透明になった１つのＩＴＯ層を有する電子ブラインドの一例を示す概略図であり、図５（ｂ）は電圧が印加されて透明になった複数のＩＴＯ層を有する電子ブラインドの一例を示す概略図であり、図５（ｃ）は、電圧が印加されて電子ブラインド全体が透明になった状態の一例を示す概略図である。
図５（ａ）に示すように、接続電極１３（１３Ａ〜１３Ｈ）のうち、１つのＩＴＯ層に接続した接続電極１３Ａと銅板電極１２に、交流信号周波数６０Ｈｚ、電圧３０Ｖを加えたところ、接続電極１３Ａに接続したＩＴＯ層が透明となり、他の接続電極が接続したＩＴＯ層は乳白色のままであった。
また、図５（ｂ）に示すように、電圧を加える接続電極を増やして接続電極１３Ａ〜１３Ｃと銅板電極１２に同様に電圧を加えたところ、接続電極１３Ａ〜１３Ｃに接続したＩＴＯ層が透明となり、他の接続電極が接続したＩＴＯ層は乳白色のままであった。
そして、図５（ｃ）に示すように、全ての接続電極１３Ａ〜１３Ｈと銅板電極１２に同様に電圧を加えたところ、全てのＩＴＯ層が透明となり、結果、電子ブラインド全体が透明となった。

このように、本発明の電子ブラインドは、一方の電極が、一方の基板の一端から他端にわたりライン状に互いに離れて形成されているので、部分的に電圧を印加することができ、全体的のみならず部分的に光を透過させたり光を不透過にしたりして光の制御を行なうことが可能である。また、他方の電極が基板の全面に形成されているので、一方の電極の位置と他方の電極の位置を細かく調整する必要がなく、電極の位置ずれによる光の不透過を低減することができる。

また、本発明の電子ブラインドは、全体的のみならず部分的に光を透過させたり光を不透過にしたりして光の制御を行なうことができるので、例えば建造物や乗り物の窓に使用して、通常のブラインドの代用とすることが可能である。即ち、病室においては、患者がその日の気分で外の景色の範囲例えば上半分の青空を見たいときなどは、手元の操作で電子ブラインドの上半分に電圧を加えて光透過性にすれば体を動かさずに透明または不透明の調節を行なうことができ、また、自動車、バスにおいては、後部座席の窓の下半分に電圧を加えず光を不透過にして不透明な状態にすれば、外部から見えなくなると共にプライベートな空間が保て、夏の日差しが強い日などは眩しくなく、しかも上半分で外の景色を楽しむこともできる。また、会議室等においても、わざわざ窓の近くまで移動することなく手元の操作で通常のブラインドやカーテンの開け閉めと同じ効果を発揮できる。

また、第１のフィルム基板に取り付けられた銅板電極と交差している、第２のフィルム基板のＩＴＯ層に接続した接続電極までは電子リレーとなっており、ＩＴＯ層の部分に電圧を加えることにより、遠隔操作で瞬時に電子ブラインドの全部あるいは一部が透明な状態になる。

（ａ）は、ＩＴＯが片側全面に塗布されたロール状のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）−ＩＴＯフィルム基板の概略図であり、（ｂ）は、片面にＩＴＯが所定の間隔で幅方向にライン状に塗布されたロール状のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）−ＩＴＯフィルム基板の概略図である。電子ブラインドパネルをロールトゥシート工程で製造する一例を示す概略図である。（ａ）は、電子ブラインドパネルの側面の一例を示す概略側面図であり、（ｂ）は、電子ブラインドパネルの平面の一例を示す概略平面図であり、（ｃ）は、電子ブラインドパネルの分解状態の一例を示す分解斜視図である。（ａ）は、電極が取り付けられた第１のフィルム基板の一例を示す概略図であり、（ｂ）は、個々のＩＴＯ層に電極が取り付けられた第２のフィルム基板の一例を示す概略図であり、（ｃ）は、電極が取り付けられた第１のフィルム基板と個々のＩＴＯ層に電極が取り付けられた第２のフィルム基板とによって作製された電子ブラインドの一例を示す概略図である。（ａ）は、電圧が印加されて透明になった１つのＩＴＯ層を有する電子ブラインドの一例を示す概略図であり、（ｂ）は電圧が印加されて透明になった複数のＩＴＯ層を有する電子ブラインドの一例を示す概略図であり、（ｃ）は、電圧が印加されて電子ブラインド全体が透明になった状態の一例を示す概略図である。従来の液晶パネルの構造を説明する概略図である。

符号の説明

１第１のフィルム基板
２第２のフィルム基板
３第１の透明導電性電極層
４第２の透明導電性電極層
４ＡＩＴＯ層
４Ｂ非ＩＴＯ層
５（高分子／液晶）複合材料
６塗布処理
７ローラー
７Ａローラー回転方向
８紫外線硬化加工
９電子ブラインドパネル
１０電子ブラインドパネル長さ
１１電子ブラインドパネル幅
１２銅板電極
１３接続電極

Claims

一対の基板と、該一対の基板の間に挟持された高分子／液晶複合材料と、前記一対の基板の対向面に形成された一対の電極とを備えた電子ブラインドにおいて、
前記一対の電極は、一方の基板の一端から他端にわたって複数の電極をライン状に互いに離して形成する工程と、他方の基板の全面に単一の電極を形成する工程とによって形成され、
前記基板は、ポリエチレンテレフタラートフィルムまたはポリエチレンナフタレートフィルムから選ばれるフィルム基板であり、
該フィルム基板は、巻かれた状態から繰り出される工程で製造される
ことを特徴とする電子ブラインド。
前記一方の電極は、０．２ｍｍ以下の間隔を隔てて形成された
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ブラインド。
前記高分子／液晶複合材料の液晶材料の粘度は、５０〜２５０ｍＰａ・ｓである
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ブラインド。