JP6678768B2 - フィルム外装電池の製造方法およびフィルム外装電池 - Google Patents

フィルム外装電池の製造方法およびフィルム外装電池 Download PDF

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Description

この発明は、可撓性を有するラミネートフィルムからなる外装体の中に電解液とともに発電要素が収容されたフィルム外装電池の製造方法に関し、特に、発電要素から突出する電極タブを挟み込んだ状態でラミネートフィルムを熱融着する封止工程の改良に関する。
例えばリチウムイオン二次電池として、複数の正極および負極をセパレータを介して積層してなる発電要素が、熱融着層を備えたラミネートフィルムからなる外装体の中に電解液とともに収容された偏平形状をなすフィルム外装電池が知られている。この種のフィルム外装電池においては、特許文献1に開示されているように、電極タブが導出された外装体の一つの辺では、薄い金属板からなる正負の電極タブを接合面に挟み込んだ形に2枚のラミネートフィルムが熱融着される。
特許文献1では、電極タブが導出される外装体の一辺の全体を第1のヒートブロックにより熱融着した後に、電極タブに隣接する部位のみを第2のヒートブロックによって加熱押圧して、電極タブに隣接した隙間を埋めるようにしている。
すなわち、第1のヒートブロックによる封止加工においては、電極タブが介在せずにラミネートフィルム同士を接合する部位と、電極タブが介在する部位と、の双方を同じヒートブロックによって同時に加熱封止するようにしている。
しかしながら、金属からなる電極タブは、それ自体の熱容量が大きいばかりか、外装体の内部で発電要素に接続されているために正極や負極の金属製集電体に熱を奪われることになる。そのため、加熱封止する一つの辺の中で、電極タブが介在せずにラミネートフィルム同士を接合する部位と、電極タブが介在する部位と、では、好適な温度条件や圧力条件が互いに異なるものとなる。従って、双方を同じヒートブロックによって加熱・加圧して熱融着させる従来の方法では、必ずしも各部位を最適な条件で封止することができず、封止の品質が低いものとなる。
特開2010−244725号公報
この発明では、少なくとも1つの電極タブが配置された外装体の一辺において、上記電極タブを横切って連続的に設定されるシール線の中で、電極タブと重なった領域をタブ領域用ヒートブロックによって加熱封止するタブ領域封止加工と、上記のシール線の中で、電極タブと重ならない領域を非タブ領域用ヒートブロックによって加熱封止する非タブ領域封止加工と、を個別に行うようにした。
このように2つの領域を個別に加熱封止することで、各々の加工条件(例えば温度や圧力あるいは加熱時間等)を個々に最適化することができる。
従って、電極タブを含む外装体の一辺における封止品質が向上する。
一実施例の電池製造方法の要部を示した工程説明図。 封止工程を経たセルの正面図。 封止工程の工程説明図。 タブ領域の封止加工の説明図。 タブ領域用ヒートブロックの斜視図。 封止加工されたタブ領域を示す説明図。 非タブ領域の封止加工の説明図。 非タブ領域用ヒートブロックの斜視図。 封止加工された非タブ領域を示す説明図。 第2実施例における非タブ領域の封止加工の説明図。 封止加工された非タブ領域を示す説明図。 第2実施例におけるタブ領域の封止加工の説明図。 封止加工されたタブ領域を示す説明図。 第3実施例における非タブ領域を含む封止加工の領域を示す説明図。 第3実施例に用いられる非タブ領域用ヒートブロックの斜視図。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、一実施例の電池製造方法の要部を示した工程説明図である。この実施例では、フィルム外装電池の一例として、電気自動車やハイブリッド自動車等の車両駆動用電源パックを構成する偏平形状をなすフィルム外装型リチウムイオン二次電池を対象としている。一実施例のフィルム外装電池は、特開2013−140782号公報や特開2015−37047号公報等に記載のものと基本的に同様の構成を有しており、矩形のシート状に構成した正極および負極をセパレータを介して複数積層して発電要素(これは電極積層体とも呼ばれる)を構成し、この発電要素を、ラミネートフィルムからなる袋状の外装体の中に電解液とともに収容したものである。なお、以下の実施例の説明では、発電要素がフィルム状外装体の中に収容された後の電池を、製造工程の如何に拘わらず、単に「セル」と呼ぶこととする。
ステップS1として示す工程は、発電要素を構成する電極積層工程である。ここでは、それぞれロール状に巻回されている正極、負極およびセパレータを、矩形のシート状に切断しながら順次積層することで、複数の正極および負極がセパレータを介して積層された発電要素つまり電極積層体を形成する。正極は、集電体となるアルミニウム箔の両面に正極活物質をバインダを含むスラリとして塗布し、乾燥かつ圧延して所定の厚みの活物質層を形成したものである。負極は、同様に、集電体となる銅箔の両面に負極活物質をバインダを含むスラリとして塗布し、乾燥かつ圧延して所定の厚みの活物質層を形成したものである。セパレータは、正極と負極との間の短絡を防止すると同時に電解液を保持する機能を有するものであって、例えば、ポリエチレン(PE)やポリプロピレン(PP)等の合成樹脂の微多孔性膜あるいは不織布からなる。
これらの正極、負極およびセパレータは、所定枚数積層された状態で、テープにより固定され、発電要素つまり電極積層体となる。複数の正極の集電体の端部は、互いに重ねられ、正の端子となる電極タブつまり正極タブが超音波溶接される。同様に、複数の負極の集電体の端部は、互いに重ねられ、負の端子となる電極タブつまり負極タブが超音波溶接される。正極タブは、帯状の薄いアルミニウム板からなり、負極タブは、帯状の薄い銅板からなる。つまり、それぞれ集電体と同種の金属から構成される。
このように構成された発電要素は、次のステップS2として示す封止工程において、可撓性を有するフィルム状外装体の中に配置される。外装体は、例えば、アルミニウム箔の内側にポリプロピレンからなる熱融着層をラミネートするとともに、外側にポリアミド樹脂層およびポリエチレンテレフタレート樹脂層を保護層としてラミネートしてなる四層構造を有するラミネートフィルムからなる。ラミネートフィルム全体の厚さは、例えば、0.15mm程度である。本実施例では、外装体は、発電要素の下面側に配置される1枚のラミネートフィルムと上面側に配置される他の1枚のラミネートフィルムとの2枚構造をなし、これら2枚のラミネートフィルムの間に発電要素を配置した上で、周囲の四辺を一辺の注入口を残して重ね合わせ、かつ互いに熱融着する。従って、外装体は、注入口が開いた袋状の構成となる。ここで、正極タブおよび負極タブは、注入口を具備する一辺を上方へ向けたときに側方へ向かう辺に位置し、ラミネートフィルムの接合面から外側へ導出されている。この封止工程の詳細は後述する。
なお、他の例では、1枚の比較的大きなラミネートフィルムを二つ折りにし、2片の間に発電要素を挟み込んだ形に外装体を構成することも可能である。この場合は、三辺を一辺の注入口を残して熱融着することとなる。
このように封止工程においてフィルム状外装体の中に発電要素が収容された状態に構成されたセルは、次に、ステップS3として示す注液工程に搬送される。注液工程では、例えば減圧チャンバ内にセルを立てた状態に配置し、所定の減圧下で外装体の注入口にディスペンサの注液ノズルを差し入れて、電解液の充填(注液)を行う。
注液が完了したら、セルの姿勢をそのまま保った状態で、注入口封止工程(ステップS4)として、注入口を熱融着により封止する。なお、ここでの封止はいわゆる仮封止であり、後述する充電後に、充電に伴って発生したガス抜きのために注入口(あるいはその近傍)が開封されるので、ガス抜き後に、最終的な封止を行うこととなる。
ステップS4の注入口封止工程の次に、ステップS5の含浸工程として、電解液の発電要素への十分な浸透を待つために、所定時間(例えば数時間ないし数十時間)、放置する。その後、ステップS6において、初充電を行う。そして、図外のエージング工程等の次工程に進む。
次に、本発明の要部であるステップS2の封止工程について説明する。
図2は、封止工程を経たセル1を示しており、前述したように、ラミネートフィルムからなる外装体2の内部に仮想線で示す発電要素(電極積層体)3が収容されている。発電要素3は、互いに並んで配置された正極タブ4と負極タブ5とを備えている。外装体2は、正極タブ4および負極タブ5(両者を総称して電極タブとも呼ぶ)が導出された第1の辺7と、この第1の辺7に対向する第2の辺8と、負極タブ5側において第1の辺7と第2の辺8とを結ぶ第3の辺9と、注液口となる第4の辺10と、の四辺を有する長方形状に構成されている。
そして、封止工程において、注入口となる第4の辺10を除く3つの辺7,8,9が一対のヒートブロックによって加熱封止されている。図2には、ヒートブロックを用いた熱融着により構成される細い帯状のシール線11,12,13が斜線を施して示されている。これら3本のシール線11,12,13は、基本的には直線状に延びており、端部において互いに交差することで、連続したシール線を構成している。第2の辺8のシール線12および第3の辺9のシール線13は、ラミネートフィルム同士を接合したものとなる。これに対し、第1の辺7のシール線11は、正極タブ4と負極タブ5とを横切って1本の直線をなすように連続的に設定されており、2枚のラミネートフィルムが正極タブ4および負極タブ5を挟み込んだ形に接合されている。
換言すれば、第1の辺7におけるシール線11は、電極タブ4,5とラミネートフィルムとが重なる2つの領域(これをタブ領域と呼ぶこととする)11aと、電極タブ4,5と重ならずにラミネートフィルム同士が接合される3つの領域(これを非タブ領域と呼ぶこととする)11bと、を有し、これらが連続して1本の細長い帯状のシール線11を構成している。詳しくは、電極タブ4,5の表面には、シール線11が横切る部分に対応して、「先付け樹脂」と呼ばれる合成樹脂層が予め帯状に設けられており、タブ領域11aでは、この合成樹脂層の上にラミネートフィルムの熱融着層が接合されている。この実施例においては、2枚の帯状のポリプロピレンフィルムを電極タブ4,5の両面から該電極タブ4,5を挟み込むようにして電極タブ4,5表面に貼着することで、図2に示すように、先付け樹脂15がそれぞれ形成されており、この先付け樹脂15の上をシール線11が横切っている。
上記のタブ領域11aの封止加工(タブ領域封止加工)と上記の非タブ領域11bの封止加工(非タブ領域封止加工)とは、それぞれ後述するタブ領域用ヒートブロックもしくは非タブ領域用ヒートブロックを用いて、個別に行われる。
図3は、上述した3本のシール線11,12,13を封止加工する具体的な工程の順序の一例を示している。最初の工程(a)では、正極タブ4および負極タブ5とそれぞれ重なっている2箇所のタブ領域11aの封止加工を行う。これは、2つのタブ領域11aを含むように構成された一対のタブ領域用ヒートブロックを用い、ラミネートフィルムと電極タブ4,5(詳しくは表面の先付け樹脂15)との接合に適した圧力および温度でもって加圧しながら加熱することにより行う。
次の工程(b)では、シール線11の中で電極タブ4,5と重なっていない3箇所の非タブ領域11bの封止加工を行う。これは、3つの非タブ領域11bを含むように構成された一対の非タブ領域用ヒートブロックを用い、ラミネートフィルム同士の接合に適した圧力および温度でもって加圧しながら加熱することにより行う。工程(a)および工程(b)によって、電極タブ4,5を横切る第1の辺7に沿ったシール線11が封止状態に完成する。
次の工程(c)では、第2の辺8に沿ったシール線12の封止加工を行う。これは、シール線12に対応した形状の一対のヒートブロックを用い、ラミネートフィルム同士の接合に適した圧力および温度でもって加圧しながら加熱することにより行う。なお、シール線12とシール線11とは交差しないので、一つのセル1に対し、工程(b)の非タブ領域11bの封止加工と工程(c)のシール線12の封止加工とを実質的に同時に行うことも可能である。
次の工程(d)では、注液時に底辺となる第3の辺9に沿ったシール線13の封止加工を行う。これは、シール線13に対応した形状の一対のヒートブロックを用い、ラミネートフィルム同士の接合に適した圧力および温度でもって加圧しながら加熱することにより行う。なお、シール線13の両端部はシール線11およびシール線12の端部と交差する位置まで延びており、これによって外装体2つまりラミネートフィルムが袋状に構成される。
各々の工程で用いられるヒートブロックは、いずれも、細長い直方体形状をなす鋼製の本体部の中に棒状の電熱ヒータ(図示せず)を内蔵した基本的な構成を有している。
図4は、上記の工程(a)におけるタブ領域11aの封止加工の説明図であって、ここでは、シール線11に沿って2枚のラミネートフィルム20を電極タブ4,5とともに両側から挟み込む一対のタブ領域用ヒートブロック21が用いられる。図の(A)は一対のタブ領域用ヒートブロック21が互いに開いている状態を示し、図の(B)は、一対のタブ領域用ヒートブロック21によって加圧・加熱を行っている状態を示している。なお、図4の説明図における各部の寸法関係などは必ずしも正確なものではない。図5は、タブ領域用ヒートブロック21の概略形状を示した斜視図である。一対のタブ領域用ヒートブロック21は、基本的に対称形状をなしており、ラミネートフィルム20の表面と接することがないように設定された基準面22に対し、2つのタブ領域11aにそれぞれ対応する2つの加工部23,24が突出した形に形成されている。正極タブ4に対応した一方の加工部23は正極タブ4の厚さに対応した突出量を有し、負極タブ5に対応した他方の加工部24は負極タブ5の厚さに対応した突出量を有する。正極タブ4と負極タブ5は互いに厚さが異なることから、両者の突出量は互いに異なっている。一例を挙げると、正極タブ4および負極タブ5のそれ自体の厚さは、それぞれ、0.4mmおよび0.2mm程度であり、先付け樹脂15を含む厚さは、それぞれ、0.7mmおよび0.4mm程度である。さらに、加工部23は、より詳細には、正極タブ4と重なったラミネートフィルム20を加圧・加熱する主加工面23aと、この主加工面23aの両端部において主加工面23aからさらに微小量突出した状態に設けられた補助加工面23bと、を備えている。主加工面23aは、金属製の正極タブ4の幅よりも極僅かだけ大きな幅を有し、補助加工面23bは、金属製の正極タブ4から側方へ張り出した状態となる先付け樹脂15の張り出し部15a(図(B)参照)に重なる位置に設けられている。加工部24も同様であり、負極タブ5と重なったラミネートフィルム20を加圧・加熱する主加工面24aと、この主加工面24aの両端部において主加工面24aからさらに微小量突出した状態に設けられた補助加工面24bと、を備えている。主加工面24aは、金属製の負極タブ5の幅よりも極僅かだけ大きな幅を有し、補助加工面24bは、金属製の負極タブ5から側方へ張り出した状態となる先付け樹脂15の張り出し部15a(図(B)参照)に重なる位置に設けられている。
タブ領域11aの封止加工は、図4の図(B)に示すように、上記のタブ領域用ヒートブロック21を用い、電極タブ4,5とともにラミネートフィルム20を両側から加圧・加熱して行う。これにより、ラミネートフィルム20は、金属製の電極タブ4,5の表面に先付け樹脂15を介して接合される。また、先付け樹脂15の全体が主加工面23a,24aによって加圧される結果、軟化した先付け樹脂15の一部が張り出し部15aとして側方へ伸び、この張り出し部15aの先端縁が、ラミネートフィルム20とともに補助加工面23b,24bによって狭圧される。つまり、電極タブ4,5の近傍において、単純に2枚のラミネートフィルム20が重なっている部分と、2枚のラミネートフィルム20の間に先付け樹脂15の張り出し部15aが介在している部分と、の厚さの異なる2つの部分の境界周辺が、補助加工面23bによって加圧・加熱される。
このようにして、図6に斜線を施して示すタブ領域11aの封止加工が完了する。このタブ領域11aの封止加工は、電極タブ4,5の熱容量が大きいこと、ならびに、金属製の電極タブ4,5を介して内部の発電要素3の集電体等に熱が伝わること、を考慮して、比較的に高い加工温度、例えば230℃程度の温度でもって、比較的長い時間、例えば6秒程度、加圧・加熱する。加工時の圧力も比較的高く設定され、例えば7MPa程度の圧力がタブ領域用ヒートブロック21に与えられる。このように電極タブ4,5と重なるタブ領域11aのみを最適な加工条件で封止加工することにより、電極タブ4,5とラミネートフィルム20との確実な封止が得られる。
図7は、図3の工程(b)における非タブ領域11bの封止加工の説明図であって、ここでは、シール線11に沿って2枚のラミネートフィルム20同士を両側から挟み込む一対の非タブ領域用ヒートブロック31が用いられる。図の(A)は一対の非タブ領域用ヒートブロック31が互いに開いている状態を示し、図の(B)は、一対の非タブ領域用ヒートブロック31によって加圧・加熱を行っている状態を示している。図8は、非タブ領域用ヒートブロック31の概略形状を示した斜視図である。一対の非タブ領域用ヒートブロック31は、基本的に対称形状をなしており、ラミネートフィルム20の表面と接することがないように設定された基準面32に対し、3つの非タブ領域11bにそれぞれ対応する3つの加工部33,34,35が突出した形に形成されている。これら3つの加工部33,34,35は、いずれも等しい突出量を有する。さらに、加工部33,34,35は、より詳細には、ラミネートフィルム20同士を加圧・加熱する主加工面33a,34a,35aと、これら主加工面33a,34a,35aの端部において主加工面33a,34a,35aから微小量後退した状態に設けられた補助加工面33b,34b,35bと、を備えている。主加工面33a,34a,35aは、非タブ領域11bの中で先付け樹脂15の張り出し部15aと重ならない範囲に設けられており、補助加工面33b,34b,35bは、金属製の電極タブ4,5から側方へ張り出した先付け樹脂15の張り出し部15aの先端縁(つまり2枚のラミネートフィルム20同士の接合部との境界)に重なる位置に設けられている。特に、タブ領域11aの封止加工の際に用いられるタブ領域用ヒートブロック21の補助加工面23b,24bと上記の非タブ領域用ヒートブロック31の補助加工面33b,34b,35bとが、上記の張り出し部15aの先端縁の上で互いにオーバラップするように構成されている。
非タブ領域11bの封止加工は、図7の図(B)に示すように、上記の非タブ領域用ヒートブロック31を用い、電極タブ4,5と重ならない2枚のラミネートフィルム20同士を両側から加圧・加熱する。これにより、2枚のラミネートフィルム20は、互いに接合される。また、タブ領域11aの封止加工によって既に融着されている先付け樹脂15の張り出し部15aの先端縁付近が、ラミネートフィルム20とともに補助加工面33b,34b,35bによって再度加圧・加熱される。つまり、タブ領域用ヒートブロック21による加圧・加熱領域と非タブ領域用ヒートブロック31による加圧・加熱領域とが僅かにオーバラップしており、このオーバラップ領域が、張り出し部15aの先端縁の上に位置している。
一例を挙げると、タブ領域用ヒートブロック21の補助加工面23b,24bは2mm程度の幅を有するのに対し、非タブ領域用ヒートブロック31の補助加工面33b,34b,35bは1mm程度の幅を有しており、両者は、非タブ領域用ヒートブロック31の補助加工面33b,34b,35bの幅(つまり1mm程度)だけオーバラップしている。このようにタブ領域封止加工の加工領域と非タブ領域封止加工の加工領域とがオーバラップしていることで、シール線11における連続した封止が確実なものとなる。そして、タブ領域用ヒートブロック21の補助加工面23b,24bが主加工面23a,24aから僅かに突出し、非タブ領域用ヒートブロック31の補助加工面33b,34b,35bが主加工面33a,34a,35aから僅かに後退していることで、電極タブ4,5の近傍において、単純に2枚のラミネートフィルム20が重なっている部分と、2枚のラミネートフィルム20の間に先付け樹脂15の張り出し部15aが介在している部分と、の段差が吸収される。
このようにして、図9に斜線を施して示す非タブ領域11bの封止加工が完了する。この非タブ領域11bの封止加工は、電極タブ4,5による吸熱がなくラミネートフィルム20同士は比較的容易に熱融着することを考慮して、比較的に低い加工温度、例えば200℃程度の温度でもって、比較的短い時間、例えば1〜2秒程度、加圧・加熱する。加工時の圧力も比較的低く設定され、例えば1MPa程度の圧力が非タブ領域用ヒートブロック31に与えられる。このように電極タブ4,5と重ならない非タブ領域11bをタブ領域11aとは別に最適な加工条件で封止加工することにより、ラミネートフィルム20を過度に加熱することなく良好な封止が得られる。
そして、非タブ領域11bの封止加工領域は、図9に示すように、先に行ったタブ領域11aの封止加工領域と連続するので、1本の連続したシール線11が得られる。従って、シール線11全体として、良好な封止品質を確保することができる。
図3の工程(c)および工程(d)は、非タブ領域11bと同様に2枚のラミネートフィルム20同士の接合となるので、非タブ領域11bの封止加工と同様の加工条件でもって封止加工が行われる。
なお、前述したように、工程(c)のシール線12の封止加工を上記の非タブ領域11bの封止加工と実質的に同時に行うことが可能である。
このように、上記実施例の封止方法によれば、電極タブ4,5を横切るシール線11について、タブ領域11aと非タブ領域11bとをそれぞれ最適な加工条件(温度、圧力、時間、等)で封止加工することができ、全体として高い封止品質を得ることができる。すなわち、従来のようにタブ領域11aと非タブ領域11bとを同時にヒートブロックによって加圧・加熱して熱融着させようとすると、温度、圧力、時間といった加工条件を個別に設定することができないため、両者の妥協点となる加工条件で封止加工せざるを得ず、封止品質が低下しやすい。また、タブ領域11aと非タブ領域11bとを同時に加圧・加熱する場合には、ヒートブロックとして、タブ領域11aに対する加工面と非タブ領域11bに対応する加工面との間で電極タブ4,5の厚さに応じた段差を有するヒートブロックが用いられることとなるが、仮に段差を適切に設定しても、加工時の樹脂層の軟化・溶融に伴う厚さの変化がタブ領域11aと非タブ領域11bとで異なることから、加工の途中で実質的な受圧面積が変動し、適切な加圧力を維持できなくなる。上記実施例では、このような実質的な受圧面積の変化による加圧力変化も抑制できる。
上記実施例では、図3の工程(a),(b)の順に従って、タブ領域11aを先に封止加工し、次に非タブ領域11bを封止加工しているが、これらの順序は、逆にすることも可能である。
図10〜図13は、このように非タブ領域11bを先に封止加工し、次にタブ領域11aを封止加工するようにした第2実施例を示している。
図10は、先に実行される非タブ領域11bの封止加工の説明図であって、図の(A)は一対の非タブ領域用ヒートブロック31が互いに開いている状態を示し、図の(B)は、一対の非タブ領域用ヒートブロック31によって加圧・加熱を行っている状態を示している。つまり、前述した構成の非タブ領域用ヒートブロック31を用いて、非タブ領域11bの封止加工を行う。これにより、図11に斜線を施して示す非タブ領域11bの封止加工が完了する。この非タブ領域11bの封止加工は、前述した実施例と同様に、電極タブ4,5による吸熱がなくラミネートフィルム20同士は比較的容易に熱融着することを考慮して、比較的に低い加工温度、例えば200℃程度の温度でもって、比較的短い時間、例えば1〜2秒程度、加圧・加熱する。加工時の圧力も比較的低く設定され、例えば1MPa程度の圧力が非タブ領域用ヒートブロック31に与えられる。このように電極タブ4,5と重ならない非タブ領域11bのみをタブ領域11aとは別に最適な加工条件で封止加工することにより、ラミネートフィルム20を過度に加熱することなく良好な封止が得られる。
非タブ領域用ヒートブロック31が具備する補助加工面33b,34b,35bは、金属製の電極タブ4,5から側方へ張り出した先付け樹脂15の張り出し部15aの先端縁(つまり2枚のラミネートフィルム20同士の接合部との境界)に重なる部位を加圧・加熱する。
図12は、非タブ領域11bの封止後に実行されるタブ領域11aの封止加工の説明図であって、図の(A)は一対のタブ領域用ヒートブロック21が互いに開いている状態を示し、図の(B)は、一対のタブ領域用ヒートブロック21によって加圧・加熱を行っている状態を示している。つまり、前述した構成のタブ領域用ヒートブロック21を用いて、タブ領域11aの封止加工を行う。これにより、図13に斜線を施して示すタブ領域11aの封止加工が完了する。このタブ領域11aの封止加工は、前述した実施例と同様に、電極タブ4,5の熱容量が大きいこと、ならびに、金属製の電極タブ4,5を介して内部の発電要素3の集電体等に熱が伝わること、を考慮して、比較的に高い加工温度、例えば230℃程度の温度でもって、比較的長い時間、例えば6秒程度、加圧・加熱する。加工時の圧力も比較的高く設定され、例えば7MPa程度の圧力がタブ領域用ヒートブロック21に与えられる。このように電極タブ4,5と重なるタブ領域11aのみを最適な加工条件で封止加工することにより、電極タブ4,5とラミネートフィルム20との確実な封止が得られる。
タブ領域用ヒートブロック21が具備する補助加工面23b,24bは、金属製の電極タブ4,5から側方へ張り出した先付け樹脂15の張り出し部15aの先端縁に重なる部位を加圧・加熱する。前述した実施例と同様に、この補助加工面23b,24bによって加圧・加熱される領域は、非タブ領域用ヒートブロック31の補助加工面33b,34b,35bによって加圧・加熱される領域と部分的にオーバラップしており、これによって、タブ領域11aと非タブ領域11bとが確実に連続したシール線11が構成される。
このように非タブ領域11bの封止加工を先に行う第2実施例においては、相対的に加熱温度の低い非タブ領域11bの封止加工が先に行われるので、次工程で加熱すべきタブ領域11aの熱融着層を不必要に加熱してしまうことがない、という利点がある。
なお、図10,図11に示す非タブ領域11bの封止加工は、図3の工程(c)のシール線12の封止加工と実質的に同時に行うことが可能である。
次に、図14および図15は、非タブ領域11bの封止加工を注液時に底辺となる第3の辺9に沿ったシール線13の封止加工と同時に行うようにした第3実施例を示している。この実施例では、非タブ領域11bの封止加工の際に、図15に示すような構成を有する一対のL型ヒートブロック41が用いられる。このL型ヒートブロック41は、第1の辺7に沿った直線状の第1ヒートブロック部41Aと第3の辺9に沿った直線状の第2ヒートブロック部41Bとが90°の角度で連続した形に一体に形成されている。第1ヒートブロック部41Aは、前述した非タブ領域用ヒートブロック31と基本的に同様の構成を有し、非タブ領域11bに対応する3つの加工部33,34,35を有している。また、第2ヒートブロック部41Bは、直線状に連続した加工部42を備えている。
このようなL型ヒートブロック41によって、図14に斜線を施して示すように、シール線11の中の非タブ領域11bとシール線13とが同時に封止される。
このように非タブ領域11bの封止加工を他の辺におけるシール線13もしくはシール線12の封止加工と同時に行うことにより、サイクルタイムの短縮が可能である。換言すれば、タブ領域11aの封止加工と非タブ領域11bの封止加工とを個別に行うことに伴うサイクルタイムの増加を最小限に抑制することができる。
なお、タブ領域11aのみを個別に封止加工するのに必要な加工時間は、一般に、従前のようにタブ領域11aと非タブ領域11bとを同じヒートブロックで同時に封止加工するのに必要な加工時間よりも短くなる。従って、封止加工全体として、従前よりもサイクルタイムを短縮することも可能である。
上記の各実施例では、第1の辺7のシール線11について、正極タブ4に対するタブ領域11aの封止加工と負極タブ5に対するタブ領域11aの封止加工とを同時に行っているが、さらにこれら2つの封止加工を、それぞれ別個のヒートブロックを用いて別工程として行うようにしてもよい。前述したように、正極タブ4と負極タブ5とは厚さおよび材質が異なるが、各々別工程で行えば、個々に適した加工条件で封止を行うことができる。

Claims (8)

  1. 複数の正極および負極をセパレータを介して積層してなる発電要素が、熱融着層を備えたラミネートフィルムからなる外装体の中に電解液とともに収容され、上記発電要素の電極タブが上記ラミネートフィルムの接合面から導出されてなるフィルム外装電池の製造方法であって、
    注液前に、ラミネートフィルムを熱融着して袋状の外装体を構成する封止工程において、
    少なくとも1つの電極タブが配置された上記外装体の一辺において、上記電極タブを横切って連続的に設定されるシール線の中で、ラミネートフィルムと電極タブとが重なったタブ領域を、タブ領域用ヒートブロックによって加熱封止するタブ領域封止加工と、
    上記のシール線の中で、電極タブと重ならずにラミネートフィルム同士が接合される非タブ領域を、上記タブ領域に接触しない非タブ領域用ヒートブロックによって加熱封止する非タブ領域封止加工と、
    を個別に行う、フィルム外装電池の製造方法。
  2. 上記タブ領域封止加工を行った後に、上記非タブ領域封止加工を行う、請求項1に記載のフィルム外装電池の製造方法。
  3. 上記非タブ領域封止加工を行った後に、上記タブ領域封止加工を行う、請求項1に記載のフィルム外装電池の製造方法。
  4. 上記非タブ領域封止加工に比較して、上記タブ領域封止加工を相対的に高い温度で行う、請求項1〜3のいずれかに記載のフィルム外装電池の製造方法。
  5. 上記非タブ領域封止加工に比較して、上記タブ領域封止加工を相対的に高い加圧力でもって行う、請求項1〜4のいずれかに記載のフィルム外装電池の製造方法。
  6. 上記非タブ領域封止加工を、電極タブが配置されていない他の辺の封止加工と同時に行う、請求項1〜5のいずれかに記載のフィルム外装電池の製造方法。
  7. 上記電極タブは、上記シール線が横切る部位に、予め合成樹脂層を備えており、
    上記非タブ領域封止加工の加工領域と上記タブ領域封止加工の加工領域とが、上記電極タブから側方へ張り出した上記合成樹脂層の張り出し部の上で、互いにオーバラップしている、請求項1〜6のいずれかに記載のフィルム外装電池の製造方法。
  8. 上記タブ領域用ヒートブロックには、上記張り出し部に対応した補助加工面が上記電極タブに対応した主加工面から微小量突出して設けられており、
    上記非タブ領域用ヒートブロックには、上記張り出し部に対応した補助加工面が上記ラミネートフィルムに対応した主加工面から微小量後退して設けられている、請求項7に記載のフィルム外装電池の製造方法。
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