JP6672585B2 - 表示体 - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1実施形態に係る導波モード共鳴を利用した画素、又は副画素の断面概略図を示したものである。
図2は本発明の第2実施形態に係る導波モード共鳴を利用した画素、又は副画素の断面概略図を示したものである。
13 合成石英基板
21 導波層
31、32、33 格子層
41、42 吸収層
43 炭素膜
51、52、53、54、55、56 画素領域
57 回折格子構造形成領域
61、62、63、64、65 低反射画素領域
71 低屈折率層
81、82、83 導波モード共鳴格子層
91 裏面黒色領域
Claims (8)
- 基材の表面側に、格子層と導波層とが順に積層され、
前記基材の表面と前記導波層との間に、吸収層が形成され、
前記格子層は、回折格子構造により回折された光と、前記導波層を伝搬する光とが共鳴し、共鳴波長領域の光が反射される画素領域を有し、更に前記画素領域を除く領域に表面反射を低減する凹凸構造の集合体からなる低反射画素領域を有し、
前記吸収層は、少なくとも前記共鳴波長領域の光を吸収し、
前記導波層と隣接した下層に低屈折率層が形成され、
前記導波層は、前記低屈折率層よりも光の波長に対する屈折率が高い材料で構成され、
前記低屈折率層は、その膜厚が30nm以下である、または5μm以上であり、
前記吸収層の表面には、前記低屈折率層が形成されていることを特徴とする表示体。 - 前記導波層は、前記導波層と隣接した下層よりも光の波長に対する屈折率が高い材料で構成され、
前記格子層は、前記導波層と比べて光の波長に対する屈折率が同じ材料、または低い材料で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示体。 - 前記低反射画素領域の凹凸構造の構造周期は、前記画素領域の前記回折格子構造の構造周期よりも小さいことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の表示体。
- 前記低反射画素領域の凹凸構造の構造周期は、少なくとも2種類以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の表示体。
- 前記低反射画素領域の凹凸構造には、上面及び底面のない突起構造が含まれていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の表示体。
- 少なくとも前記格子層は、樹脂材料で構成されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の表示体。
- 前記導波層と前記格子層とは、同一の材料で構成されていることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の表示体。
- 前記導波層と前記格子層とは、同一の材料で一体的に構成されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の表示体。
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