JP6596820B2 - 表示体 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る導波モード共鳴を利用した画素、又は副画素の断面概略図を示したものである。
図1(a)に示した表示体は、基材11の表面に導波層21が形成され、導波層21の表面に格子層31が形成され、格子層31の画素領域51に回折格子構造が形成され、更に基材11の裏面に可視光波長領域の光を吸収する材料で構成された吸収層41が形成されている。尚、第1実施形態においては、基材11と吸収層41は完全に接している必要は無く、基板裏面側に吸収層41が存在すれば良い。
一方、紫外線リソグラフィでは解像しない凹凸構造であっても、例えば熱、もしくは紫外線ナノインプリントリソグラフィを用いれば、上記の格子層に必要とされる光学特性を満足すれば、熱可塑性樹脂、又は熱硬化性樹脂、もしくは紫外線硬化性樹脂を格子層に適用することも可能である。
但し、ナノインプリントリソグラフィを適用する場合、該工程特有の残膜が生じるため、これをプラズマ暴露により除去する必要がある。この場合、導波層を形成する材料は、残膜除去条件に対して耐性を有している必要がある。
図2は、本発明の第2実施形態に係る導波モード共鳴を利用した画素、又は副画素の断面概略図を示したものである。
図2(a)に示した表示体では、基材12の表面に吸収層42が形成される。吸収層42は、例えば炭素や酸化鉄等の可視光波長領域の光を吸収する材料を適用することが可能だが、これらの材料の可視光波長領域に対する屈折率は2以上と高い。そこで、導波モード共鳴現象を発生させるため、吸収層42の表面には低屈折率層81を形成する。
13 合成石英基板
21 導波層
31 格子層
41、42 吸収層
43 炭素膜
51、52 画素領域
53 回折格子構造形成領域
61、62 緩衝層
71、72、73 多層膜緩衝層
81 低屈折率層
91 導波モード共鳴格子層
92 光硬化性樹脂MUR層
101 裏面黒色領域
Claims (4)
- 基材の表面側に、格子層と導波層と緩衝層とが順に積層され、
前記基材の裏面側、もしくは前記基材の表面と前記緩衝層との間に、吸収層が形成され、
前記格子層は、回折格子構造により回折された光と、前記導波層を伝搬する光とが共鳴し、共鳴波長領域の光が反射される画素領域を有し、
前記緩衝層は、少なくとも前記共鳴波長領域の光を透過し、
前記吸収層は、少なくとも前記共鳴波長領域の光を吸収し、
前記緩衝層は、4層の積層構造体であり、
前記積層構造体は、前記基材の表面側に位置し、酸化アルミ膜で形成された第1の緩衝層と、前記第1の緩衝層とは屈折率が異なる材料である二酸化珪素膜で形成された第2の緩衝層と、前記第1の緩衝層と同じ材料で形成された第3の緩衝層と、前記第2の緩衝層と同じ材料で形成された第4の緩衝層とをこの順に備えていることを特徴とする表示体。 - 前記導波層は、前記緩衝層よりも光の波長に対する屈折率が高い材料で構成され、
前記格子層は、前記導波層と比べて光の波長に対する屈折率が同じ材料、または低い材料で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示体。 - 前記緩衝層の最表層は、前記導波層よりも光の波長に対する屈折率が低い材料で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の表示体。
- 前記吸収層は、前記基材の表面と前記導波層との間に形成され、
前記導波層と前記格子層とは、同じ材料で一体的に構成され、
前記吸収層の表面には、前記緩衝層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の表示体。
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