JP6662289B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態の半導体装置の構成を示す断面模式図である。本実施形態の半導体装置100は、上部電極101と、下部電極を兼ねる第1の下層配線103と、前記上部電極101と前記第1の下層配線103との間に介在する抵抗変化膜102と、第2の下層配線104と、コンタクトプラグ105とを有する。前記コンタクトプラグ105は、前記上部電極101と前記第2の下層配線104とに接続する。
(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態の半導体装置の構成を示す断面模式図である。本実施形態の半導体装置200は、シリコン基板などの半導体基板上の配線層内に形成された抵抗変化素子201を有する。半導体基板にはトランジスタなどの素子が形成されていてもよい。半導体基板上には第1の層間絶縁膜210を有する。第1の層間絶縁膜210内には第1の下部配線206と第2の下部配線207とが形成されている。抵抗変化素子201は、下部電極を兼ねる第1の下層配線206と、抵抗変化膜202と、第1の上部電極203aと第2の上部電極203bとを有する上部電極203とを有する。
(第3の実施形態)
図4は、本発明の第3の実施形態の半導体装置の構成を示す断面模式図である。本実施形態の半導体装置400は、第1の絶縁性バリア膜411に設けられる開口部が、下部電極を兼ねる第1の下層配線406と第1の層間絶縁膜410に跨って開口していることを特徴とする。これ以外の構造は、第2の実施形態の半導体装置200と同様であるため、詳細な説明を省略する。
(第4の実施形態)
図6は、本発明の第4の実施形態の半導体装置の構成を示す断面模式図である。本実施形態の半導体装置600は、第1の絶縁性バリア膜611に設けられる開口部が、下部電極を兼ねる第1の下層配線606と第1の層間絶縁膜610と第2の下層配線607とに跨って開口していることを特徴とする。これ以外の構造は、第2の実施形態の半導体装置200と同様であるため、詳細な説明を省略する。
(付記1)
上部電極と、下部電極を兼ねる第1の下層配線と、前記上部電極と前記第1の下層配線との間に介在する抵抗変化膜と、第2の下層配線と、コンタクトプラグと、を有し、前記コンタクトプラグは、前記上部電極と前記第2の下層配線とに接続する、半導体装置。
(付記2)
前記第1の下層配線と前記第2の下層配線との間に層間絶縁膜を有し、
前記第1の下層配線と前記第2の下層配線と前記層間絶縁膜との上に第1の絶縁性バリア膜を有し、
前記第1の絶縁性バリア膜は、少なくとも前記第1の下層配線の上に開口部を有し、
前記抵抗変化膜は、前記開口部にて少なくとも前記第1の下層配線と接する、付記1記載の半導体装置。
(付記3)
前記上部電極の側面と前記抵抗変化膜の側面の双方の少なくとも一部に、前記コンタクトプラグの側面が接する、付記1または2記載の半導体装置。
(付記4)
前記上部電極の側面と前記コンタクトプラグとの間の少なくとも一部に、第2の絶縁性バリア膜が介在する、付記1または2記載の半導体装置。
(付記5)
前記第2の絶縁性バリア膜はSiN膜を含む、付記4記載の半導体装置。
(付記6)
前記上部電極はルテニウムを含む、付記1から5の内の1項記載の半導体装置。
(付記7)
前記上部電極は、前記抵抗変化膜に接する第1の上部電極と、前記第1の上部電極に前記抵抗変化膜と反対面で接する第2の上部電極とを有し、前記第1の上部電極はルテニウムを含み、前記第2の上部電極はタンタル、チタン、もしくはそれらの窒素化合物を含む、付記1から6の内の1項記載の半導体装置。
(付記8)
前記第1の上部電極の側面と前記コンタクトプラグとの間に前記第2の絶縁性バリア膜が介在する、付記7記載の半導体装置。
(付記9)
前記コンタクトプラグは上層配線と一体化したスリット型のコンタクトプラグである、付記1から8の内の1項記載の半導体装置。
(付記10)
前記コンタクトプラグは、外周部をバリアメタルで覆われた銅を有する、付記1から9の内の1項記載の半導体装置。
(付記11)
前記抵抗変化膜は固体電解質を有する、付記1から10の内の1項記載の半導体装置。
(付記12)
半導体基板上に形成した第1の層間絶縁膜に、第1の下層配線と第2の下層配線を形成し、
前記第1の下層配線と前記第2の下層配線と前記第1の層間絶縁膜との上に、少なくとも前記第1の下層配線が露出する開口部を有する第1の絶縁性バリア膜を形成し、
前記開口部を介して、少なくとも前記第1の下層配線上に、抵抗変化膜、上部電極を順次形成し、
少なくとも前記上部電極の側面に第2の絶縁性バリア膜を形成し、
前記第2の絶縁性バリア膜上に第2の層間絶縁膜を形成し、
前記第2の層間絶縁膜および前記第2の絶縁性バリア膜にビアホールを形成して、前記ビアホール底部に前記上部電極と前記第2の下層配線とを露出し、
前記ビアホールに前記上部電極と前記第2の下層配線とに接続するコンタクトプラグを形成する、半導体装置の製造方法。
(付記13)
前記上部電極はルテニウムを含む、付記12記載の半導体装置の製造方法。
(付記14)
前記第2の絶縁性バリア膜はSiN膜を含む、付記12または13記載の半導体装置の製造方法。
(付記15)
前記第2の絶縁性バリア膜は、サイドカバレッジ70%以上で堆積する、付記12から14の内の1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記16)
前記コンタクトプラグは上層配線と一体化したスリット型のコンタクトプラグである、付記12から15の内の1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記17)
前記コンタクトプラグは、外周部をバリアメタルで覆われた銅を有する、付記12から16の内の1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記18)
前記抵抗変化膜は固体電解質を有する、付記12から17の内の1項記載の半導体装置の製造方法。
201、401、601 抵抗変化素子
102、202、402、602 抵抗変化膜
101、203、403、603 上部電極
203a、403a、603a 第1の上部電極
203b、403b、603b 第2の上部電極
204、404、604 第2の絶縁性バリア膜
103、206、406、606 第1の下層配線
104、207、407、607 第2の下層配線
208、408、608 上層配線
206a、406a、606a、207a、407a、607a、208a、408a、608a 銅層
206b、406b、606b、207b、407b、607b、208b、408b、608b バリアメタル
105、209、409、609 コンタクトプラグ
205、405、605 第2の層間絶縁膜
210、410、610 第1の層間絶縁膜
211、411、611 第1の絶縁性バリア膜
212、412、612 第3の絶縁性バリア膜
301、501、701 第1の下層配線
302、502、702 第2の下層配線
303、503、703 コンタクトプラグ
304、504、704 第2の絶縁性バリア膜
305、505、705 開口部
2、4、15、16 層間絶縁膜
3、7、19 絶縁性バリア膜
5a、5b、18 金属
6a、6b、17 バリアメタル
8、12、13 ハードマスク
9 イオン伝導層
10 第1の上部電極
11 第2の上部電極
14 第2の絶縁性バリア膜
20a、20b 下層配線
21 コンタクトプラグ
22 上層配線
Claims (9)
- 上部電極と、下部電極を兼ねる第1の下層配線と、前記上部電極と前記第1の下層配線との間に介在する抵抗変化膜と、第2の下層配線と、コンタク卜プラグと、を有し、
前記コンタク卜プラグは、前記上部電極と前記第2の下層配線とに接続し、
前記第1の下層配線と前記第2の下層配線との間に層間絶縁膜を有し前記第1の下層配線と前記第2の下層配線と前記層間絶縁膜との上に第1の絶縁性バリア膜を有し、
前記第1の絶縁性バリア膜は、前記第1の下層配線のエッジ部と前記層間絶縁膜に跨って開口部を有し、
前記抵抗変化膜は、前記開口部にて前記エッジ部を含む第1の下層配線と前記層間絶縁膜に接する、半導体装置。
- 前記上部電極の側面と前記抵抗変化膜の側面の双方の少なくとも一部に、前記コンタクトプラグの側面が接する、請求項1記載の半導体装置。
- 前記上部電極の側面と前記コンタク卜プラグとの間の少なくとも一部に、第2の絶縁性バリア膜が介在する、請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記第2の絶縁性バリア膜はSiN膜を含む、請求項3記載の半導体装置。
- 前記上部電極はルテニウムを含む、請求項1から4の内の1項記載の半導体装置。
- 前記上部電極は、前記抵抗変化膜に接する第1の上部電極と、前記第1の上部電極に前記抵抗変化膜と反対面で接する第2の上部電極とを有し、前記第1の上部電極はルテニウムを含み、前記第2の上部電極はタンタル、チタン、もしくはそれらの窒素化合物を含む、請求項1から5の内の1項記載の半導体装置。
- 前記コンタクトブラグは上層配線と一体化したスリット型のコンタク卜プラグである、請求項1から6の内の1項記載の半導体装置。
- 前記抵抗変化膜は固体電解質を有する、請求項1から7の内の1項記載の半導体装置。
- 半導体基板上に形成した第1の層間絶縁膜に、第1の下層配線と第2の下層配線を形成し、
前記第1の下層配線と前記第2の下層配線と前記第1の層間絶縁膜との上に、前記第1の下層配線のエッジ部と前記第1の層間絶縁膜が露出する開口部を有する第1の絶縁性バリア膜を形成し、
前記開口部を介して、前記エッジ部を含む第1の下層配線上及び前記第1の層間絶縁膜上に、抵抗変化膜、上部電極を順次形成し、
少なくとも前記上部電極の側面に第2の絶縁性バリア膜を形成し、
前記第2の絶縁性バリア膜上に第2の層間絶縁膜を形成し、
前記第2の層間絶縁膜および前記第2の絶縁性バリア膜にビアホールを形成して、前記ビアホール底部に前記上部電極と前記第2の下層配線とを露出し、
前記ビアホールに前記上部電極と前記第2の下層配線とに接続するコンタク卜プラグを形成する、半導体装置の製造方法。
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