JP6661315B2 - 記録媒体 - Google Patents
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Description
本発明の記録媒体は、基材と、第1のインク受容層と、最表層である第2のインク受容層とをこの順に有する。また、本発明の効果が得られる範囲であれば、基材と第1のインク受容層との間、又は、第1のインク受容層と第2のインク受容層との間に別の層を設けてもよい。本発明においては、インクジェット記録方法に用いる記録媒体、即ち、インクジェット用記録媒体であることが好ましい。以下、本発明の記録媒体を構成する各成分について、それぞれ説明する。
基材としては、基紙のみから構成されるものや、基紙と樹脂層を有するもの、即ち、基紙が樹脂で被覆されているものが挙げられる。本発明においては、基紙と樹脂層を有する基材、即ち、樹脂被覆基材を用いることが好ましい。その場合、樹脂層は、基紙の片面のみに設けられていてもよいが、両面に設けられていることが好ましい。
本発明において、インク受容層は、上記基材の片面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。インク受容層の層厚は、18.0μm以上55.0μm以下であることが好ましい。本発明においては、インク受容層は2層でもよいし、3層以上の複層でもよい。本発明において、インク受容層の乾燥塗工量は、18.0g/m2以上55.0g/m2以下であることが好ましく、18.0g/m2以上50.0g/m2以下であることがより好ましい。ここでいうインク受容層の乾燥塗工量とは、インク受容層が複層の場合は全ての層の合計の乾燥塗工量を意味する。以下、インク受容層に含有することができる材料について、それぞれ説明する。
本発明において、第1のインク受容層は、平均粒子径1.0μm以上の非晶質シリカを含有する。
本発明において、非晶質シリカの平均粒子径は1.0μm以上15.0μm以下であることが好ましく、1.0μm以上8.0μm以下であることがより好ましい。尚、本発明における平均粒子径とは、記録媒体の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した際に、粒子として認識される最大単位の粒子の直径の平均値を意味する。より具体的には、記録媒体の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、任意の100個の粒子の直径を測定し、その数平均を算出することで得られる。非晶質シリカにおいては、一次粒子が会合して形成された二次粒子が観察されるため、上記「非晶質シリカの平均粒子径」とは、「非晶質シリカの平均二次粒子径」を意味する。尚、非晶質シリカの一次粒子径は1nm以上80nm以下であることが好ましく、2nm以上70nm以下であることがより好ましい。1nm未満であるとインク吸収性が悪化する場合があり、80nmより大きいと発色性が低下する場合がある。
本発明において、第1のインク受容層は更にバインダーを含有することが好ましい。本発明において、バインダーとは、無機粒子を結着することができる材料を意味する。
本発明において、第1のインク受容層は、これまで述べてきたもの以外のその他の添加剤を含有してもよい。具体的には、架橋剤、pH調整剤、増粘剤、流動性改良剤、消泡剤、抑泡剤、界面活性剤、離型剤、浸透剤、着色顔料、着色染料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、耐水化剤、染料定着剤、硬化剤、耐候材料などが挙げられる。
本発明において、最表層である第2のインク受容層は、コロイダルシリカを含有し、第2のインク受容層の表面のJIS B 0601:2001で規定される粗さ曲線要素の二乗平均平方根傾斜R△qが0.3以上である。また、R△qは0.35以上であることがより好ましい。
本発明において、記録媒体を製造する方法は、特に限定されないが、インク受容層用の塗工液を調製する工程、及び、インク受容層用塗工液を基材に塗工する工程を有する記録媒体の製造方法が好ましい。以下、記録媒体の製造方法について説明する。
本発明において、基紙の作製方法としては、一般的に用いられている抄紙方法を適用することができる。抄紙装置としては、例えば長網抄紙機、丸網抄紙機、円胴、ツインワイヤーなどが挙げられる。基紙の表面平滑性を高めるために、抄紙工程中又は抄紙工程後に、熱及び圧力を加えて表面処理してもよい。具体的な表面処理方法としては、マシンカレンダーやスーパーカレンダーといったカレンダー処理が挙げられる。
また、樹脂被覆基材の表面を特定の凹凸を有するロールに押し付けることで、樹脂被覆紙の表面の形状をコントロールすることができる。
本発明の記録媒体において、基材にインク受容層を形成する方法としては、例えば以下の方法を挙げることができる。まず、インク受容層用塗工液を調製する。そして、基材に上記塗工液を塗工及び乾燥することで、本発明の記録媒体を得ることができる。塗工液の塗工方法としては、カーテンコーター、エクストルージョン方式を用いたコーター、スライドホッパー方式を用いたコーターなどを用いることができる。尚、塗工時に、塗工液を加温してもよい。また、塗工後の乾燥方法としては、直線トンネル乾燥機、アーチドライヤー、エアループドライヤー、サインカーブエアフロートドライヤーなどの熱風乾燥機を使用する方法や、赤外線、加熱ドライヤー、マイクロ波などを利用した乾燥機を使用する方法などが挙げられる。
<基材の作製>
カナダ標準濾水度が450mLCSFのLBKP80部、カナダ標準濾水度が480mLCSFのNBKP20部、カチオン化澱粉0.60部、重質炭酸カルシウム10部、軽質炭酸カルシウム15部、アルキルケテンダイマー0.10部、カチオン性ポリアクリルアミド0.030部を混合し、固形分の含有量が3.0質量%となるように水を加えて、紙料を得た。次いで、紙料を長網抄紙機で抄造し、3段のウエットプレスを行った後、多筒式ドライヤーで乾燥した。その後、サイズプレス装置で乾燥後の固形分が1.0g/m2となるように酸化澱粉水溶液を含浸、乾燥させ、更に、マシンカレンダー仕上げをして、坪量が110g/m2、ステキヒトサイズ度100秒、透気度50秒、ベック平滑度30秒、ガーレー剛度11.0mN、層厚が120μmの基紙を作製した。次いで、低密度ポリエチレン70部と、高密度ポリエチレン20部と、酸化チタン10部とからなる樹脂組成物を、乾燥塗工量が25g/m2となる様に、基紙の片面に塗工した。尚、この面を基材の表面とする。この表面を微細凹凸を有するロールに押し付けることで、樹脂被覆紙の表面のR△qが0.4となるように加工した。更に、低密度ポリエチレン50部と、高密度ポリエチレン50部とからなる樹脂組成物を、基紙のもう一方の面に塗工することで、基材を得た。
イオン交換水中に、非晶質シリカ(湿式シリカ)を固形分の含有量が25質量%となるように添加した。次に、非晶質シリカの固形分100部に対して、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドポリマー5.0部を加えて撹拌し、更に、非晶質シリカの固形分の含有量が、21質量%となるようにイオン交換水を加え、非晶質シリカ分散液を得た。
:ポリビニルアルコール)が表1の比率となるように混合し、第1のインク受容層用塗工液を得た。尚、表中のバインダーの種類のうち、「R−1130」は、シラノール変性ポリビニルアルコ−ル水溶液(R−1130(クラレ製)の固形分の含有量を8質量%に調製したもの)であり、「PVA235」はポリビニルアルコ−ル水溶液(PVA235(クラレ製)の固形分の含有量を8質量%に調製したもの)である。また、非晶質シリカの平均粒子径を上述の方法で測定し、表1に記載した。
平均粒子径が45nmであるコロイダルシリカ分散液(スノーテックスAK−L、日産化学製)と、シラノール変性ポリビニルアルコ−ル水溶液(R−1130(クラレ製)の固形分の含有量が8質量%)と、ホウ酸水溶液(固形分の含有量が3質量%)とを、固形分の比率(コロイダルシリカ:ポリビニルアルコール:ホウ酸)が100:11:1.2となるように混合し、第2のインク受容層用塗工液2−1を得た。
上記で得た第1のインク受容層用塗工液及び第2のインク受容層塗工液(それぞれ塗工液の温度:40℃)とを基材上に、乾燥塗工量(g/m2)が表2に記載の値となるように、スライドダイを用いて同時重複塗工し、150℃の熱風で乾燥することで、記録媒体を作製した。
<記録媒体の表面のマット感>
得られた記録媒体に関して、光沢計VG2000(日本電色工業製)を用い、JIS Z 8741に規定される20度、60度、75度の鏡面光沢度を測定した。測定は記録媒体表面の任意の5点を選択して行い、その平均値を算出した。得られた鏡面光沢度から記録媒体の表面のマット感を評価した。評価基準は以下の通りである。評価結果を表2に示した。
AA:20度、60度、75度の鏡面光沢度の最大値が2.6%未満であった
A:20度、60度、75度の鏡面光沢度の最大値が2.6%以上3.5%未満であった
B:20度、60度、75度の鏡面光沢度の最大値が3.5%以上6.0%未満であった
C:20度、60度、75度の鏡面光沢度の最大値が6.0%以上であった。
得られた記録媒体上に黒紙を置き、その上から15g/cm2の荷重をかけ、黒紙を一定速度で10cm引っ張ったときの黒紙への粉の付着量を黒紙の黒色光学濃度の残存率((粉付着前黒色光学濃度−粉付着後黒色光学濃度)/粉付着前黒色光学濃度)評価を行った。光学濃度は光学反射濃度計(商品名:530分光濃度計、X−Rite製)を用いてそれぞれ測定した。得られた光学濃度の残存率から、記録媒体のインク受容層の結着性の評価を行った。評価基準が以下の通りである。評価結果を表2に示した。
A:光学濃度の残存率が90%より大きかった
B:光学濃度の残存率が75%より大きく90%以下であった
C:光学濃度の残存率が75%以下であった。
Claims (15)
- 基材と、第1のインク受容層と、最表層である第2のインク受容層とをこの順に有する記録媒体であって、
前記基材が、樹脂被覆基材であり、
前記基材の表面のJIS B 0601:2001で規定される粗さ曲線要素の二乗平均平方根傾斜R△qが0.1以上1.0以下であり、
前記第1のインク受容層が、平均二次粒子径1.0μm以上の非晶質シリカを含有し、前記第2のインク受容層が、コロイダルシリカを含有し、
前記第2のインク受容層の表面のJIS B 0601:2001で規定される粗さ曲線要素の二乗平均平方根傾斜R△qが0.3以上であり、
前記記録媒体の表面の20°光沢度、60°光沢度、及び75°光沢度が何れも6.0%未満であることを特徴とする記録媒体。 - 前記非晶質シリカが、湿式法シリカである請求項1に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層の塗工量が、0.2g/m2以上3.0g/m2以下である請求項1又は2に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層の塗工量が、0.2g/m 2 以上2.0g/m 2 以下である請求項1乃至3の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層の層厚が、0.2μm以上3.0μm以下である請求項1乃至4の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層の層厚が、0.2μm以上2.0μm以下である請求項1乃至5の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記非晶質シリカの平均二次粒子径が、1.0μm以上8.0μm以下である請求項1乃至6の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記非晶質シリカの平均一次粒子径が、1nm以上80nm以下である請求項1乃至7の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記コロイダルシリカの平均一次粒子径が、30nm以上100nm以下である請求項1乃至8の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記コロイダルシリカが、球状コロイダルシリカである請求項1乃至9の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層における、前記コロイダルシリカの含有量は、前記第2のインク受容層中の無機粒子の含有量に対して、80.0質量%以上である請求項1乃至10の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記基材の表面のRΔqが、0.3以上1.0以下である請求項1乃至11の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第2のインク受容層の表面のR△qが、0.30以上0.40以下である請求項1乃至12の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第1のインク受容層と前記第2のインク受容層とを含むインク受容層の合計の乾燥塗工量が、18.0g/m 2 以上55.0g/m 2 以下である請求項1乃至13の何れか1項に記載の記録媒体。
- 前記第1のインク受容層と前記第2のインク受容層とを含むインク受容層の全層厚が、18.0μm以上55.0μm以下である請求項1乃至14の何れか1項に記載の記録媒体。
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