JP2018187841A

JP2018187841A - インクジェット用記録媒体

Info

Publication number: JP2018187841A
Application number: JP2017092088A
Authority: JP
Inventors: 喬杉浦; Takashi Sugiura; 浅川　浩; Hiroshi Asakawa; 浩浅川
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2017-05-08
Filing date: 2017-05-08
Publication date: 2018-11-29

Abstract

【課題】基材の表面にインク受容層を有するマット調のインクジェット用記録媒体であって、記録媒体の傷耐性および染料インク吸収性に優れたインクジェット用記録媒体を提供すること。
【解決手段】基材上に少なくとも二層のインク受容層を有し、基材から最も距離の離れた位置に設けられている最表層のインク受容層が、平均二次粒子径が７０〜２００ｎｍであるコロイダルシリカと、平均二次粒子径が１．０〜１０．０μｍである湿式シリカを無機粒子として含有し、その質量配合比がコロイダルシリカ：湿式シリカ＝１００：１０〜１００：３０であり、最表層のインク受容層の算術平均粗さＲａが１．０μｍ以上であることを特徴とするインクジェット用記録媒体。
【選択図】なし

Description

本発明はインクジェット用記録媒体に関する。

インクジェット記録方式に用いる塗工紙は、インク受容層に光沢を有するグロス紙と、光沢を有さないマット紙に大別される。

一般的にマット紙はその定義が厳密に定まっていない。現在、７５度鏡面光沢度が１５％以下であることをマット紙と判断することがあるが、この場合、インク受容層の光沢性が依然として視認されるのが現状である。このことを加味すると、６０度鏡面光沢度が５％以下であることが、インク受容層の光沢性が視認されないレベルであり、マット調の面性により近く、厳密なマット紙と位置付けることができる。

特に、このようなマット調のインクジェット用記録媒体に要求される特性としては、記録媒体への傷に対する耐性を有すること、インクの滲みや溢れがなく優れた印字適性を有すること等が挙げられる。これらの特性を向上する為には、インク受容層の改善が必要であり、様々な技術が報告されている。

特許文献１には、記録媒体の最表面層が１．５〜２．５μｍの湿式シリカを含有し、その下層に平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機粒子を含有した記録媒体の顔料インクの耐傷性が向上することが記載されている。

また、特許文献２には、最表層のインク受容層中の顔料として、合成非晶質シリカとコロイダルシリカを、合成非晶質シリカ：コロイダルシリカ＝９８：２〜６０：４０の重量比で含有し、７５度鏡面光沢度が１５％以下である記録媒体が、マット調を有し、インク発色性が向上する事が記載されている。

特開２００７−２２３３０６号公報特開２００５−２１２２６３号公報

本発明者らの検討によると、特許文献１に記載の記録媒体では、顔料インクの印字部の剥離については記載があるが、用紙自体の傷耐性、及び、インク吸収性に関しては依然として課題であった。

また、特許文献２に記載の記録媒体では、優れた傷耐性とインク吸収性を兼ね備えたマット調のインクジェット用記録媒体はいまだ得られていない。

したがって、本発明の目的は、基材の表面にインク受容層を有するマット調のインクジェット用記録媒体であって、記録媒体の傷耐性および染料インク吸収性に優れたインクジェット用記録媒体を提供することにある。

上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明にかかるインクジェット用記録媒体は、基材上に少なくとも二層のインク受容層を有し、基材から最も距離の離れた位置に設けられている最表層のインク受容層が、平均二次粒子径が７０〜２００ｎｍであるコロイダルシリカと、平均二次粒子径が１．０〜１０．０μｍである湿式シリカを無機粒子として含有し、その質量配合比がコロイダルシリカ：湿式シリカ＝１００：１０〜１００：３０であり、最表層のインク受容層の算術平均粗さＲａが１．０μｍ以上であることを特徴とする。

本発明によれば、マット調の面性を有し、優れた傷耐性および染料インクの吸収性を備えたインクジェット用記録媒体を提供することができる。

以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。本発明者らが種々の検討を行ったところ、コロイダルシリカと湿式シリカで構成されたインク受容層は優れた傷耐性を有することが分かった。

傷が発生する要因としては、物理的応力によるインク受容層表面の材料の擦過、または、インク受容層中の空隙の潰れが挙げられ、傷耐性を付与する為には上記二つを同時に解決する必要がある。一般的なマット調の記録媒体のインク受容層は、湿式シリカを主体として構成されている。このインク受容層中には多くの空隙が存在すると共に、擦過に対する耐性が弱いことから、傷耐性に改善の余地があった。

上記の課題を解決する為に、湿式シリカとコロイダルシリカを適切な比率で配合して構成されるインク受容層を検討した。コロイダルシリカは、材料として擦過への耐性が強く、また、湿式シリカと配合することで、湿式シリカ間の空隙に入り込み、空隙を減少させることができる。以上から、湿式シリカとコロイダルシリカを適切に配合することで、マット調の面性を有したまま傷耐性を向上させることができる。

［記録媒体］本発明の記録媒体は、基材と、少なくとも二層のインク受容層とを有する。本発明においては、インクジェット記録方法に用いるインクジェット用記録媒体であることが好ましい。

以下、本発明の記録媒体を構成する各成分について、それぞれ説明する。

＜基材＞
基材としては、基紙のみから構成されるものや、基紙と樹脂層を有するもの、即ち、基紙が樹脂で被覆されているものが挙げられるが、本発明においては、どちらを用いても良い。

本発明において、基材のＪＩＳＢ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さＲａは、０．１μｍ以上であることが好ましく、更には、０．５μｍ以上であることがより好ましい。

（基紙）
基紙は、木材パルプを主原料とし、必要に応じてポリプロピレンなどの合成パルプや、ナイロンやポリエステルなどの合成繊維を加えて抄紙される。木材パルプとしては広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）、広葉樹晒サルファイトパルプ（ＬＢＳＰ）、針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）、針葉樹晒サルファイトパルプ（ＮＢＳＰ）、広葉樹溶解パルプ（ＬＤＰ）、針葉樹溶解パルプ（ＮＤＰ）、広葉樹未晒クラフトパルプ（ＬＵＫＰ）、針葉樹未晒クラフトパルプ（ＮＵＫＰ）などが挙げられる。これらは、必要に応じて１種又は２種以上を用いることができる。紙基材中には、サイズ剤、白色顔料、紙力増強剤、蛍光増白剤、水分保持剤、分散剤、柔軟化剤などを適宜添加してもよい。

（樹脂層）
本発明において、基紙が樹脂で被覆されている場合は、樹脂層は基紙の表面の一部を被覆するように設けられていればよい。

樹脂層に用いられる樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、セルローストリアセテート、ポリスチレンなどが挙げられる。その中でエチレン、プロピレンを主体とする共重合体などのポリオレフィン類が好ましいが、ポリエチレンが特に好ましい。

本発明において、樹脂層は、不透明度や白色度や色相を調整するために、白色顔料や蛍光増白剤や群青などを含有してもよい。中でも、不透明度を向上することができるため、白色顔料を含有することが好ましい。白色顔料としては、ルチル型又はアナターゼ型の酸化チタンが挙げられる。本発明において、樹脂層中の白色顔料の含有量は、３ｇ／ｍ^２以上３０ｇ／ｍ^２以下であることが好ましい。尚、樹脂層を基紙の両面に設ける場合は、２つの樹脂層中の白色顔料の合計の含有量が、上記範囲を満足することが好ましい。

＜インク受容層＞
本発明において、インク受容層は二層以上である必要がある。また、インク受容層は、上記基材の片面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。

尚、以下の記載から、基材から最も距離の離れた位置に設けられているインク受容層を指す場合、「最表層のインク受容層」と明記する。また、最表層のインク受容層と隣接して設けられるインク受容層を指す場合、「下層のインク受容層」と明記する。記載において特に限定しない場合には、「インク受容層」と明記する。

＜最表層のインク受容層＞
本発明においては、最表層のインク受容層には、コロイダルシリカ、湿式シリカを含むことが必要である。上記に加えて、バインダー、架橋剤も含まれていることが好ましい。コロイダルシリカと湿式シリカの質量配合比は、コロイダルシリカ：湿式シリカ＝１００：１０〜１００：３０（質量比）であることが必要である。湿式シリカが１０部を下回る場合、マット面性を得ることが難しくなり、３０部を超える場合、傷耐性が低下する。最表層のインク受容層を形成する際に塗布するコロイダルシリカと湿式シリカの合計塗布量（ｇ／ｍ^２）は、０．２ｇ／ｍ^２以上３０ｇ／ｍ^２以下であることが好ましく、０．４ｇ／ｍ^２以上５ｇ／ｍ^２以下であることがさらに好ましい。コロイダルシリカと湿式シリカの合計含有量（質量％）は、５０質量％以上９８質量％以下であることが好ましい。

最表層のインク受容層の算術平均粗さは、１．０μｍ以上である必要がある。１．０μｍ未満の場合、マット調の面性を得ることができない場合がある。

最表層のインク受容層の厚みは０．１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましい。

（コロイダルシリカ）
本発明においては、コロイダルシリカの中でも、球状コロイダルシリカが、傷耐性の効果が高いため好ましい。ここでいう「球状」とは走査型電子顕微鏡によって観察したときのコロイダルシリカ粒子（５０個以上１００個以下）の平均長径ａと平均短径ｂの比ｂ／ａが０．８０以上１．００以下の範囲に入ることを意味する。ｂ／ａは０．９０以上１．００以下がより好ましく、０．９５以上１．００以下が特に好ましい。更には、球状のカチオン性コロイダルシリカであることが好ましい。

本発明において、コロイダルシリカの平均一次粒子径は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。ここで、平均一次粒子径は、電子顕微鏡によって観察したときのコロイダルシリカ粒子の一次粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径の数平均粒径である。このとき少なくとも１００点以上で測定を行う。

本発明において、コロイダルシリカの分散状態での平均二次粒子径は、７０〜２００ｎｍである必要がある。７０ｎｍを下回る場合、インク吸収性が低下し、２００ｎｍを超える場合、傷耐性が低下する。尚、分散状態での平均二次粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。

（湿式シリカ）
湿式シリカは湿式法で製造され、湿式法には、沈殿法とゲル化法がある。湿式沈殿法は通常、ケイ酸ソーダと硫酸等を水溶液中で反応させて、ＳｉＯ_２を沈殿させる方法で、反応温度や酸の添加速度等の条件によりシリカの一次粒子径等を調整することができる。また、乾燥や粉砕条件等で二次粒子径等も変化させることができる。湿式ゲル化法は一般的に、ケイ酸ソーダと硫酸の同時添加等で反応させて製造されるものであり、シラノール基の脱水縮合等によるシリカ粒子同士の重合が進んで三次元的なハイドロゲル構造になったものである。湿式ゲル化法で製造したシリカは、比較的小さなハイドロゲル構造であるため、湿式沈殿法と比べて比表面積の大きな二次粒子径を製造することが可能である。

本発明において、湿式シリカの平均一次粒子径は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。また、湿式シリカの分散状態での平均二次粒子径は、１．０〜１０．０μｍである必要がある。１．０μｍを下回る場合、マット調の面性を得ることが難しくなり、１０．０μｍを超える場合、傷耐性が低下する。

＜下層のインク受容層＞
本発明において、下層のインク受容層は無機粒子を含有することが好ましい。また、上記無機粒子に加えて、バインダー、架橋剤を含有することが好ましい。

下層のインク受容層を形成する際に塗布する無機粒子の合計塗布量（ｇ／ｍ^２）は、１０ｇ／ｍ^２以上４５ｇ／ｍ^２以下であることが好ましく、１５ｇ／ｍ^２以上３５ｇ／ｍ^２以下であることがさらに好ましい。無機粒子の合計含有量（質量％）は、５０質量％以上９８質量％以下であることが好ましい。

下層のインク受容層の厚みは１０μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。上記無機粒子について詳しく説明する。

（無機粒子）
無機粒子の平均一次粒子径は、５０ｎｍ以下が好ましい。無機粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡によって観察したときの無機粒子の一次粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径の数平均粒子径である。このとき少なくとも１００点以上で測定を行う。無機粒子は、分散剤によって分散されている状態で、下層のインク受容層用の塗工液に用いられることが好ましい。本発明において、上記無機粒子の分散状態での平均二次粒子径は、１００〜５００ｎｍであることが好ましい。下層のインク受容層は、平均二次粒子径が１００〜５００ｎｍである無機粒子を主体とすることが好ましい。具体的には、下層のインク受容層中に占める、無機粒子の含有量（質量％）は、５０質量％以上９８質量％以下であることが好ましい。

本発明に用いる無機粒子としては、例えば、アルミナ水和物、アルミナ、シリカ、コロイダルシリカ、二酸化チタン、ゼオライト、カオリン、タルク、ハイドロタルサイト、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらの無機粒子は、必要に応じて１種又は２種以上を用いることができる。上記無機粒子の中でも、インクの吸収性が高い多孔質構造を形成することができるアルミナ水和物、アルミナ、シリカを用いることが好ましい。

上記アルミナ水和物は、
一般式（Ｘ）：Ａｌ_２Ｏ_３−ｎ（ＯＨ）_２ｎ・ｍＨ_２Ｏ
（一般式（Ｘ）中、ｎは０、１、２、又は３であり、ｍは０以上１０以下、好ましくは０以上５以下である。ただし、ｍとｎは同時に０にはならない。）
により表されるものを好適に用いることができる。尚、ｍＨ_２Ｏは、多くの場合、結晶格子の形成に関与しない脱離可能な水相を表すものであるため、ｍは整数でなくてもよい。また、アルミナ水和物を加熱するとｍは０となり得る。

（バインダー）
本発明において、インク受容層はバインダーを含有することが好ましい。また、バインダーとしては例えば、酸化澱粉、エーテル化澱粉、リン酸エステル化澱粉などの澱粉誘導体；カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体；カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白、及びポリビニルアルコール、並びに、それらの誘導体；ポリビニルピロリドン、無水マレイン酸樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体などの共役重合体ラテックス；アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの重合体などのアクリル系重合体ラテックス；エチレン−酢酸ビニル共重合体などのビニル系重合体ラテックス；上記の重合体のカルボキシル基などの官能基含有単量体による官能基変性重合体ラテックス；カチオン基を用いて上記重合体をカチオン化したもの；カチオン性界面活性剤を用いて上記重合体の表面をカチオン化したもの；カチオン性ポリビニルアルコール下で上記重合体を構成するモノマーを重合し、重合体の表面にポリビニルアルコールを分布させたもの；カチオン性コロイド粒子の懸濁分散液中で上記重合体を構成するモノマーを重合し、重合体の表面にカチオン性コロイド粒子を分布させたもの；メラミン樹脂、尿素樹脂などの熱硬化合成樹脂などの水性バインダー；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルの重合体及び共重合体；ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アルキッド樹脂などの合成樹脂が挙げられる。これらのバインダーは、必要に応じて１種又は２種以上を用いることができる。

上記したバインダーの中でも、ポリビニルアルコールやポリビニルアルコール誘導体を用いることが好ましい。ポリビニルアルコール誘導体としては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタールなどが挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１〜３級アミノ基または第４級アンモニウム基をポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールが好ましい。

ポリビニルアルコールは、例えば、ポリ酢酸ビニルをけん化して合成することができる。ポリビニルアルコールのけん化度としては、８０ｍｏｌ％以上１００ｍｏｌ％以下が好ましく、８５ｍｏｌ％以上９８ｍｏｌ％以下がより好ましい。尚、けん化度とは、ポリ酢酸ビニルをけん化してポリビニルアルコールを得た際の、けん化反応によって生じた水酸基のモル数の割合であり、本発明においては、ＪＩＳ−Ｋ６７２６の方法で測定した値を用いるものとする。また、ポリビニルアルコールの平均重合度は、２，０００以上が好ましく、２，０００以上５，０００以下がより好ましい。インク受容層用塗工液を調製する際は、ポリビニルアルコールやポリビニルアルコール誘導体を水溶液として使用することが好ましい。その際、水溶液中のポリビニルアルコール及びポリビニルアルコール誘導体の固形分の含有量は、３質量％以上２０質量％以下が好ましい。

（架橋剤）
架橋剤としては、例えば、アルデヒド系化合物、メラミン系化合物、イソシアネート系化合物、ジルコニウム系化合物、アミド系化合物、アルミニウム系化合物、ホウ酸、及びホウ酸塩などが挙げられる。これらの架橋剤は、必要に応じて１種又は２種以上を用いることができる。特にバインダーとしてポリビニルアルコールやポリビニルアルコール誘導体を用いる場合は、上記した架橋剤の中でも、ホウ酸やホウ酸塩を用いることが好ましい。

ホウ酸としては、オルトホウ酸（Ｈ_３ＢＯ_３）、メタホウ酸、ジホウ酸などが挙げられる。ホウ酸塩としては、上記ホウ酸の水溶性の塩が好ましい。例えば、ホウ酸のナトリウム塩やカリウム塩などのホウ酸のアルカリ金属塩；ホウ酸のマグネシウム塩やカルシウム塩などのホウ酸のアルカリ土類金属塩；ホウ酸のアンモニウム塩などが挙げられる。これらの中でも、オルトホウ酸を用いることが、塗工液の経時安定性とクラックの発生を抑制する効果の観点から好ましい。

架橋剤の使用量は、製造条件などに応じて適宜調整することができる。本発明においては、架橋剤の含有量が、バインダーの含有量に対して、１．０質量％以上５０質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下がより好ましい。

更に、バインダーがポリビニルアルコールであり、架橋剤がホウ酸及びホウ酸塩から選択される少なくとも１種である場合には、ポリビニルアルコールの含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩の合計の含有量が、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。

（その他の添加剤）
本発明において、インク受容層は、これまで述べてきたもの以外のその他の添加剤を含有してもよい。具体的には、ｐＨ調整剤、増粘剤、流動性改良剤、消泡剤、抑泡剤、界面活性剤、離型剤、浸透剤、着色顔料、着色染料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、耐水化剤、染料定着剤、硬化剤、耐候材料などが挙げられる。

［記録媒体の製造方法］
本発明において、記録媒体を製造する方法は、特に限定されないが、インク受容層用の塗工液を調製する工程、及び、インク受容層用塗工液を基材に塗工する工程を有する記録媒体の製造方法が好ましい。以下、記録媒体の製造方法について説明する。

＜基材の作製方法＞
本発明において、基紙の作製方法としては、一般的に用いられている抄紙方法を適用することができる。抄紙装置としては、例えば長網抄紙機、丸網抄紙機、円胴、ツインワイヤーなどが挙げられる。基紙の表面平滑性を高めるために、抄紙工程中又は抄紙工程後に、熱及び圧力を加えて表面処理してもよい。具体的な表面処理方法としては、マシンカレンダーやスーパーカレンダーといったカレンダー処理が挙げられる。

基紙の上に樹脂層を設ける方法、即ち、基紙を樹脂で被覆する方法としては、溶融押出法、ウェットラミネーション、ドライラミネーションなどが挙げられる。中でも、基紙の片面又は両面に溶融した樹脂を押し出しコーティングする溶融押出法が好ましい。例えば、搬送されてきた基紙と、押出ダイから押し出された樹脂を、ニップローラと冷却ローラーとの間のニップ点において接触させ、ニップで圧着することで樹脂層を基紙上にラミネートする方法（押出コーティング方法ともいう）が広く採用されている。溶融押出法により、樹脂層を設ける際には、基紙と樹脂層の接着がより強固となるように、前処理を施してもよい。前処理としては、硫酸クロム酸混液による酸エッチング処理、ガス炎による火炎処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、グロー放電処理、アルキルチタネートなどのアンカーコート処理などが挙げられる。中でも、コロナ放電処理が好ましい。また、樹脂層に白色顔料を含有する場合は、樹脂と白色顔料を混合したもので、基紙を被覆すればよい。

上記のようにして作製した基材を、インク受容層を形成する前に、巻芯にロール状に巻き取る工程を有することが好ましい。巻芯は、直径が５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下のものが好ましく用いられる。また、巻き取る際の張力としては、５０Ｎ／ｍ以上８００Ｎ／ｍ以下が好ましい。尚、巻き取る際の張力は、巻き始めから巻き終わりまで一定でもよい。また、巻き始めの圧力集中を緩和するために、巻き始めから巻き終わりにかけて徐々に張力を低下させてもよい。

＜インク受容層の形成方法＞
本発明の記録媒体において、基材にインク受容層を形成する方法としては、例えば以下の方法を挙げることができる。まず、インク受容層用塗工液を調製する。そして、基材に上記塗工液を塗工及び乾燥することで、本発明の記録媒体を得ることができる。塗工液の塗工方法としては、カーテンコーター、エクストルージョン方式を用いたコーター、スライドホッパー方式を用いたコーターなどを用いることができる。尚、塗工時に、塗工液を加温してもよい。また、塗工後の乾燥方法としては、直線トンネル乾燥機、アーチドライヤー、エアループドライヤー、サインカーブエアフロートドライヤーなどの熱風乾燥機を使用する方法や、赤外線、加熱ドライヤー、マイクロ波などを利用した乾燥機を使用する方法などが挙げられる。

［実施例］
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。

＜実施例１＞
［記録媒体の作製］
＜基材の作製＞
カナダ標準濾水度が４５０ｍＬＣＳＦのＬＢＫＰ８０部、カナダ標準濾水度が４８０ｍＬＣＳＦのＮＢＫＰ２０部、カチオン化澱粉０．６０部、重質炭酸カルシウム１０部、軽質炭酸カルシウム１５部、アルキルケテンダイマー０．１０部、カチオン性ポリアクリルアミド０．０３０部を混合し、固形分の含有量が３．０質量％となるように水を加えて、紙料を得た。次いで、紙料を長網抄紙機で抄造し、３段のウエットプレスを行った後、多筒式ドライヤーで乾燥した。その後、サイズプレス装置で乾燥後の固形分が１．０ｇ／ｍ^２となるように酸化澱粉水溶液を含浸、乾燥させ、更に、マシンカレンダー仕上げをして、坪量が１７０ｇ／ｍ^２、ステキヒトサイズ度１００秒、透気度５０秒、ベック平滑度３０秒、ガーレー剛度１１．０ｍＮ、膜厚が１００μｍの基紙を作製した。次いで、低密度ポリエチレン７０部と、高密度ポリエチレン２０部と、酸化チタン１０部とからなる樹脂組成物を、乾燥塗工量が２５ｇ／ｍ^２となる様に、基紙の片面に塗工した。尚、この面を基材の表面とする。更に、低密度ポリエチレンを、基紙のもう一方の面に塗工することで、基材を得た。この時、基材の算術平均粗さが表１に記載の値となるようにした。算術平均粗さは、平均粗さ測定機（小坂研究所製）を用いて測定した。

（分散液Ａの調製）
純水中に、コロイダルシリカ水溶液（Ｋ３０３Ｃ、Ｃｌａｒｉａｎｔ製、平均二次粒子径１００ｎｍ）、湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ、ＰＱｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、平均二次粒子径５．０μｍ）、シラノール変性ＰＶＡ（Ｒ―１１３０、クラレ製）を、コロイダルシリカ：湿式シリカ：ＰＶＡ＝１００：１５：１１（固形分質量比）となるように添加し、その後、マグネチックスターラーで５分間撹拌した。この水溶液中に、ＰＶＡ：ホウ酸＝１１：１．２（固形分質量比）となるようにホウ酸を添加して、分散液Ａ（固形分の含有量は１０．０質量％）を調製した。

（分散液Ｂの調製）
アルミナ水和物ＤＩＳＰＥＲＳＡＬＨＰ１４（サソール製）とＰＶＡ２３５（クラレ製）を、アルミナ水和物：ＰＶＡ＝１００：１３（固形分質量比）となるように混合し、マグネチックスターラーで５分間撹拌した。この水溶液中に、ＰＶＡ：ホウ酸＝１３：０．７５（固形分質量比）となるようにホウ酸を添加して分散液Ｂを調製した。分散液Ｂ中のアルミナ水和物の平均二次粒子径は１５０ｎｍであった。

＜記録媒体の作製＞
（下層のインク受容層の作製）
上記で得た基材上に、上記で調製した分散液Ｂを塗工した。塗工後、８０℃の熱風で乾燥し、下層のインク受容層を得た。このとき、乾燥塗工量は２５ｇ／ｍ^２であった。
（最表層のインク受容層の作製）
上記で得た下層のインク受容層上に、上記で調製した分散液Ａを塗工した。塗工後、１２０℃の熱風で乾燥し、最表層のインク受容層を得た。乾燥塗工量は３ｇ／ｍ^２であった。

＜実施例２＞
分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から１０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例３＞
分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例４＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−２、扶桑化学工業製、平均二次粒子径７０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例５＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（スノーテックＯＵ−Ｐ、日産化学製、平均二次粒子径２００ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例６＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（ＮＩＰＧＥＬＡＺ−２００、東ソー・シリカ製、平均二次粒子径１．０μｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例７＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３ＦＪ、ＰＱｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、平均二次粒子径１０．０μｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例８＞
実施例１で得られた記録媒体に対して、キャレンダ機（由利ロール機械社製）を使用して、インク受容層の算術平均粗さを１．０μｍにした以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例９＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＲＯＢＯＭＩＣＳ（特殊機化工業製）で粉砕処理したアルミナ水和物（ＨＰ１４）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１０＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３ＦＪ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１１＞
基材の算術平均粗さを０．４μｍになるように変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１２＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（ＮＩＰＧＥＬＡＺ−２００）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から１０部に変更し、得られた記録媒体に対して、キャレンダ機（由利ロール機械社製）を使用して、インク受容層の算術平均粗さを１．０μｍにした以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１３＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（スノーテックＯＵ−Ｐ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１４＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＧａｓｉｌ２３ＦＪに変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１５＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１６＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（スノーテックＯＵ−Ｐ）に変更し、湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＧａｓｉｌ２３ＦＪに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１７＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更し、コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（スノーテックＯＵ−Ｐ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１８＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更し、湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＧａｓｉｌ２３ＦＪに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例１９＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＧａｓｉｌ２３ＦＪに変更し、コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（スノーテックＯＵ−Ｐ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜実施例２０＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）をコロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）に変更し、分散液Ａ中のコロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−２）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例１＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（ＮＩＰＧＥＬＡＺ−２００）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から７部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例２＞
分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から３５部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例３＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−３、扶桑化学工業（株）製、平均二次粒子径６０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例４＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−２０、扶桑化学工業（株）製、平均二次粒子径２３０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例５＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例６＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（ＧａｓｉｌＩＪ４５、ＰＱｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、平均二次粒子径１３．０μｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例７＞
分散液Ａを塗工した後、下記凝固液で凝固処理し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、１００℃に加熱された鏡面仕上げの金属面に圧着し、乾燥した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。凝固液としては、蟻酸カルシウム（朝日化学工業社製）５％、染料定着剤（商品名：ダイフィックスＹＫ−５０、大和化学社製）１％を含有した液を用いた。

＜比較例８＞
湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を湿式シリカ（ＮＩＰＧＥＬＡＹ−２００、東ソー・シリカ（株）社製、平均二次粒子径２．３μｍ）に変更し、分散液Ａ中のコロイダルシリカの比率を、１００部から０部に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から１００部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例９＞
コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−1、扶桑化学工業（株）製、平均二次粒子径３３．４ｎｍ）に変更し、湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）をＰｕｌｖｅｒｉｓｅｔｔｅ６で粉砕処理した湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から１００部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

＜比較例１０＞
アルミナ水和物（ＨＰ１４）を湿式シリカ（ファインシールＸ−１２、トクヤマ製、平均二次粒子径１０．０μｍ）に変更し、コロイダルシリカ（Ｋ３０３Ｃ）をコロイダルシリカ（クォートロンＰＬ−２）に変更し、湿式シリカ（Ｇａｓｉｌ２３Ｆ）を合成非晶質シリカ（ミズカシルＰ−５０、水澤化学工業製、平均二次粒子径８．５μｍ）に変更し、分散液Ａ中の湿式シリカの比率を、１５部から２５０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット用記録媒体を得た。

［評価］
本発明においては、下記の各評価項目の評価基準の○、△を好ましいレベルとし、×を許容できないレベルとした。尚、下記の各評価において、記録媒体に画像を記録する際は、インクジェット記録装置はＰＩＸＵＳＭＰ９９０（キヤノン製）に、インクカートリッジＢＣＩ−３２１（キヤノン製）を装着して記録した。その際の記録条件は、温度：２３℃、相対湿度：５０％とした。

（マット調の面性評価）
記録媒体の６０度鏡面光沢度を測定し、その測定値よりマット調の面性を評価した。尚、光沢度の測定は、ＧｌｏｓｓＭｅｔｅｒＶＧ２０００（日本電色工業（株））を使用した。

○：記録媒体の６０度鏡面光沢度が３％以下である。

△：記録媒体の６０度鏡面光沢度が３％より大きく５％以下である。

×：記録媒体の６０度鏡面光沢度が５％より大きい。

（傷耐性の評価）
記録媒体に、上記インクジェット記録装置を用いて、「写真用紙光沢ゴールド」モードでブラックのベタ画像を記録した。その後、２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．（相対湿度）環境で１日間保存した後、画像記録面を、半径が０．２５ｍｍの端子を使用し、ひっかき試験を行うことで傷耐性を評価した。尚、ひっかき条件は、ひっかき距離が２ｍｍで負荷荷重が５０ｇで行った。

○：ひっかき試験後に、傷付きがほとんど観察されず、実用上問題のないレベルである。

△：ひっかき試験後に、傷付きがわずかに観察されるが、実用上問題のないレベルである。

×：ひっかき試験後に、傷付きがはっきりと観察され、実用上問題のあるレベルである。

（インク吸収性の評価）
記録媒体に、上記インクジェット記録装置を用いて、「写真用紙光沢ゴールド」モードでブラック、シアン、マゼンタ、イエローのベタ画像を記録した。画像記録面を２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．（相対湿度）環境で１日間保存した後、画像記録面のビーディング現象の有無を目視で確認することで、インク吸収性を評価した。尚、ビーディング現象とは、記録媒体に吸収される前のインク滴同士が合体する現象で、インク吸収性と相関が高いことが知られている。
○：ビーディング現象が発生しておらず、実用上問題のないレベルである。

△：ビーディング現象が発生していたが、実用上問題のないレベルである。

×：ビーディング現象が発生していたが、実用上問題のあるレベルである。

上記の結果から分かるように、本発明では、光沢度が低いマット調の面性を有しながら、優れた傷耐性と染料インクの吸収性を有するインクジェット用記録媒体を提供することが可能となる。

Claims

基材上に少なくとも二層のインク受容層を有し、基材から最も距離の離れた位置に設けられている最表層のインク受容層が、平均二次粒子径が７０〜２００ｎｍであるコロイダルシリカと、平均二次粒子径が１．０〜１０．０μｍである湿式シリカを無機粒子として含有し、その質量配合比がコロイダルシリカ：湿式シリカ＝１００：１０〜１００：３０であり、最表層のインク受容層の算術平均粗さＲａが１．０μｍ以上であることを特徴とするインクジェット用記録媒体。
前記最表層のインク受容層と隣接して設けられる下層のインク受容層が、平均二次粒子径が１００〜５００ｎｍである無機粒子を主体とすることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用記録媒体。
前記基材の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット用記録媒体。