JP6644550B2 - プラズマ発生装置及びプラズマ発生装置を備える携帯デバイス - Google Patents
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Description
また。特許文献2は、入力側圧電変換器及び少なくとも二相を備える出力側圧電変換器を有する圧電トランスを開示する。入力側圧電変換器と出力側圧電変換器との間に、少なくとも1つの第1電気絶縁層が配置される。前記第1電気絶縁層は、入力側圧電変換器及び出力側圧電変換器と機械的に接続される。また、出力側圧電変換器の二相の間に、少なくとも1つの第2電気絶縁層が配置される。
また、特許文献4は、圧電トランスの回路装置、及び圧電トランスの駆動方法を開示する。この回路装置は、駆動回路、電流センサ、制御ユニット及び振動子を有する。また、回路装置はパルス幅変調器を有し、パルス幅変調器は振動子と駆動回路との切り換えを行う。振動子の出力端子は、パルス幅変調器の入力端子と接続される。パルス幅変調器の出力側は駆動信号入力側と接続される。また、パルス幅変調器の別の出力側は、駆動回路の駆動信号入力側と接続される。また、制御ユニットの出力側は、変調器の指向入力側を介してパルス幅変調器の入力側と接続される。二次側電圧を用い、フラシュトリガーなどのために、圧電トランスにタップ電圧をかける。
さらに、特許文献6は、しみ取り用のマイクロプラズマピンを開示する。このマイクロプラズマピンは、皮膚浄化用のプラズマヘッド、グリップ格納部、前記グリップ格納部に配置したマイクロ変換器、出力制御部、及び出力モジュールを有する。前記マイクロプラズマピンによって、高出力で可変的なプラズマ機能が実現できる。このために、集積回路または半導体チップマイクロプロセッサがグリップ格納部内に設置され、圧電トランスを作動させる。
特許文献8は、少なくとも1つの圧電トランスを用い、大気圧プラズマを発生する装置を開示する。前記圧電トランスは、長手方向において、少なくとも1つの励起領域及び少なくとも1つの高電圧領域に区分される圧電材料から構成される。この圧電トランスは、ガス流が通って導出される、少なくとも1つの開口部を有し、前記開口部においてプラズマが発生する。
さらに、特許文献10は、圧電素子を備えた発光素子を開示する。この圧電素子はAC電圧によって励起される。
また、特許文献11は、室内空気清浄機を開示する。この空気清浄機は格納部を有し、この格納部は、浄化した空気を吹き出すために、周囲の空気を導入する少なくとも1つの開口部及び少なくとも1つの吹き出し用開口部を備える。この空気清浄機では、プラズマ発生器を前記格納部内に配置し、微生物や不快臭を除去する。
さらに、非特許文献1では、圧電トランスが、従来型トランスの好適な代替品となることを示す。駆動電圧を一次側に印加すると、出力側(つまり、二次側)で電圧が高くなる。
また、非特許文献2では、圧電トランスを振動節の部分で支持する。励起エネルギを、圧電トランスの前半部分に供給する。また、圧電トランスの後半部分を、バリア放電を行う2つの電極間に設置する。このように構成することで、圧電トランスの自由端にのみプラズマを発生させる。
また、本発明の別の態様では、圧電トランスの2領域の分極方向を規定し、高電圧領域表面にプラズマを発生させる。例えば、対向する電極をもつ照明源とすることができる。
圧電トランスを駆動する駆動回路は、回路基板上に実装される。通常、圧電トランスに電圧を印加し、共振周波数で圧電トランスを励起する。また、温度の影響及び経時変化によって、圧電トランスの共鳴周波数が変化する場合、駆動回路を用いて励起電圧を調節する。また、周囲の誘電特性が変化することで、または、ガス環境放電における点火強度によって、圧電トランスの共振周波数も変動する。圧電トランスは、回路基板上の第1端部領域に保持または支持される。励起電圧をかけることにより、圧電トランスの第2自由端部に高電圧が発生する。続いて、大気圧で第2自由端部にプラズマが発生する。圧電トランスの支持では、共振周波数の振動節の部分で圧電トランスを支持する。
回路基板と圧電トランスとの間に間隙を形成し、圧電トランスと回路基板とを空間的に離す。このように構成することで、圧電トランスの機械的消耗を防止する。
また、圧電トランスの支持具を、圧電トランスの振動節の部分に設置する。接続用パッドに励起電圧をかけるために電気接続する場合、支持具は弾性材料からなることが好ましい。支持具で支持した圧電トランスに励起エネルギを供給する場合、支持具の材料は、弾力性を有する導電体とする。
なお、作動ガス流は、支持具に支持された圧電トランスの第1端部から圧電トランスの第2自由端部方向に少なくとも流れるように発生させる。この作動ガス流は、プラズマ発生用及び圧電トランス冷却用に使用される。なお、熱エネルギ損失は振動節で最大となる。また、圧電トランスの第2自由端部に作動ガス流が流れるように、送風機を設置する。
また、圧電トランスの振動節の部分に温度センサを設置し、温度が一定の閾値を超えたときにスイッチを切れるよう、圧電トランスの温度をモニターするのが好ましい。この構成は、回路基板及び圧電トランスが一体型構造であるときに、特に好適である。この一体型構造は、格納部内に全て挿入または設置できる。
また、プラズマ表面処理用の携帯デバイスは、少なくとも格納部及び電圧源を有する。この携帯デバイスの出力を用い、表面をプラズマ洗浄し、塗料や付着剤の付着特性を向上可能である。格納部内には、圧電トランスを励起させる駆動回路を実装した回路基板を配置する。圧電トランスは第1端部を用いて回路基板上方に支持し、回路基板と一体型構造を形成する。また、圧電トランスの第2自由端部は、格納部の開口部と一列に並んで配置される。圧電トランスの第2自由端部から高電圧を発生させることで、大気圧でプラズマを発生させる。また、電源用に、バッテリ及び/または標準電源用コネクタを備える。
圧電トランスは圧電材料から構成され、前記圧電材料は長さ方向で、少なくとも1つの励起領域及び少なくとも1つの高電圧領域に区分される。励起領域はAC電圧が印加される接続用パッドを有し、励起領域を機械的に振動させて、高電圧領域に電場を形成させる。
また、本発明は、携帯デバイスに組み入れることもできる。この携帯デバイスは持ち運びが容易なので、どのような所望の場所にでも労力をかけずに運搬できる。同様に、電源を単純なものにして、適用分野に有益な広がりをもたせることもできる。
なお、以下の図面及び説明で、本発明の利点及び優れた実施形態を示す。
図1は、本発明に係る、大気圧プラズマ発生装置1の基本原理を示す概略図である。格納部30内に、圧電トランス5を設置する。圧電トランス5の第2自由端部8は、格納部30の開口部32方向を向く。格納部30に搭載した送風機17によって、作動ガス流15が発生し、格納部30の開口部32方向に向かって供給される。作動ガス流15は、駆動回路3によって導入され、基本的に圧電トランス5を冷却する役割を果たす。なお、本発明は、図1に示した送風機17の配置に限定されるものではない。当業者にとって、格納部30の任意の位置に送風機17を設置できることは自明である。
格納部30は開口部32を有し、前記開口部32で、圧電トランス5の第2自由端部8は終点となる。圧電トランス5の第2自由端部8は高電圧となり、大気圧でプラズマPが発生する(図5参照)。先に述べたように、送風機17によって作動ガス流15が生じ、圧電トランス5の第2自由端部8で、作動ガスからプラズマPが発生する。
図4は、格納部30の一実施形態の斜視図である。本発明のプラズマ発生装置1を、格納部30内に収めている。図4に示した本発明のプラズマ発生装置1では、格納部30の開口部32で終点となる、圧電トランス5の第2自由端部8だけが観察される。
圧電トランス5の側面10に励起電圧が印加されることで、圧電トランス5の第2自由端部8に高電圧が発生する。本発明のプラズマ発生装置1の送風機17で作動ガス流15を発生させ、この作動ガス流15に第2自由端部8でプラズマ点火してプラズマPが発生し、維持される。このプラズマPは、本発明のプラズマ発生装置1を収納した格納部の開口部32を通って噴射される。プラズマPの点火及び維持は大気圧で行う。
また、先に説明したように、回路基板7は送風機17を搭載し、圧電トランス5の冷却に必要な気流を発生させる。また、接続用パッド20の温度を検知する温度センサ24を、接続用パッド20に設置してもよい。温度センサ24の信号は、接続子11を介して回路基板7に送られる。図1の記載から明らかなように、接続用パッド20の領域(つまり振動節14の位置)で、熱エネルギ損失が最大となる。図6に示すように、温度センサ24の測定は非接触型で行う。一方、温度センサ24を、接続用パッド20に半田付けしてもよい。なお、図5及び図6で示すように、圧電トランス5の幅及び厚さを、幅B及び厚さDで表す。
電気接続線12は、支持具25の構成部分を用い、圧電トランス5を接続用パッド20の位置で支持する。本実施形態に係る図9(b)に示す支持具25は、平面材でつくられる。なお、支持具25の材料は、弾力性及び導電性があるものが好適である。
なお、本明細書中、携帯デバイス100について2つの実施形態だけを開示したが、本発明はこれら実施形態に限定されるものではない。当業者にとって、携帯デバイス100の格納部30を別の形状に変更可能なことは自明である。但し、格納部30に開口部32を形成し、大気圧でプラズマPを発生させることは必須要件である。
3 駆動回路
4 電子素子
5 圧電トランス
6 第1端部
6B 区画
7 回路基板
8 第2自由端部
10 側面
11 接続子
12 電気接続線
13 振動モード
14 振動節
15 作動ガス流
17 送風機
18 間隙
20 接続用パッド
21 電源ケーブル
24 温度センサ
25 支持具
27 導電層
28 カバー
30 格納部
32 開口部
40 熱損失
41 電場
42 流速
50 電圧源
100 携帯デバイス
101 バッテリ
102 ガスコネクタ
103 コネクタ
A デバイス軸
L 長さ
B 幅
D 厚さ
P プラズマ
S1、S2、・・・、SN 層
Claims (13)
- プラズマ(P)発生装置(1)であって、前記プラズマ(P)発生装置(1)は、
第1端部(6)と第2自由端部(8)とを有する圧電トランス(5)と、
前記圧電トランス(5)を励起させるため、前記圧電トランス(5)と電気的に接続される駆動回路(3)と、
前記駆動回路(3)を実装する回路基板(7)を有し、
前記圧電トランス(5)の前記第1端部(6)は、前記回路基板(7)の基板面の垂直方向上方に位置し、前記圧電トランスの前記第1端部(6)を含む区画(6B)と前記回路基板(7)との間に間隙(18)が存在し、前記第1端部(6)を含む前記区画(6B)と前記回路基板(7)とは対向して配置されており、
前記第2自由端部(8)で高電圧を発生させて大気圧でプラズマ(P)点火し、
作動ガス流(15)を流して、プラズマ(P)を発生させるとともに前記圧電トランス(5)を冷却し、
前記圧電トランス(5)は誘電体材料からなる複数の層(S1、S2、...SN)から構成され、前記複数の層(S1、S2、...SN)は互いに接続され、各層(S1、S2、...SN)は少なくとも導電層(27)を部分的に有し、
前記圧電トランス(5)の一対の側面(10)の各面上で、前記圧電トランス(5)の振動節(14)の部分に、電気的に接続された接続用パッド(20)を取り付け、
電気接続線(12)が前記回路基板(7)から前記接続用パッド(20)までつながり、
前記接続用パッド(20)の位置に位置する支持具(25)によって、前記圧電トランスは前記区画(6B)において支持されることを特徴とする、プラズマ発生装置(1)。 - 前記圧電トランス(5)は直方体であって、前記圧電トランス(5)の長さ(L)及び幅(B)各々が、前記圧電トランス(5)の厚さ(D)よりも長いことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記支持具(25)は弾性材料からなることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記作動ガス流(15)が、前記回路基板(7)の上方に支持されている前記圧電トランス(5)の少なくとも前記第1端部(6)から前記第2自由端部(8)に向かって流れること特徴とする、請求項1から請求項3の何れか一項に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記作動ガス流(15)が、前記圧電トランス(5)の周りを流れ、前記圧電トランス(5)の前記第2自由端部(8)にまで流れるのを補助する送風機(17)が備えられること特徴とする、請求項1から請求項4の何れか一項に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 共振周波数で前記圧電トランス(5)を励起することで、前記第1端部(6)及び前記第2自由端部(8)の両方から離れた位置に、少なくとも2つの振動節(14)を発生させることができること特徴とする、請求項1から請求項5の何れか一項に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記振動節(14)は前記圧電トランス(5)の前記第2自由端部(8)よりも前記第1端部(6)の近くに位置すること特徴とする、請求項6に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記圧電トランス(5)の少なくとも1つの振動節(14)の部分に、温度センサ(24)を設置すること特徴とする、請求項1に記載のプラズマ発生装置(1)。
- 前記回路基板(7)及び前記圧電トランス(5)は構造ユニットを構成すること特徴とする、請求項1から請求項8の何れか一項に記載のプラズマ発生装置(1)。
- プラズマ表面処理用携帯デバイス(100)であって、前記携帯デバイス(100)は、
開口部(32)を有する格納部(30)と、
電圧源(50)と、
駆動回路(3)と、
前記駆動回路(3)により励起され、第1端部(6)と第2自由端部(8)とを有する圧電トランス(5)と、
前記駆動回路(3)を実装し、前記格納部(30)内に配置された回路基板(7)とを有し、
前記回路基板(7)の基板面の垂直方向上方に間隙(18)を介して離して、前記圧電トランス(5)の前記第1端部(6)を含む区画(6B)が前記回路基板(7)と対向するように前記圧電トランス(5)は、支持具(25)を介して支持され、
前記圧電トランス(5)の前記第2自由端部(8)は前記格納部(30)の前記開口部(32)に位置し、
前記圧電トランス(5)の前記第2自由端部(8)で発生した高電圧により、大気圧でプラズマ(P)点火し、
作動ガス流(15)の流れから、プラズマ(P)が発生し、及び前記圧電トランス(5)が冷却され、
前記圧電トランス(5)は誘電体材料からなる複数の層(S1、S2、...SN)から構成され、前記複数の層(S1、S2、...SN)は互いに接続され、各層(S1、S2、...SN)は少なくとも導電層(27)を部分的に有し、
前記圧電トランス(5)の一対の側面(10)の各々の側面上で、且つ、前記圧電トランス(5)の振動節(14)の部分に、各々電気的に接続された接続用パッド(20)を取り付け、
電気接続線(12)が、前記回路基板(7)から前記接続用パッド(20)までつながり、
前記接続用パッド(20)の位置に位置する前記支持具(25)によって、 前記圧電トランス(5)は前記区画(6B)において支持され、
前記圧電トランス(5)及び前記回路基板(7)は構造ユニットを形成する、ことを特徴とするプラズマ表面処理用携帯デバイス(100)。 - 前記圧電トランスの少なくとも1つの振動節(14)には温度センサ(24)が取り付けられることを特徴とする、請求項10に記載の携帯デバイス(100)。
- 前記格納部(30)は送風機(17)を備え、前記送風機(17)は、前記圧電トランス(5)から前記格納部(30)の前記開口部(32)方向に気流を発生させることを特徴とする、請求項10または請求項11に記載の携帯デバイス(100)。
- 追加のガスコネクタ(102)を有し、前記追加のガスコネクタ(102)を介して前記圧電トランス(5)の前記第2自由端部(8)に、別の作動ガスが供給されることを特徴とする、請求項10から請求項12の何れか一項に記載の携帯デバイス(100)。
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DE102015113656A1 (de) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | Epcos Ag | Plasmagenerator und Verfahren zur Einstellung eines Ionenverhältnisses |
DE102015119574A1 (de) | 2015-11-12 | 2017-05-18 | Epcos Ag | Ansteuerschaltung und Verfahren zur Ansteuerung eines piezoelektrischen Transformators |
DE102015119656A1 (de) | 2015-11-13 | 2017-05-18 | Epcos Ag | Piezoelektrischer Transformator |
DE102015120160B4 (de) * | 2015-11-20 | 2023-02-23 | Tdk Electronics Ag | Piezoelektrischer Transformator |
DE102016102488A1 (de) | 2016-02-12 | 2017-08-17 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Transformators und piezoelektrischer Transformator |
DE102016102585A1 (de) * | 2016-02-15 | 2017-08-17 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas |
USD828860S1 (en) * | 2016-03-04 | 2018-09-18 | Oc10, Llc | Hand-held device |
USD824441S1 (en) | 2016-03-04 | 2018-07-31 | Oc10, Llc | Cartridge |
DE102016104104A1 (de) * | 2016-03-07 | 2017-09-07 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung von Ozon und Vorrichtung zur Ozongenerierung |
DE102016104490B3 (de) | 2016-03-11 | 2017-05-24 | Epcos Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas |
EP3289993A1 (en) * | 2016-09-02 | 2018-03-07 | Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. | Device and method for generating a plasma jet |
DE102016010619A1 (de) | 2016-09-05 | 2018-03-08 | bdtronic GmbH | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas |
CN110036696B (zh) * | 2016-10-21 | 2024-03-08 | 海别得公司 | 等离子体电动工具 |
DE102016120324B4 (de) * | 2016-10-25 | 2020-12-17 | Tdk Electronics Ag | Verfahren zur Bereitstellung einer Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas |
DE102017105410A1 (de) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | Epcos Ag | Plasmagenerator |
DE102017105415B4 (de) * | 2017-03-14 | 2018-10-11 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nicht-thermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Verfahren zur Frequenzregelung eines piezoelektrischen Transformators |
DE102017105401B4 (de) * | 2017-03-14 | 2019-01-31 | Tdk Electronics Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas |
DE102017105430A1 (de) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Wirkraum |
DE102017116925B4 (de) * | 2017-07-26 | 2021-04-22 | Tdk Electronics Ag | Harte PZT-Keramik, piezoelektrisches Vielschichtbauelement und Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Vielschichtbauelements |
JP6958213B2 (ja) * | 2017-10-16 | 2021-11-02 | Tdk株式会社 | プラズマ発生装置 |
KR101922507B1 (ko) * | 2017-11-29 | 2018-11-28 | 주식회사 서린메디케어 | 프락셔널 플라즈마를 이용한 피부 치료장치 |
DE102018000588B4 (de) | 2018-01-25 | 2020-01-30 | Lohmann Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Vorbehandlung vom Materialien für den Flexodruck mittels mobiler Niedertemperaturplasmaanwendung |
DE102018112473B4 (de) | 2018-05-24 | 2024-01-25 | Marco Systemanalyse Und Entwicklung Gmbh | Dosierventil |
DE102018113190B4 (de) | 2018-06-04 | 2020-03-12 | Epcos Ag | Vorrichtung mit einem elektrokeramischem Bauteil |
DE102018005315B4 (de) | 2018-07-05 | 2022-08-11 | Lohmann Gmbh & Co. Kg | Flexible Corona- oder Plasma-Bewegungseinheit |
KR102106776B1 (ko) * | 2018-09-04 | 2020-05-06 | (주)펨토사이언스 | 휴대형 플라즈마 발생장치 |
DE102019107238A1 (de) | 2019-03-21 | 2020-09-24 | Relyon Plasma Gmbh | Vorrichtung und Bauelement zur Erzeugung einer hohen Spannung oder hohen Feldstärke |
DE102019135497B4 (de) * | 2019-12-20 | 2021-11-11 | Nova Plasma Ltd | Piezoelektrischer Plasmagenerator und Verfahren zum Betrieb eines piezoelektrischen Plasmagenerators |
AU2021261100A1 (en) * | 2020-04-24 | 2022-11-24 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Lighting instrument and plasma device |
CN113597075A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-11-02 | 西安交通大学 | 便携式大气压冷等离子体射流装置 |
LU501366B1 (en) * | 2022-01-31 | 2023-07-31 | Univ Ljubljani | Plasma jet hand tool |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0851242A (ja) * | 1994-08-05 | 1996-02-20 | Hitachi Ferrite Denshi Kk | 圧電トランスの実装方法 |
US5834882A (en) | 1996-12-11 | 1998-11-10 | Face International Corp. | Multi-layer piezoelectric transformer |
JP3687881B2 (ja) * | 1997-07-08 | 2005-08-24 | 富士通株式会社 | 放電管及び放電管の放電方法 |
US6127771A (en) * | 1998-10-15 | 2000-10-03 | Face International Corp. | Multi-layer piezoelectric transformer mounting device |
JP3939577B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2007-07-04 | 晴雄 伊藤 | 発光素子及び表示装置 |
DE102005032890B4 (de) | 2005-07-14 | 2009-01-29 | Je Plasmaconsult Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Atmosphärendruck-Plasmen |
US8267884B1 (en) * | 2005-10-07 | 2012-09-18 | Surfx Technologies Llc | Wound treatment apparatus and method |
DE102006004289A1 (de) * | 2006-01-31 | 2007-08-02 | Robert Bosch Gmbh | Piezoelektrischer Aktor mit integriertem Piezoelektrischem Transformator |
DE102006011312B4 (de) * | 2006-03-11 | 2010-04-15 | Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen - Körperschaft des öffentlichen Rechts - | Vorrichtung zur Plasmabehandlung unter Atmosphärendruck |
JP2007281356A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Fujifilm Holdings Corp | 圧電セラミックトランス装置およびこれを用いる光源装置 |
US8350182B2 (en) * | 2006-09-11 | 2013-01-08 | Hypertherm, Inc. | Portable autonomous material processing system |
CN101259036A (zh) | 2007-03-06 | 2008-09-10 | 徐小羚 | 微型等离子皮肤去斑笔 |
WO2009012735A1 (de) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Plasmaversorgungseinrichtung |
DE102007055014A1 (de) | 2007-11-14 | 2009-05-28 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Verfahren und Einrichtung zur Zündung und Aufrechterhaltung eines Plasmas |
US7777151B2 (en) * | 2008-02-14 | 2010-08-17 | Adventix Technologies Inc. | Portable plasma sterilizer |
DE102008018827B4 (de) | 2008-04-15 | 2010-05-12 | Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas |
JP2011522381A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | コロラド ステート ユニバーシティ リサーチ ファンデーション | プラズマに基づく化学源装置およびその使用方法 |
DE202008008732U1 (de) * | 2008-07-02 | 2009-11-19 | Melitta Haushaltsprodukte Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Reinigung von Raumluft |
DE202008008980U1 (de) * | 2008-07-04 | 2008-09-04 | Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas |
JP5434180B2 (ja) * | 2009-03-23 | 2014-03-05 | 株式会社Ihi | プラズマ貯蔵装置 |
US20100301702A1 (en) | 2009-05-27 | 2010-12-02 | General Electric Company | High gain miniature power supply for plasma generation |
DE102009023505A1 (de) | 2009-06-02 | 2010-12-09 | Austriamicrosystems Ag | Schaltungsanordnung für einen Piezotransformator und dazugehörendes Verfahren |
ES2528734T3 (es) * | 2009-08-03 | 2015-02-12 | Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. | Dispositivo para la generación de un chorro de plasma frío |
DE102009038563B4 (de) * | 2009-08-22 | 2013-06-06 | Reinhausen Plasma Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung eines Plasmastrahls |
WO2012005132A1 (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | プラズマ照射処理装置 |
US20120255932A1 (en) * | 2010-07-15 | 2012-10-11 | Massood Tabib-Azar | Nanofabrication device and method for manufacture of a nanofabrication device |
US8884525B2 (en) * | 2011-03-22 | 2014-11-11 | Advanced Energy Industries, Inc. | Remote plasma source generating a disc-shaped plasma |
DE102011006764A1 (de) | 2011-04-05 | 2012-10-11 | Robert Bosch Gmbh | Piezotransformator, Verfahren zum Herstellen eines Piezotransformators und Inverter mit einem Piezotransformator |
US10225919B2 (en) * | 2011-06-30 | 2019-03-05 | Aes Global Holdings, Pte. Ltd | Projected plasma source |
WO2013040481A1 (en) * | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Cold Plasma Medical Technologies, Inc. | Cold plasma sterilization devices and associated methods |
DE102012003563B4 (de) * | 2012-02-23 | 2017-07-06 | Drägerwerk AG & Co. KGaA | Einrichtung zur desinfizierenden Wundbehandlung |
US9181788B2 (en) * | 2012-07-27 | 2015-11-10 | Novas Energy Group Limited | Plasma source for generating nonlinear, wide-band, periodic, directed, elastic oscillations and a system and method for stimulating wells, deposits and boreholes using the plasma source |
-
2013
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