JP6596611B1 - 熱硬化性組成物及びペースト - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
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Abstract
Description
(a)塗膜(又は、薄片状硬化物)を形成したときに、該塗膜(又は、該薄片状硬化物)の弾性率が温度に影響されにくい、換言すれば温度安定性に優れた母材であること。
(b)塗膜(又は、薄片状硬化物)の平均線膨張係数の温度安定性に優れた母材であること。
(c)使用用途又は目的に応じて、導電性微粒子、半導体微粒子、又は絶縁性微粒子を含有させたとしても、母材の樹脂が有する特性を劣化させない、又は劣化が生じ難いこと。
(d)使用用途又は目的に応じて、導電性微粒子、半導体微粒子、又は絶縁性微粒子を含有させたとしても、各種の塗布法又は各種の転写法に適用し得る、及び/又は被塗布物に対して密着するとともに該熱硬化性組成物の硬化時の加熱処理によっても塗布形状又は転写パターンを維持し得るペースト状態を実現することが可能なこと。
(a)銀、銅、ニッケル、スズ、金、白金、パラジウム、又ははんだ、あるいは、銀、銅、ニッケル、スズ、金、白金、パラジウム、及びはんだの群から選択される1種又は2種以上の金属を含む合金
(b)銀、銅、ニッケル、スズ、金、白金、パラジウム、又ははんだ、あるいは、銀、銅、ニッケル、スズ、金、白金、パラジウム、及びはんだの群から選択される1種又は2種以上の金属を含む合金がめっき等によってコーティングされた、以下の(b−1)〜(b−6)の物質
(b−1)金属
(b−2)樹脂
(b−3)ガラス又はセラミック等の無機物質
(b−4)カーボンナノチューブ
(b−5)フラーレン等のカーボン系物質
(b−6)セルロース等の有機繊維状物質
(c)酸化インジウムスズ(ITO)
(d)カーボン
以下に、実施例及び比較例を示して上述の実施形態について、より具体的に説明する。但し、これらの実施例は、上述の実施形態の例示のみを目的として開示されるものであり、上述の実施形態を限定するものではない。なお、各実施例及び比較例における各成分(各原料)の各数値は、「質量部」を意味する。
本発明者らは、本実施形態の各実施例及び各比較例に示す、熱硬化性組成物(但し、フィラーを含まない)の貯蔵弾性率(Pa)及び損失弾性率について、−55℃〜300℃の温度範囲における温度依存性の評価を行った。具体的には、動的粘弾性測定装置(セイコーインスツル株式会社製、型式:DMS6100)を用いて、昇温速度5℃/分、周波数1Hz、引張モードの条件下において該温度依存性の評価を行った。なお、該貯蔵弾性率及び該損失弾性率の最大値、最小値、及び平均変化率の最大値についての評価結果は、表1及び表2に示される。
本発明者らは、本実施形態の各実施例及び各比較例に示す、熱硬化性組成物(但し、フィラーを含まない)の線膨張係数の温度依存性を、熱機械分析装置(TMA:日立ハイテクサイエンス社製、TMA−7100)を用いて、25℃〜250℃の温度範囲において、昇温速度2℃、荷重4.9ミリニュートンの条件下において測定した。
高温耐熱性の評価においては、上述の工程を経て製造された各種フィラーを含む熱硬化性組成物について、バーコーターを用いて、厚さ0.3ミリ、50ミリ角のアルミナ基板上に、膜厚20ミクロン、20ミリ幅、30ミリ長さの塗膜を形成した。高温耐熱性の試験においては、さらに、その塗膜の上にニッケルメッキを施した厚さ約0.5mm、10ミリ角のシリコンチップを載せ、175℃で15分間加熱硬化することにより試料を作製した。
○:クラック、剥離、又は破壊が認めらない。
△:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%以下である。
×:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%を越える。
ヒートサイクル熱衝撃耐性の評価においては、該高温耐熱性試験と同様に、上述の工程を経て製造された各種フィラーを含む熱硬化性組成物について、バーコーターを用いて、厚さ0.3ミリ、50ミリ角のアルミナ基板上に、膜厚20ミクロン、20ミリ幅、30ミリ長さの塗膜を備えた試料を作製した。
△:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%以下である。
×:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%を越える。
また、本発明者らは、上述の実施形態の熱硬化性組成物と、ニッケルめっきとの界面におけるダイシェア強度(剪断負荷に対する接合強度)の温度依存性の評価を行った。上述の工程を経て製造された各種フィラーを含む熱硬化性組成物について、バーコーターを用いて、厚さ0.3ミリ、50ミリ角のアルミナ基板上に膜厚20ミクロン、20ミリ幅、30ミリ長さの塗膜を、スクリーン印刷法を用いて形成した。ダイシェア強度の試験においては、さらに、その塗膜の上にニッケルメッキを施した、厚さ約0.5mm、10ミリ角のシリコンチップを載せ、175℃で15分間の加熱によって熱硬化させて接合した試料を作製した。該試料を、ホットプレート上で該試料の温度を制御しながら、160℃、200℃、260℃の各温度に保持し、一般的なダイシェア試験機(Daga Precision Industries社製、型式:Series4000PA2A)を用いて、せん断破壊させたときの破壊強度を測定した。該評価は、少なくとも5個以上のサンプルについておいて同様に行われた。評価結果の表示方法は次の通りである。
○:ダイシェア強度が4N/mm2以上
△:ダイシェア強度が2N/mm2以上、4N/mm2未満
×:ダイシェア強度が2N/mm2未満
厚さ0.4ミリ、FR−4ガラエポ基板上(曲げ試験用)に、膜厚20ミクロンの塗膜を形成することにより試料を作製した。該試料を3点曲げ試験において、基板を6mm撓ませることを10回繰り返し、剥離、クラック、又は破壊の有無を評価した。該評価は、少なくとも5個以上のサンプルについておいて同様に行われた。評価結果の表示方法は次の通りである。
○:クラック、剥離、又は破壊が認めらない。
△:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%以下である。
×:クラック、剥離、又は破壊が認められたサンプル数が10%を越える。
(a)塗膜(又は、薄片状硬化物)を形成したときに、該塗膜(又は、該薄片状硬化物)の貯蔵・損失弾性率が−55℃〜300℃の温度範囲にて、比較的狭い弾性率範囲にあり、しかも変化率が小さく、すなわち弾性率が温度に影響されにくい、換言すれば温度安定性に優れる。
(b)塗膜(又は、薄片状硬化物)の平均線膨張係数が温度によって大きく変化せず、すなわち温度安定性に優れる。
(c)使用用途又は目的に応じて、導電性微粒子、半導体微粒子、又は絶縁性微粒子を含有させたとしても、母材の樹脂が有する機械的特性を劣化させず、−55℃〜300℃の温度範囲にて、優れた高温耐熱性、耐温度サイクル性、高温時接着強度を有し、及び又は温度による劣化が生じ難く、かつ、振動又は曲げの負荷に対する耐性に優れる。
(d)使用用途又は目的に応じて、導電性微粒子、半導体微粒子、又は絶縁性微粒子を含有させたとしても、各種の塗布法又は各種の転写法に適用し得る、及び/又は被塗布物に対して密着するとともに該熱硬化性組成物の硬化時の加熱処理によっても塗布形状又は転写パターンを維持し得るペースト状態を実現することが可能なこと。
Claims (12)
- 1つ以上の芳香環を持つ骨格の分子を、CH、CH 2 、及び単結合のCHCHの群から選択される1つを介して、単結合により2つ以上結合した3官能以上のエポキシ樹脂と、CH、CH 2 、及び単結合のCHCHの群から選択される1つを介して、単結合により2つ以上結合した4官能以上のエポキシ樹脂と、を含むエポキシ樹脂(A)と、
ジシアンジアミド(Dicy)、カチオン系硬化剤、及び活性開始温度が約130℃で数平均分子量約190のイミダゾール系硬化剤の群から選択される少なくとも1種である硬化剤(B)と、を含有し、
前記エポキシ樹脂(A)が、ヒドロキシフェニル型エポキシ樹脂又はナフタレン型エポキシ樹脂であって、該エポキシ樹脂(A)の分子量が400以上800未満である、
熱硬化性組成物。 - さらに、絶縁性フィラー(C)を含み、
−55℃以上300℃以下の温度範囲において、最低温度と最高温度の温度差が200℃以上である環境下で使用され得る、
請求項1に記載の熱硬化性組成物。 - さらに、半導体フィラー(D)を含み、
−55℃以上300℃以下の温度範囲において、最低温度と最高温度の温度差が200℃以上である環境下で使用され得る、
請求項1に記載の熱硬化性組成物。 - さらに、導電性フィラー(E)を含み、
−55℃以上300℃以下の温度範囲において、最低温度と最高温度の温度差が200℃以上である環境下で使用され得る、
請求項1に記載の熱硬化性組成物。 - 前記硬化剤(B)の活性開始温度が110℃以上である、
請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 前記硬化剤(B)の分子量が250未満である、
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 175℃で15分間継続して加熱することにより硬化されたときの薄片状硬化物における貯蔵弾性率が、−55℃以上300℃以下の温度範囲において、108Pa以上1010Pa以下である、
請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 175℃で15分間継続して加熱することにより硬化されたときの薄片状硬化物における損失弾性率が、−55℃以上300℃以下の温度範囲において、106Pa以上109Pa以下である、
請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 175℃で15分間継続して加熱することにより硬化されたときの薄片状硬化物における貯蔵弾性率の温度変化率が、−55℃以上300℃以下の温度範囲において、−5.0×107Pa/℃以上である、
請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 175℃で15分間継続して加熱することにより硬化されたときの薄片状硬化物における損失弾性率の温度変化率が、−55℃以上300℃以下の温度範囲において、−5.0×106Pa/℃以上である、
請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 175℃で15分間継続して加熱することにより硬化された薄片状硬化物の、50℃以上70℃以下の温度範囲における平均線膨張係数を1としたときの、140℃以上160℃以下の温度範囲における平均線膨張係数が0.5以上1.5以下である、
請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物。 - 請求項1及至請求項11のいずれか1項に記載の該熱硬化性組成物を含有する、
ペースト。
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Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1095929A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-04-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | 鋳鉄管内面塗装用粉体塗料 |
JP2003277591A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
JP2005220159A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 硬化性樹脂組成物 |
JP2007332210A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物、プリプレグおよび金属張積層板 |
JP2011195778A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 高分子化硬化剤及びその製造方法、樹脂組成物、半導体用接着剤並びに半導体装置 |
JP2012015465A (ja) * | 2010-07-05 | 2012-01-19 | Kyocera Chemical Corp | 層間接着シートおよび多層フレキシブル配線板の製造方法 |
JP2012214776A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Panasonic Corp | 透明基板用エポキシ組成物、プリプレグ、及び透明基板 |
JP2013166917A (ja) * | 2012-01-19 | 2013-08-29 | Toray Ind Inc | エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料 |
WO2013183303A1 (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 株式会社Adeka | 硬化性樹脂組成物、樹脂組成物、これらを用いてなる樹脂シート、及びこれらの硬化物 |
JP2014122259A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 保護膜層用封止剤組成物及びそれを用いた電子部品 |
JP2015048444A (ja) * | 2013-09-03 | 2015-03-16 | 三菱レイヨン株式会社 | リソグラフィー用共重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
KR20150030042A (ko) * | 2013-09-11 | 2015-03-19 | 엘지이노텍 주식회사 | 수지 조성물 및 이를 이용한 esd보호층을 포함하는 led패키지 |
US20170107408A1 (en) * | 2014-07-08 | 2017-04-20 | Dow Europe Gmbh | DELAYED CURING HIGH Tg CRASH DURABLE ADHESIVE |
WO2017170958A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4238124B2 (ja) * | 2003-01-07 | 2009-03-11 | 積水化学工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物、接着性エポキシ樹脂ペースト、接着性エポキシ樹脂シート、導電接続ペースト、導電接続シート及び電子部品接合体 |
JP5675230B2 (ja) * | 2010-09-03 | 2015-02-25 | 株式会社ダイセル | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びその用途 |
-
2018
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Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1095929A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-04-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | 鋳鉄管内面塗装用粉体塗料 |
JP2003277591A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
JP2005220159A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 硬化性樹脂組成物 |
JP2007332210A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物、プリプレグおよび金属張積層板 |
JP2011195778A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 高分子化硬化剤及びその製造方法、樹脂組成物、半導体用接着剤並びに半導体装置 |
JP2012015465A (ja) * | 2010-07-05 | 2012-01-19 | Kyocera Chemical Corp | 層間接着シートおよび多層フレキシブル配線板の製造方法 |
JP2012214776A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Panasonic Corp | 透明基板用エポキシ組成物、プリプレグ、及び透明基板 |
JP2013166917A (ja) * | 2012-01-19 | 2013-08-29 | Toray Ind Inc | エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料 |
WO2013183303A1 (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 株式会社Adeka | 硬化性樹脂組成物、樹脂組成物、これらを用いてなる樹脂シート、及びこれらの硬化物 |
JP2014122259A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 保護膜層用封止剤組成物及びそれを用いた電子部品 |
JP2015048444A (ja) * | 2013-09-03 | 2015-03-16 | 三菱レイヨン株式会社 | リソグラフィー用共重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
KR20150030042A (ko) * | 2013-09-11 | 2015-03-19 | 엘지이노텍 주식회사 | 수지 조성물 및 이를 이용한 esd보호층을 포함하는 led패키지 |
US20170107408A1 (en) * | 2014-07-08 | 2017-04-20 | Dow Europe Gmbh | DELAYED CURING HIGH Tg CRASH DURABLE ADHESIVE |
WO2017170958A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
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