JP6578924B2 - 制振材用樹脂組成物、及び制振材 - Google Patents
制振材用樹脂組成物、及び制振材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6578924B2 JP6578924B2 JP2015241465A JP2015241465A JP6578924B2 JP 6578924 B2 JP6578924 B2 JP 6578924B2 JP 2015241465 A JP2015241465 A JP 2015241465A JP 2015241465 A JP2015241465 A JP 2015241465A JP 6578924 B2 JP6578924 B2 JP 6578924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- damping material
- polymer
- group
- formula
- vibration damping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 *C(C(OCCNC(OCC1C(COC(NCCOC(C(*)=C)=O)=O)CCCC1)=O)=O)=C Chemical compound *C(C(OCCNC(OCC1C(COC(NCCOC(C(*)=C)=O)=O)CCCC1)=O)=O)=C 0.000 description 3
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
で表され、X、R1及びR2がそれぞれ独立に2価の有機基で、R3及びR4がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基である、ラジカル重合性化合物、及び単官能ラジカル重合性モノマーを、モノマー単位として含む第一の重合体と、直鎖状又は分岐状の第二の重合体と、を含有する制振材に関する。
で表されるラジカル重合性化合物を含む反応性モノマーと、第二の重合体とを含有する。式(I)中、X、R1及びR2がそれぞれ独立に2価の有機基で、R3及びR4がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基である。制振材用樹脂組成物中で反応性モノマーが重合することで、それら反応性モノマーに由来するモノマー単位から構成される第一の重合体が生成する。これにより、反応生成物が硬化して、制振材(硬化体)を形成する。第一の重合体は、通常、第二の重合体と共有結合によって結合することなく、第二の重合体とは別の重合体として制振材中に形成される。
で表される基であってもよい。式(10)中、Yは置換基を有していてもよい環状基で、Z1及びZ2はそれぞれ独立に炭素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子から選ばれる原子を含む官能基で、i及びjはそれぞれ独立に0〜2の整数である。*は結合手を表す(これは他の式でも同様である)。Xが式(10)の基であると、式(II)の環状のモノマー単位が特に形成され易いと考えられる。環状基Yに対するZ1及びZ2の配置が、シス位であってもよいし、トランス位であってもよい。Z1及びZ2は、−O−、−OC(=O)−、−S−、−SC(=O)−、−OC(=S)−、−NR10−(R10は水素原子又はアルキル基)、又は−ONH−で表される基であってもよい。
合成例1:trans−1,2−ビス(2−アクリロイルオキシエチルカルバモイルオキシ)シクロヘキサン(BACH)の合成
100mL二口ナスフラスコにtrans−1,2−シクロヘキサンジオール(2.32g、20.0mmol)を加え、フラスコ内を窒素置換した。そこに乾燥したジクロロメタン(40mL)、及びジラウリン酸ジブチル錫(11.8μL、0.10mol%:0.020mmol)を入れた。フラスコ中の反応液に2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート(5.93g、42.0mmol)のジクロロメタン(4mL)溶液を滴下ロートから滴下し、反応液を30℃で24時間撹拌して、反応を進行させた。反応終了後、反応液にジエチルエーテルを加えて飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去した。残渣をアセトニトリルに溶解させ、得られた溶液をヘキサンで3回洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をジエチルエーテル及びヘキサンの混合溶媒からの再結晶によって精製して、BACHの白色結晶を得た。収量は、5.1gであり、収率は、64質量%であった。
20mLナスフラスコにポリエチレングリコール(PEG1500、750mg、0.500mmol、数平均分子量1500)、ポリプロピレングリコール(PPG4000、2000mg、0.500mmol、数平均分子量4000)を加えてからフラスコ内を窒素置換し、内容物を115℃で融解させた。融解液に4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(262mg、1.00mmol)を加えて、窒素雰囲気下、115℃で24時間撹拌して、PEG−PPGオリゴマー(ポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロプレン鎖を含む第二の重合体)を得た。
合成例1のBACH、合成例2のPEG−PPGオリゴマー、アクリロニトリル、2−エチルヘキシルアクリレート及びIrgacure 651を表1に示す質量比で配合し、実施例又は比較例の配合液(制振材用樹脂組成物)を得た。
得られた配合液を、ポリエチレンテレフタラート(PET)製フィルムを敷いた長さ×幅×深さが200mm×10mm×1mmのステンレス金型に流し込み、そこにPET製の透明シートを被せた。透明シートの上から、室温(25℃、以下同様)で2000mJ/cm2の紫外線を照射し、実施例又は比較例の樹脂フィルム(制振材)を得た。
得られた樹脂フィルムから、5mm幅、長さ30mmの短冊状の試験片を切り出した。この試験片を用いて、TAインスツルメント株式会社社製動的粘弾性測定装置(RSA−G2)を用いて、25℃における貯蔵弾性率を測定した。測定条件は以下のとおりである。
・チャック間距離:20mm
・測定周波数:10Hz
得られた樹脂フィルム(厚さ:1mm)を鋼板(厚さ:1mm)に接着し、損失係数測定システム(株式会社小野測機製)を用いて、片持ち梁法、室温、測定周波数:100Hzの条件で、損失係数を測定した。
得られた樹脂フィルムから短冊状の試験片(幅:8mm、厚さ:1mm)を切り出した。この試験片を、ストログラフT(株式会社東洋精機製作所製)を用いて、室温、チャック間距離:30mm、引張速度:10.0mm/minの条件で、破断伸び率を測定した。
Claims (7)
- 前記第二の重合体が、ポリオキシアルキレン鎖を含む重合体である、請求項1に記載の制振材。
- 前記第二の重合体が、2以上の線状鎖と、前記線状鎖の末端同士を連結する連結基と、を含む重合体であり、前記連結基が、環状基を含む有機基又は分岐状の有機基である、請求項1又は2に記載の制振材。
- 前記第二の重合体の重量平均分子量が5000以上である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の制振材。
- 前記第一の重合体が、単官能ラジカル重合性モノマーを、モノマー単位として更に含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の制振材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015241465A JP6578924B2 (ja) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 制振材用樹脂組成物、及び制振材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015241465A JP6578924B2 (ja) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 制振材用樹脂組成物、及び制振材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017105942A JP2017105942A (ja) | 2017-06-15 |
JP6578924B2 true JP6578924B2 (ja) | 2019-09-25 |
Family
ID=59059208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015241465A Expired - Fee Related JP6578924B2 (ja) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 制振材用樹脂組成物、及び制振材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6578924B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6853987B1 (ja) * | 2020-05-19 | 2021-04-07 | 株式会社タイテックスジャパン | 複合制振材料 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4447493A (en) * | 1982-07-26 | 1984-05-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vibration-damping constrained-layer constructions |
WO2011108515A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
-
2015
- 2015-12-10 JP JP2015241465A patent/JP6578924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017105942A (ja) | 2017-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018177918A (ja) | ポリシロキサンモノマー及びその製造方法 | |
EP2838955A2 (en) | Organo-modified silicone polymers | |
KR20190051005A (ko) | 광학 재료용 중합성 조성물 및 그의 용도 | |
JP6610077B2 (ja) | 光学的立体造形用樹脂組成物、及び立体造形物を製造する方法 | |
WO2011068110A1 (ja) | ピペリジン骨格を有する単量体を用いた重合体の製造方法、及び成型体 | |
JPWO2017030099A1 (ja) | 複合材料、ソルダーレジスト用感光性樹脂組成物、及び感光性エレメント | |
JP6578924B2 (ja) | 制振材用樹脂組成物、及び制振材 | |
JP6520552B2 (ja) | 多孔質樹脂成形体、及び多孔質樹脂成形体形成用組成物 | |
JP2000344823A (ja) | 塊状重合用触媒および該触媒を用いた重合方法 | |
JP6665442B2 (ja) | 接合部材形成用組成物、接合部材、接合体、及び接合部材を製造する方法 | |
JP6525619B2 (ja) | 光硬化する組成物ならびにその組成物から得られる光硬化物および粘接着剤 | |
JP6507928B2 (ja) | 繊維状成形体、及び繊維形成用組成物 | |
WO2017030096A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物、及びその硬化物 | |
JP6717006B2 (ja) | 成形用組成物、樹脂成形体、及び樹脂成形体を製造する方法 | |
JP2017105943A (ja) | 樹脂組成物、及び接着剤 | |
JP6676946B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
WO2017030098A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物、成形用組成物、樹脂成形体、及び樹脂成形体を製造する方法 | |
JP6623612B2 (ja) | 複合体形成用組成物、複合体、及び複合体を製造する方法 | |
JP2009138090A (ja) | ナフタレン化合物を重合して得られる重合体 | |
JP2019044099A (ja) | 立体構造物 | |
WO2020045225A1 (ja) | (メタ)アクリロイル化合物及びその製造方法 | |
JP6415407B2 (ja) | 1,3,4,6−テトラキス((メタ)アクリロイルオキシアルキル)グリコールウリル化合物、その合成方法および該グリコールウリル化合物の利用 | |
JP6665508B2 (ja) | 粘着剤、及び粘着シート | |
EP4286432A1 (en) | Photocurable resin composition and three-dimensional stereolithography product | |
JP2008031134A (ja) | フェノール誘導体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181010 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190812 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6578924 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |