JP6542437B1 - 光沢ニッケルめっき方法及び光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法。 - Google Patents
光沢ニッケルめっき方法及び光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法。 Download PDFInfo
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1.水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に、被めっき物を接触させる光沢ニッケルめっき方法であって、
(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量は0.1〜2.0g/Lであり、
(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量は0.01〜0.5g/Lであり、
(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量は、0.25〜5.0g/Lである、
ことを特徴とする光沢ニッケルめっき方法。
2.前記一次系光沢剤は、ヘテロ原子として硫黄及び窒素を含有する複素環式化合物、及び、含硫黄複素環式化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、項1に記載の光沢ニッケルめっき方法。
3.前記一次系光沢剤は、下記一般式(1)
で表される複素環式化合物である、項1又は2に記載の光沢ニッケルめっき方法。
4.前記一次系光沢剤は、1,2−ベンゾイソチアゾール−3(2H)−オン、サッカリン、N−メチルサッカリン、N−クロロサッカリン、N−ブロモサッカリン、及び、N−ヨードサッカリンからなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜3のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
5.前記二次系光沢剤は、炭素間二重結合及び/又は炭素間三重結合を有する不飽和化合物である、項1〜4のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
6.前記二次系光沢剤は、プロピンスルホン酸ナトリウム、ブチンジオールジエトキシレート、ヘキシンジオール、
下記一般式(2)
で表される不飽和化合物、及び、
下記一般式(3)
で表される不飽和化合物
からなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜5のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
7.前記二次系光沢剤は、2−プロピオ−1−オール(プロパギルアルコール)、プロピンスルホン酸ナトリウム、1,4−ブチンジオール、2−ブチン−1−オール、2−ペンチン−1−オール、ブチンジオールジエトキシレート、2−ヘキシン−1−オール、ヘキシンジオール、2−ヘプチン−1−オール、2−オクチン−1−オール、2−ノシン−1−オール、2−デシン−1−オール、及び、2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオールからなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜6のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
8.前記電位調整剤は、アルデヒド化合物、及び、ジオール化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜7のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
9.前記電位調整剤は、下記一般式(4)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(5)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(6)
で表されるジオール化合物、及び、
下記一般式(7)
で表されるジオール化合物
からなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜8のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
10.前記電位調整剤は、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド、プロパナール、ブタナール、ヘキサナール、3−クロロプロパナール、クロロアセトアルデヒド、抱水クロラール、抱水ブロマール、3−メチルブタナール、2−プロペナール、及び、2−ブテナールからなる群より選択される少なくとも1種である、項1〜9のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
11.光沢ニッケルめっき皮膜の炭素含有量及び硫黄含有量を制御する制御方法であって、
水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に被めっき物を接触させて、光沢ニッケルめっき皮膜を形成する工程を有し、前記工程において、
(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量を0.1〜2.0g/Lとし、
(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量を0.01〜0.5g/Lとし、
(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量を0.25〜5.0g/Lとする、
ことを特徴とする光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法。
本発明の光沢ニッケルめっき方法は、水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に、被めっき物を接触させる光沢ニッケルめっき方法であって、(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量は0.1〜2.0g/Lであり、(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量は0.01〜0.5g/Lであり、(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量は、0.25〜5.0g/Lであることを特徴とする。
水溶性ニッケル化合物としては水に可溶であれば特に限定されず、光沢ニッケルめっき液に用いられる従来公知の水溶性ニッケル化合物が挙げられる。このような水溶性ニッケル化合物としては、硫酸ニッケル6水和物、塩化ニッケル6水和物、炭酸ニッケル4水和物等が挙げられる。これらの中でも、より一層光沢ニッケルめっきの析出性に優れる点で、硫酸ニッケル6水和物、塩化ニッケル6水和物が好ましく、硫酸ニッケル6水和物及び塩化ニッケル6水和物を混合して用いることがより好ましい。
一次系光沢剤としては、光沢ニッケルめっき液の一次系光沢剤として用いることができれば特に限定されず、従来公知の一次系光沢剤を用いることができる。一次系光沢剤としては、例えば、ヘテロ原子として硫黄及び窒素を含有する複素環式化合物、含硫黄複素環式化合物等が挙げられる。これらの中でも、光沢ニッケルめっき皮膜により一層優れた光沢性を付与することができる点で、ヘテロ原子として硫黄及び窒素を含有する複素環式化合物、含硫黄複素環式化合物が好ましく、ヘテロ原子として硫黄及び窒素を含有する複素環式化合物がより好ましい。
二次系光沢剤としては、光沢ニッケルめっき液の二次系光沢剤として用いることができれば特に限定されず、従来公知の二次系光沢剤を用いることができる。二次系光沢剤としては、例えば、炭素間二重結合及び/又は炭素間三重結合を有する不飽和化合物等が挙げられる。これらの中でも、光沢ニッケルめっき皮膜の高耐食性及び高硬度性がより一層向上する点で、炭素間三重結合を有する不飽和化合物が好ましい。
電位調製剤としては、光沢ニッケルめっき皮膜の電位を貴な電位に調整できれば特に限定されず、例えば、アルデヒド化合物、ジオール化合物等を用いることができる。これらの中でも、光沢ニッケルめっき皮膜の炭素含有量をより一層向上させ、且つ、硫黄含有量をより一層低減させて、光沢ニッケルめっき皮膜の高耐食性及び高硬度性をより一層向上させることができ、且つ、光沢ニッケルめっき皮膜の電位をより一層貴な電位にすることができ、ニッケルの溶出がより一層抑制される点で、ジオール化合物が好ましい。
光沢ニッケルめっき液は、上記水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有していればよく、これらを含有する水溶液であることが好ましい。また、光沢ニッケルめっき液は、これらの成分の他に、更に、pH緩衝剤として、ホウ酸、リン酸、亜リン酸、炭酸、それらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等を含有していてもよい。pH緩衝剤の配合量は特に限定的ではないが、例えば0.1〜200g/L程度とすることができる。また、光沢ニッケルめっき液は、上記成分の他に、更に、ピット防止剤として、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等の界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤の配合量は特に限定的ではないが、例えば0.01〜10g/L程度とすることができる。
本発明の光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法は、光沢ニッケルめっき皮膜の炭素含有量及び硫黄含有量を制御する制御方法であって、
水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に被めっき物を接触させて、光沢ニッケルめっき皮膜を形成する工程を有し、前記工程において、
(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量を0.1〜2.0g/Lとし、
(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量を0.01〜0.5g/Lとし、
(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量を0.25〜5.0g/Lとすることを特徴とする。
本発明の光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法では、上記光沢ニッケルめっき液中の一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤の含有量をそれぞれ上記範囲に調整し、当該光沢ニッケルめっき液を用いて被めっき物に電気めっきを施すことにより、形成される光沢ニッケルめっき皮膜中の炭素含有量及び硫黄含有量を適切な範囲に制御することができ、これにより、光沢ニッケルめっき皮膜に高耐食性及び高硬度性を付与することができ、且つ、光沢ニッケルめっき皮膜のニッケルの溶出を抑制することができる。
被めっき物として、下記のSUS板を用意し、実施例及び比較例の光沢ニッケルめっき液を用いて、下記の条件で光沢ニッケルめっき処理を行い、SUS板の両面に光沢ニッケルめっきを形成して、試験片を調製した。
被めっき物:SUS板 5cm×10cm 両面に光沢ニッケルめっき処理
液温:55℃
電流密度:3A/cm2
めっき時間:50分
光沢ニッケルめっき厚み:30μm
被めっき物として、下記の真鍮板を用意し、実施例及び比較例の光沢ニッケルめっき液を用いて、下記の条件で半光沢ニッケルめっき処理、光沢ニッケルめっき処理、クロムめっき処理を順次行い、真鍮板の両面に半光沢ニッケルめっき皮膜/光沢ニッケルめっき皮膜/クロムめっき皮膜の積層皮膜を形成して、試験片を調製した。
半光沢ニッケルめっき処理
液温:55℃
電流密度:3A/cm2
めっき時間:15分
半光沢ニッケルめっき厚み:9μm
光沢ニッケルめっき処理
液温:55℃
電流密度:3A/cm2
めっき時間:10分
光沢ニッケルめっき厚み:6μm
クロムめっき処理
液温:38℃
電流密度:12A/cm2
めっき時間:1分
クロムめっき厚み:0.15μm
被めっき物として、下記の真鍮板を用意し、実施例及び比較例の光沢ニッケルめっき液を用いて、下記の条件で光沢ニッケルめっき処理を行い、真鍮板の両面に光沢ニッケルめっきを形成して、試験片を調製した。
被めっき物:真鍮板 5cm×10cm 両面に光沢ニッケルめっき処理
液温:55℃
電流密度:5A/cm2
めっき時間:50分
光沢ニッケルめっき厚み:50μm
被めっき物として、下記の真鍮板を用意し、実施例及び比較例の光沢ニッケルめっき液を用いて、下記の条件で光沢ニッケルめっき処理を行い、真鍮板の両面に光沢ニッケルめっきを形成して、試験片を調製した。
被めっき物:真鍮板 6cm×6cm 両面に光沢ニッケルめっき処理
液温:55℃
電流密度:3A/cm2
めっき時間:8分
光沢ニッケルめっき厚み:5μm
Claims (5)
- 水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に、被めっき物を接触させる光沢ニッケルめっき方法であって、
(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量は0.1〜0.8g/Lであり、
(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量は0.04〜0.08g/Lであり、
(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量は、0.25〜5.0g/Lであり、
前記一次系光沢剤は、下記一般式(1)
で表される複素環式化合物であり、
前記二次系光沢剤は、プロピンスルホン酸ナトリウム、ブチンジオールジエトキシレート、ヘキシンジオール、
下記一般式(2)
で表される不飽和化合物、及び、
下記一般式(3)
で表される不飽和化合物
からなる群より選択される少なくとも1種であり、
前記電位調整剤は、
下記一般式(4)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(5)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(6)
で表されるジオール化合物、及び、
下記一般式(7)
で表されるジオール化合物
からなる群より選択される少なくとも1種である、
ことを特徴とする光沢ニッケルめっき方法。 - 前記一次系光沢剤は、1,2−ベンゾイソチアゾール−3(2H)−オン、サッカリン、N−メチルサッカリン、N−クロロサッカリン、N−ブロモサッカリン、及び、N−ヨードサッカリンからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の光沢ニッケルめっき方法。
- 前記二次系光沢剤は、2−プロピオ−1−オール(プロパギルアルコール)、プロピンスルホン酸ナトリウム、1,4−ブチンジオール、2−ブチン−1−オール、2−ペンチン−1−オール、ブチンジオールジエトキシレート、2−ヘキシン−1−オール、ヘキシンジオール、2−ヘプチン−1−オール、2−オクチン−1−オール、2−ノシン−1−オール、2−デシン−1−オール、及び、2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオールからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1又は2に記載の光沢ニッケルめっき方法。
- 前記電位調整剤は、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド、プロパナール、ブタナール、ヘキサナール、3−クロロプロパナール、クロロアセトアルデヒド、抱水クロラール、抱水ブロマール、3−メチルブタナール、2−プロペナール、及び、2−ブテナールからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれかに記載の光沢ニッケルめっき方法。
- 光沢ニッケルめっき皮膜の炭素含有量及び硫黄含有量を制御する制御方法であって、 水溶性ニッケル化合物、一次系光沢剤、二次系光沢剤及び電位調整剤を含有する光沢ニッケルめっき液に被めっき物を接触させて、光沢ニッケルめっき皮膜を形成する工程を有し、前記工程において、
(1)前記光沢ニッケルめっき液中の前記一次系光沢剤の含有量を0.1〜0.8g/Lとし、
(2)前記光沢ニッケルめっき液中の前記二次系光沢剤の含有量を0.04〜0.08g/Lとし、
(3)前記光沢ニッケルめっき液中の前記電位調整剤の含有量を0.25〜5.0g/Lとし、
前記一次系光沢剤は、下記一般式(1)
で表される複素環式化合物であり、
前記二次系光沢剤は、プロピンスルホン酸ナトリウム、ブチンジオールジエトキシレート、ヘキシンジオール、
下記一般式(2)
で表される不飽和化合物、及び、
下記一般式(3)
で表される不飽和化合物
からなる群より選択される少なくとも1種であり、
前記電位調整剤は、
下記一般式(4)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(5)
で表されるアルデヒド化合物、
下記一般式(6)
で表されるジオール化合物、及び、
下記一般式(7)
で表されるジオール化合物
からなる群より選択される少なくとも1種である、
ことを特徴とする光沢ニッケルめっき皮膜の制御方法。
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