JP6541160B2 - 細胞処理装置および対象物の処理方法 - Google Patents
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Description
第1領域、第2領域および第3領域を含み、
前記第1領域および前記第2領域は、連続して配置され、
前記第1領域は、細胞を処理する細胞処理室であり、
前記細胞処理室は、前記細胞処理室外から閉鎖可能であり、かつ細胞培養容器を配置する培養容器配置部を含み、
前記第2領域は、
前記培養容器配置部に配置された細胞培養容器に対し、レーザを照射可能なレーザ照射手段と、
前記レーザが被照射物の被照射部に形成するスポットの径を調整するスポット径調整手段を含み、
前記第3領域は、前記細胞処理装置内の少なくとも一つの手段を制御する制御部および前記細胞処理装置内の少なくとも一つの手段に電力を供給する電源供給部を含み、
前記培養容器配置部は、前記細胞処理室において、前記第2領域と隣接するように配置され、
前記培養容器配置部における前記第2領域との隣接部は、透光可能であることを特徴とする。
前記切断対象領域以外の領域に対応する前記光吸収層に光を照射することにより、前記光吸収層上に存在する前記培養物を死滅処理する処理工程とを含み、
前記切断工程における、前記光が前記光吸収層の被照射部に形成する第1のスポット径は、前記処理工程における、前記光が前記光吸収層の被照射部に形成する第2のスポット径と、異なる大きさであることを特徴とする。
前記スポット径調整手段は、前記レンズを変更することにより、前記スポットの径を調整する。
本実施形態は、細胞処理装置の一例である。図1〜図9に、本実施形態の細胞処理装置の構成の一例を示す。図1は、本実施形態の細胞処理装置の構成の一例を示す斜視図であり、図2は、本実施形態の細胞処理装置の第1領域の構成の一例を示す斜視図であり、図3は、図1におけるI−I方向からみた前記第1領域の断面図であり、図4において、(a)は、本実施形態の細胞処理装置における培養容器配置部の一例を示す分解斜視図であり、(b)は、図4(a)におけるIII-III方向からみた断面図であり、図5は、前記第1領域の外壁を外した場合における前記第1領域および循環手段の斜視図であり、図6は、図1におけるII-II方向からみた前記第1領域の上部および前記循環手段の断面図であり、図7において、(a)は、本実施形態の細胞処理装置の第2領域の構成の一例を示す斜視図であり、(b)は、前記第2領域の構成の他の例を示す斜視図であり、図8は、本実施形態の細胞処理装置における制御部の一例を示すブロック図であり、図9は、本実施形態の細胞処理装置の構成の他の例を示す斜視図である。
前記切断対象領域以外の領域に対応する前記光吸収層に光を照射することにより、前記光吸収層上に存在する前記培養物を死滅処理する処理工程とを含み、
前記切断工程における、前記光が前記光吸収層の被照射部に形成する第1のスポット径は、前記処理工程における、前記光が前記光吸収層の被照射部に形成する第2のスポット径と、異なる大きさであることを特徴とする
1 第1領域
11a、11b 開口部
12a、12b 扉
13a 第1のXYステージ
13b アーム
14 吸引吐出手段
15 光源
16a 排液容器配置部
16b 排液容器
16c 先端部材脱離手段
17a 収容容器配置部
17b 収容容器
18 培養容器配置部
181 上蓋
182 底部
183 透光領域
184 細胞培養容器
185 底壁
186 底板
187 凹部
188 突出部
19a 回収容器配置部
19b 回収容器
3 第2領域
31 第2のXYステージ
311a、311b 台車
32 顕微鏡
321a、321b、321c 対物レンズ
33 レーザ照射手段
331 レーザ光源
332 レーザ出射部
333 光ファイバ
5 第3領域
51 制御部
51a CPU
51b メインメモリ
51c 補助記憶デバイス
51d ビデオコーデック
51e I/Oインターフェイス
51f コントローラ
52 電源供給部
7 循環手段
71 吸気部
72 循環流路
73 気体供給部
74 排気部
Claims (8)
- 細胞処理装置であって、
第1領域、第2領域および第3領域を含み、
前記第1領域および前記第2領域は、連続して配置され、
前記第1領域は、細胞を処理する細胞処理室であり、
前記細胞処理室は、前記細胞処理室外から閉鎖可能であり、かつ細胞培養容器を配置する培養容器配置部を含み、
前記第2領域は、
前記培養容器配置部に配置された細胞培養容器に対し、レーザを照射可能なレーザ照射手段と、
前記レーザが被照射物の被照射部に形成するスポットの径を調整するスポット径調整手段と、
前記培養容器配置部に配置された細胞培養容器内の細胞を撮像可能な第2の撮像手段と、
前記レーザ照射手段を移動させるレーザ移動手段と、
前記第2の撮像手段を移動させる第2の撮像移動手段とを含み、
前記第3領域は、前記細胞処理装置内の少なくとも一つの手段を制御する制御部および前記細胞処理装置内の少なくとも一つの手段に電力を供給する電源供給部を含み、
前記培養容器配置部は、前記細胞処理室において、前記第2領域と隣接するように配置され、
前記培養容器配置部における前記第2領域との隣接部は、透光可能であり、
前記制御部は、
前記レーザ照射手段によるレーザ照射および前記レーザ移動手段による前記レーザ照射手段の移動を制御するレーザ制御部と、
前記第2の撮像手段による細胞の撮像および前記第2の撮像移動手段による前記第2の撮像手段の移動を制御する第2の撮像制御部とを含み、
前記レーザ照射手段および前記第2の撮像手段は、独立したユニットとして構成されていることを特徴とする、細胞処理装置。 - 前記レーザ照射手段は、複数のレンズを含み、
前記スポット径調整手段は、前記レンズを変更することにより、前記スポットの径を調整する、請求項1記載の細胞処理装置。 - 前記スポット径調整手段は、前記レーザ照射手段と、前記被照射物との距離を調整することにより、前記スポットの径を調整する、請求項1または2記載の細胞処理装置。
- 前記制御部は、前記スポット径調整手段による前記スポットの径の調整を制御するスポット径調整制御部を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の細胞処理装置。
- 前記第1領域は、前記第2領域の上部に配置されている、請求項1から4のいずれか一項に記載の細胞処理装置。
- 前記レーザ移動手段および前記第2の撮像移動手段は、それぞれ、独立して、前記レーザ照射手段および前記第2の撮像手段を移動可能である、請求項1から5のいずれか一項に記載の細胞処理装置。
- 請求項1から6のいずれか一項に記載の細胞処理装置を用い、
光吸収層および前記光吸収層上に存在する培養物を含む対象物において、前記培養物の切断対象領域に対応する前記光吸収層に前記レーザ照射手段によりレーザを照射することにより、前記光吸収層上に存在する前記培養物を所定形状に切断する切断工程と、
前記切断対象領域以外の領域に対応する前記光吸収層に前記レーザ照射手段によりレーザを照射することにより、前記光吸収層上に存在する前記培養物を死滅処理する処理工程とを含み、
前記切断工程における、前記レーザが前記光吸収層の被照射部に形成する第1のスポット径は、前記処理工程における、前記レーザが前記光吸収層の被照射部に形成する第2のスポット径と、異なる大きさであることを特徴とする、対象物の処理方法。 - 前記第2のスポット径は、前記第1のスポット径より大きい、請求項7記載の対象物の処理方法。
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