JP6527716B2 - 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 - Google Patents

基板処理装置および基板処理装置の制御方法 Download PDF

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Description

本発明は、半導体基板、液晶表示用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に対してフォトレジスト液等を吐出するノズルについて、そのノズルに溶剤等を吸引させる基板処理装置および基板処理装置の制御方法に関する。
従来、基板処理装置として、フォトレジスト等の塗布液を基板に塗布する塗布装置がある。塗布装置は、基板を保持して回転させる保持回転部と、塗布液を吐出する複数の塗布液ノズルと、塗布液ノズルを任意の位置に移動させるノズル移動機構とを備えている。複数の塗布液ノズルは、保持回転部の側方、かつ塗布液ノズルと同数で設けられた待機ポットに各々保持されている（例えば、特許文献１〜３参照）。ノズル移動機構は、待機ポットで待機中の複数の塗布液ノズルのいずれか１つを把持する。
待機ポットは、図１０のように、ダミーディスペンス可能であり、塗布液ノズルを待機させるノズル待機部１３１と、塗布液ノズルの先端内部に溶剤を吸引させるための溶剤吸引部１３５とを備えている。また、塗布装置が１０個の塗布液ノズル１０３を備える場合、図１１のように、待機ポットは、１個のノズル待機部１３１と１個の溶剤吸引部１３５とが１０セット並んで配置された構成となっている。
特許第５４４２２３２号公報 特許第２９２３０４４号公報 特許第４６０６２３４号公報
しかしながら、従来の塗布装置は次のような問題がある。図１１において、塗布液ノズル１０３Ａに溶剤を吸引させる場合、待機ポットへの溶剤供給は、溶剤吸引部１３５Ａだけでなく、吸引動作をさせない他の全ての溶剤吸引部１３５にも行っている。そのため、溶剤使用量が多くなる問題がある。
また、待機ポットの構造が複雑であるので、溶剤吸引部１３５の清掃や溶剤吸引部１３５の部品交換が困難である問題がある。すなわち、塗布液ノズル１０３は、基板に最も近づく部分であり、清潔な状態であることが望まれる。吸引動作は、塗布液ノズルの洗浄と同時に行われ、塗布液ノズルは溶剤と接触する。しかしながら、長期間使用し、何回も吸引動作を行っていると、洗浄しているのか否かがわかりにくい状況が生じる。そこで、溶剤吸引部１３５を定期的に清掃することが望まれる。
しかしながら、図１０，図１１のように、待機ポットは、複雑な構造を有しており、溶剤吸引部１３５は、ノズル待機部１３１近くの込み入った部分にある。そのため、その位置における溶剤吸引部１３５の清掃が困難である。また、ノズル待機部１３１と溶剤吸引部１３５とは、一体的な構造であるので、溶剤吸引部１３５のみを取り外して部品交換することは困難である。さらに、待機ポットの構造が複雑であるので、コスト高となる問題がある。
なお、特許文献２には、ノズル先端部に洗浄液を流し、ノズル先端部を洗浄する専用の洗浄液用チューブがノズルに接続されていることが開示されている。また、特許文献３には、複数の処理液供給ノズルと１本の溶剤供給ノズルとを共通の支持部に一体的に固定した構成が開示されている。各処理液供給ノズルの先端内部に吸引するための各溶剤貯留部に対して、溶剤供給ノズルが順番に移動して溶剤を吐出する。そのため、溶剤の吐出と溶剤の吸引との間には、処理液供給ノズルを水平移動させる動作が必要となる。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、溶剤等の使用量を低減でき、清掃や部品交換を容易にできる基板処理装置および基板処理装置の制御方法を提供することを目的とする。
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、複数の前記第１ノズルよりも少ない個数で設けられ、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部のいずれかに移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とするものである。
本発明に係る基板処理装置によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、少なくとも第２ノズルを吸引部のいずれかに移動させる。そして、移動した第２ノズルから吸引部に第２処理液を吐出させ、第２処理液を吐出した同一の吸引部に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、吸引部は、複数の第１ノズルよりも少ない個数で設けられている。すなわち、吸引部は、複数の第１ノズルで共有する構成となっている。複数の第１ノズルと同数の吸引部を設けないので、吸引部の構造が更にシンプルになる。そのため、コストを抑えることができる。また、複数の第１ノズルと同数の吸引部を設けないので、吸引部の清掃を容易にできる。
また、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、前記第１ノズルを待機させるノズル待機部と、前記ノズル待機部と分離して設けられ、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とするものである。
本発明に係る基板処理装置によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、少なくとも第２ノズルを吸引部に移動させる。そして、移動した第２ノズルから吸引部に第２処理液を吐出させ、第２処理液を吐出した同一の吸引部に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、上述の基板処理装置は、第１ノズルを待機させるノズル待機部を更に備え、吸引部は、ノズル待機部と分離して設けられている。吸引部は、込み入ったノズル待機部と分離して設けられているので、吸引部の清掃が容易にできる。また、ノズル待機部を装着した状態で吸引部を清掃などのために取り外すことができるので、部品交換が容易である。また、上述のように、吸引部には、第２処理液が第２ノズルから供給されるので、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統を設けなくてもよい。そのため、部品交換の際に、供給系統の配管を取り外す作業が省略されるので、部品交換を容易に行うことができる。また、一体の複雑な構造に対して、ノズル待機部および吸引部の各々の構造を更にシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、上述の基板処理装置の一例は、基板を保持して回転する複数の保持回転部を更に備え、前記第２処理液吸引部は、複数の前記保持回転部のうち隣り合う２つの前記保持回転部の間に設けられていることである。第２処理液吸引部までのアクセスがよい効果がある。例えば、ノズル移動機構により、一方の基板（保持回転部）から他方の基板（保持回転部）に、基板処理に使用中の第１ノズルを移動させるとする。この際に、待機中の他の第１ノズルへの吸引動作を効率よく行うことができる。
また、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、前記ノズル移動機構により、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、その移動後に、把持した前記第１ノズル、前記第２ノズルおよび前記吸引部の位置を固定した状態で、前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とするものである。
本発明に係る基板処理装置によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、第１ノズルおよび第２ノズルを吸引部に移動させる。その移動後に、把持した第１ノズル、第２ノズルおよび吸引部の位置を固定した状態で、第２ノズルから吸引部に第２処理液を吐出させる。そして、第２処理液を吐出した同一の吸引部に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、把持した第１ノズル、第２ノズルおよび吸引部の位置を固定させた状態で、第２処理液の吐出と吸引を行うので、吸引動作を効率よく行うことができる。
また、上述の基板処理装置において、前記吸引部は、前記第２ノズルから吐出される第２処理液を受ける受け容器と、前記受け容器と個別に設けられ、前記受け容器と連通する滞留容器と、を有し、前記制御部は、前記第２ノズルから前記受け容器に前記第２処理液を吐出させ、前記滞留容器に滞留した前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させることが好ましい。第２ノズルから第２処理液を受ける受け容器と、第１ノズルに第２処理液を吸引する滞留容器とを個別の容器にする。これにより、第２ノズルによる第２処理液の吐出の際に、第２処理液の跳ね返りが第１ノズルに付着することを防止できる。また、十分な量の第２処理液が滞留容器に溜まるまでの時間を短縮させ、第２処理液の使用量を抑えることができる。なお、第２処理液の跳ね返りが第１ノズルに付着すると、付着した第２処理液の液滴が基板上に落下するおそれが生じる。
また、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部であって、前記第２ノズルから吐出される第２処理液を受ける受け容器および、前記受け容器と個別に設けられ、前記受け容器と連通する滞留容器を有する前記吸引部と、前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記受け容器に前記第２処理液を吐出させ、前記滞留容器に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とするものである。
本発明に係る基板処理装置によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、少なくとも第２ノズルを吸引部に移動させる。そして、移動した第２ノズルから吸引部の受け容器に第２処理液を吐出させ、第２処理液を吐出した同一の吸引部の滞留容器に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。なお、滞留容器は、受け容器と連通する。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、第２ノズルから第２処理液を受ける受け容器と、第１ノズルに第２処理液を吸引する滞留容器とを個別の容器にする。これにより、第２ノズルによる第２処理液の吐出の際に、第２処理液の跳ね返りが第１ノズルに付着することを防止できる。また、十分な量の第２処理液が滞留容器に溜まるまでの時間を短縮させ、第２処理液の使用量を抑えることができる。なお、第２処理液の跳ね返りが第１ノズルに付着すると、付着した第２処理液の液滴が基板上に落下するおそれが生じる。
また、上述の基板処理装置の一例は、前記制御部は、前記ノズル移動機構により、前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記制御部は、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に、前記ノズル移動機構により、把持した前記第１ノズルを少なくとも水平移動させて、この前記第１ノズルの移動後に、前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させることである。これにより、例えば、吸引部をより小型で構成することができ、吸引部の構造を更にシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、上述の基板処理装置において、前記第１処理液の一例は、基板上に塗膜を形成するための塗布液である。これにより、塗布液を吐出する第１ノズルに吸引させる第２処理液の使用量を低減できる。また、上述の基板処理装置において、前記第２処理液の一例は、溶剤である。これにより、吸引させる溶剤の使用量を低減できる。
また、本発明に係る基板処理装置の制御方法は、基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルとを備えた基板処理装置の制御方法であって、複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを、複数の前記第１ノズルよりも少ない個数で設けられた吸引部のいずれかに移動させる工程と、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させる工程と、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる工程と、を備えているものである。
本発明に係る基板処理装置の制御方法によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、少なくとも第２ノズルを吸引部のいずれかに移動させる。そして、移動した第２ノズルから吸引部に第２処理液を吐出させ、第２処理液を吐出した同一の吸引部に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、吸引部は、複数の第１ノズルよりも少ない個数で設けられている。すなわち、吸引部は、複数の第１ノズルで共有する構成となっている。複数の第１ノズルと同数の吸引部を設けないので、吸引部の構造が更にシンプルになる。そのため、コストを抑えることができる。また、複数の第１ノズルと同数の吸引部を設けないので、吸引部の清掃を容易にできる。
本発明に係る基板処理装置およびその制御方法によれば、ノズル移動機構は、複数の第１ノズルのいずれかを選択的に把持し、把持した第１ノズルおよび第２ノズルを一体的に移動させ、少なくとも第２ノズルを吸引部に移動させる。そして、移動した第２ノズルから吸引部に第２処理液を吐出させ、第２処理液を吐出した同一の吸引部に滞留する第２処理液を、把持した第１ノズルに吸引させる。そのため、同一の吸引部で第２処理液の吐出と吸引を行うので、第２処理液の使用量を抑えることができる。また、吸引部には、第２処理液を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、吸引部の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
実施例に係る塗布装置のブロック図である。 実施例に係る塗布装置の平面図である。 （ａ）は、塗布液ノズルと、溶剤ノズルと、縦断面で示した溶剤吸引部との関係を説明するための図であり、（ｂ）は、溶剤吸引部の平面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、吐出吸引動作を説明するための図である。 変形例に係る溶剤吸引部を示す平面図である。 変形例に係る３つの保持回転部と２つの溶剤吸引部を示す平面図である。 変形例に係る待機ポットと溶剤吸引部を示す平面図である。 （ａ）は、変形例に係る溶剤の吐出動作を示す図であり、（ｂ）は、変形例に係る溶剤の吸引動作を示す図である。 （ａ）は、変形例に係る溶剤の吐出動作を示す図であり、（ｂ）は、変形例に係る溶剤の吸引動作を示す図である。 従来の塗布ノズルと、縦断面で示した待機ポットとの関係を説明するための図である。 従来の待機ポットを示す平面図である。
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。図１は、実施例に係る塗布装置のブロック図であり、図２は、実施例に係る塗布装置の平面図である。図３（ａ）は、塗布液ノズルと、溶剤ノズルと、縦断面で示した溶剤吸引部との関係を説明するための図であり、図３（ｂ）は、溶剤吸引部の平面図である。
図１、図２を参照する。塗布装置１は、略水平姿勢で基板Ｗを保持して回転させる保持回転部２を備えている。また、塗布装置１は、基板Ｗに対して塗布液を吐出する塗布液ノズル３と、基板Ｗに対して溶剤を吐出する溶剤ノズル４と、塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を一体的に移動させるノズル移動機構５とを備えている。
塗布液は、基板Ｗ上に塗膜を形成するためのものである。塗布液は、フォトレジスト液、SOG（Spin on glass coating）液、SOD(Spin on dielectric coating)液、ポリイミド樹脂液等が用いられる。溶剤は、例えばシンナーが用いられる。なお、塗布液ノズル３は、本発明の第１ノズルに相当し、溶剤ノズル４は、本発明の第２ノズルに相当する。塗布液は、本発明の第１処理液に相当し、溶剤は、本発明の第２処理液に相当する。
保持回転部２は、例えば真空吸着により基板Ｗの裏面を保持するスピンチャック７と、スピンチャック７を略垂直方向の回転軸ＡＸ周りに回転させる、モータ等で構成された回転駆動部９とを備えている。保持回転部２の周りには、基板Ｗの側方を囲うように、上下移動可能なカップ１１が設けられている。
塗布液ノズル３には、塗布液供給源１３から塗布液配管１５を通じて塗布液が供給される。塗布液配管１５には、サックバック弁ＳＶと開閉弁Ｖ１とポンプＰ１が介在している。開閉弁Ｖ１は塗布液の供給とその停止を行い、サックバック弁ＳＶは開閉弁Ｖ１の動作と組み合わせて、塗布液ノズル３内の塗布液等を吸引し、また、吸引した塗布液等を押し出す。ポンプＰ１は塗布液を塗布液ノズル３に送り出す。なお、塗布液ノズル３は、支持ブロック１７に着脱可能に支持されている。また、塗布液ノズル３が複数の場合は、各々の塗布液ノズル３は、塗布液供給源１３、塗布液配管１５、開閉弁Ｖ１、サックバック弁ＳＶおよびポンプＰ１等の供給系統を備えている。
溶剤ノズル４には、溶剤供給源１９から溶剤配管２１を通じて溶剤が供給される。溶剤配管２１には、開閉弁Ｖ２とポンプＰ２が介在している。開閉弁Ｖ２は溶剤の供給とその停止を行い、ポンプＰ２は溶剤を溶剤ノズル４に送り出す。溶剤は、例えばプリウェット処理で用いられる。すなわち、プリウェット処理は、溶剤ノズル４により溶剤を基板Ｗに吐出し、吐出されて基板Ｗ上に到着した溶剤を基板Ｗの回転により基板Ｗの略全面に広げる。その後、塗布液ノズル３によりフォトレジストを基板Ｗに吐出する。これにより、フォトレジストの膜を素早く均一に塗布することができる。
また、溶剤ノズル４は、ノズル移動機構５に取り付けられている（固定されている）。例えば、図１〜図３のように、単一の溶剤ノズル４が、後述する把持部２３に取り付けられている。また、複数の溶剤ノズル４が１列に並んで取り付けられていてもよい。
ノズル移動機構５は、図２のように、塗布液ノズル３を把持する把持部（グリッパ）２３と、把持部２３を第１方向（Ｘ方向）に水平移動させる第１水平移動部２５とを備えている。また、ノズル移動機構５は、第１方向と略直交する第２方向（Ｙ方向）に把持部２３を水平移動させる第２水平移動部２７と、把持部２３を上下方向（Ｚ方向）に移動させる上下移動部２９とを備えている。
例えば、把持部２３は、第１水平移動部２５により第１方向に移動可能に支持されている。第１水平移動部２５は、上下移動部２９により上下方向に移動可能に支持されている。上下移動部２９は、第２水平移動部２７により第２方向に移動可能に支持されている。把持部２３、第１水平移動部２５、第２水平移動部２７および上下移動部２９は、モータやエアシリンダなどで駆動される。なお、ノズル移動機構５は、第１水平移動部２５および第２水平移動部２７の少なくともいずれかに代えて、水平多関節アームを備えていてもよい。
塗布液ノズル３は、例えば１０個（複数）設けられている。ノズル移動機構５は、基板Ｗに対して塗布液を塗布する場合、１０個の塗布液ノズル３のいずれか１つを選択的に把持し、把持した１つの塗布液ノズル３を、溶剤ノズル４と共に基板Ｗの上方に移動させる。また、ノズル移動機構５は、基板Ｗに対して塗布液を塗布しない場合、通常、塗布液ノズル３を待機ポット３１に移動させる。
待機ポット３１は、塗布液ノズル３を待機させるものであり、塗布液ノズル３を収容できるようになっている。待機ポット３１は、複数の塗布液ノズル３の各々で設けられる。例えば、塗布装置１が１０個の塗布液ノズル３を備える場合、待機ポット３１は、１０個設けられる。待機ポット３１内では、待機された塗布液ノズル３から塗布液をダミーディスペンスできるようになっており、図示しない廃液回収部が設けられている。
図２のように、保持回転部２は、例えば２個（複数）設けられている。なお、保持回転部２は、単一で構成されていてもよい。１０個の待機ポット３１は、待機ポット移動機構３３により、２個の保持回転部２が配置される第１方向（Ｘ方向）に沿って、一体的に移動できるようになっている。待機ポット移動機構３３は、例えば、把持部２３の近くに位置するように、把持部２３の位置に基づいて移動するようになっている。また、待機ポット移動機構３３は、モータ等で駆動される。
なお、待機ポット３１は、本発明のノズル待機部に相当する。また、複数の待機ポット３１の集合体は移動せずに、予め設定された位置に固定されていてもよい。また、複数の待機ポット３１は、互いに分離しているが、互いに分離せずに、一体的に設けられてもよい。
待機ポット３１に待機中の塗布液ノズル３は、所定期間使用しない場合、塗布液ノズル３内の塗布液の乾燥固化を防止するため、ダミーディスペンスが行われる。しかしながら、ダミーディスペンスの回数が多いと塗布液を浪費する。そこで、塗布液ノズル３の先端内部に溶剤を吸引して溶剤の蓋をして、ダミーディスペンスの回数を低減している。塗布装置１は、ノズル移動機構５で把持した塗布液ノズル３に溶剤を吸引させるための溶剤吸引部３５を備えている。
溶剤吸引部３５は、図１０のように、待機ポット３１と一体的でなく、図２のように、待機ポット３１と分離して設けられている。また、溶剤吸引部３５は、隣り合う２個の保持回転部２の間（具体的には２個の保持回転部２および待機ポット３１の間）に１個配置されている。すなわち、溶剤吸引部３５は、１０個（複数）の待機ポット３１に対して１つ設けられている。なお、溶剤吸引部３５は、本発明の吸引部に相当する。
溶剤吸引部３５の具体的な構成を説明する。溶剤吸引部３５は、図３（ａ）、図３（ｂ）のように、溶剤ノズル４から吐出される溶剤を受ける受け容器４１と、受け容器４１と個別に設けられ、受け容器４１と連通する滞留容器４３とを備えている。滞留容器４３は、塗布液ノズル３を収容し、溶剤を滞留させて塗布液ノズル３に溶剤を吸引させるためのものである。受け容器４１に注がれた溶剤は、受け容器４１と連通する滞留容器４３に流れ込む。
受け容器４１の底部と滞留容器４３の底部とは、連通管４５で連結され、溶剤が自由に流れるように構成されている。また、連通管４５は、排出口４７にも連結される。連通管４５は、受け容器４１側の配管４５ａと、滞留容器４３側の配管４５ｂと、排出口４７側の配管４５ｃとを備えている。受け容器４１に注がれた溶剤を滞留容器４３に一時的に滞留させるために、開閉弁を設けず、配管４５ｃを、配管４５ｂよりも溶剤を流れにくくさせている。これにより、滞留容器４３に溶剤をオーバーフローさせて、滞留容器４３に溶剤を比較的穏やかに滞留させる。滞留した溶剤により、塗布液ノズル３内に溶剤を吸引できると共に、塗布液ノズル３の内外を洗浄できる。
なお、排出口４７から流れ出た溶剤は、溶剤吸引部３５の下部に設けられた廃液回収部４９により回収されるように構成される。なお、受け容器４１の底部４１ａは、連通管４５に向けて水平面に対して傾斜している。これにより、溶剤を連通管４５に効率よく送れると共に、受け容器４１に到達した溶剤の跳ね返りを防止している。
図１に戻る。塗布装置１は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）などで構成された制御部５１と、塗布装置１を操作するための操作部５３とを備えている。制御部５１は、塗布装置１の各構成を制御する。操作部５３は、液晶モニタなどの表示部と、ＲＯＭ（Read-only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）、およびハードディスク等の記憶部と、キーボード、マウス、および各種ボタン等の入力部とを備えている。記憶部には、塗布処理の各種条件等が記憶されている。
例えば、制御部５１は、ノズル移動機構５により、把持した塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を溶剤吸引部３５に移動させる。その移動後に、制御部５１は、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の位置（少なくとも水平位置）を固定した状態で、溶剤ノズル４から溶剤吸引部３５の受け容器４１に溶剤を吐出させる。そして、制御部５１は、溶剤を吐出した溶剤吸引部３５の滞留容器４３に滞留する溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。
次に、塗布装置１の一動作例を説明する。ここでは、図２のように、例えば２枚の基板ＷＡ，ＷＢを順番に連続して塗布処理する際に、２枚の基板ＷＡ，ＷＢ（若しくは２個の保持回転部２Ａ，２Ｂ）の間を移動する。この移動の途中において、吸引動作する必要がある待機中の第２塗布液ノズル３Ｂがある場合に、第２塗布液ノズル３Ｂに溶剤の吸引動作を行う。吸引動作は、例えば、塗布液ノズル３からの塗布液等の吐出後、所定時間経過した場合に必要となる。
図２を参照する。第１保持回転部２Ａに保持された基板ＷＡに対して塗布液の塗布終了後、ノズル移動機構５は、基板ＷＡの上方から第１待機ポット３１Ａ上方の所定位置に第１塗布液ノズル３Ａを移動させる。その後、ノズル移動機構５は、第１塗布液ノズル３Ａを下降させて、把持部２３により第１塗布液ノズル３Ａの把持を解放する。これにより、第１塗布液ノズル３Ａは、第１待機ポット３１Ａに待機される。
ノズル移動機構５は、把持部２３を上昇させて、吸引動作が必要な第２塗布液ノズル３Ｂ上方の所定位置まで水平移動する。その後、ノズル移動機構５は、把持部２３を下降させて、把持部２３で第２塗布液ノズル３Ｂを把持させる。なお、第２塗布液ノズル３Ｂに対してダミーディスペンスが必要な場合は、第２待機ポット３１Ｂから移動する前に、第２塗布液ノズル３Ｂ内の塗布液や、以前に吸引した溶剤を吐出しておく。
第２塗布液ノズル３Ｂの把持後、ノズル移動機構５は、把持部２３で把持された第２塗布液ノズル３Ｂを上昇させて、第２塗布液ノズル３Ｂを溶剤吸引部３５上方の所定位置に移動させる。ノズル移動機構５は、第２塗布液ノズル３Ｂを下降させて、図３（ａ）のように、第２塗布液ノズル３Ｂを所定高さに配置させる。
図４（ａ）〜図４（ｃ）は、吐出吸引動作を説明するための図である。本実施例では、制御部５１は、ノズル移動機構５により、把持した塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を溶剤吸引部３５に移動させる。その移動後に、制御部５１は、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の位置（少なくとも水平位置）を固定した状態で、溶剤ノズル４により溶剤吸引部３５の受け容器４１に溶剤を吐出させ、溶剤を吐出した同一の溶剤吸引部３５の滞留容器４３に滞留する溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。
なお、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の水平位置の固定は、略固定であってもよい。
図４（ａ）において、溶剤吸引部３５には、塗布液ノズル３と溶剤ノズル４が収容されている。なお、溶剤ノズル４は、溶剤吸引部３５に収容されず、溶剤吸引部３５の上方に配置されていてもよい。溶剤ノズル４により、溶剤吸引部３５の受け容器４１に対して溶剤を吐出する。受け容器４１に吐出された溶剤は、連通管４５を通じて、滞留容器４３に流入する。配管４５ｃは、配管４５ｂよりも溶剤を流れにくくしている。そのため、滞留容器４３に溶剤をオーバーフローさせて、滞留容器４３に溶剤を比較的穏やかに滞留させる。これにより、図４（ｂ）のように、第２塗布液ノズル３Ｂの先端部分が溶剤に浸される。そのため、第２塗布液ノズル３Ｂの外側面が溶剤により洗浄される。
なお、図４（ａ）のように、塗布液ノズル３の先端内部には、空気等の気体層Ｌ２が形成されている。基板Ｗまたは待機ポット３１等に塗布液を吐出した後、塗布液の液だれ防止のため、サックバック弁ＳＶにより、塗布液ノズル３の先端内部の塗布液が奥に吸引されている。これにより、気体層Ｌ２が形成されている。
図４（ｂ）の状態で、第２塗布液ノズル３Ｂへの吸引動作が行われる。すなわち、サックバック弁ＳＶを駆動させることにより、第２塗布液ノズル３Ｂに溶剤を吸引させる。これにより、第２塗布液ノズル３Ｂの先端内部で乾燥した塗布液を溶解させることができる。また、第２塗布液ノズル３Ｂが溶剤で蓋をされるので、塗布液の乾燥を防止することができる。
滞留容器４３内では、一時的に、第２塗布液ノズル３Ｂが溶剤に浸された状態になる。しかしながら、図４（ｃ）のように、排出口４７を通じて溶剤が排出するので、やがて、全ての溶剤が排出口４７により排出される。第２塗布液ノズル３Ｂには、吐出口５５から順番に、溶剤層Ｌ３、気体層Ｌ２、塗布液層Ｌ１が形成される。
第２塗布液ノズル３Ｂへの吸引動作の後、図２において、ノズル移動機構５は、第２塗布液ノズル３Ｂを上昇させて、溶剤吸引部３５の上方から第２待機ポット３１Ｂ上方の所定位置まで水平移動させる。その後、ノズル移動機構５は、第２塗布液ノズル３Ｂを下降させて、把持部２３により第２塗布液ノズル３Ｂの把持を解放する。これにより、第２塗布液ノズル３Ｂは、第２待機ポット３１Ｂに待機される。
第２塗布液ノズル３Ｂを第２待機ポット３１Ｂに待機させた後、基板ＷＢへの塗布処理を再開する。ノズル移動機構５は、把持部２３を上昇させ、第２待機ポット３１Ｂの上方から第１待機ポット３１Ａの上方の所定位置まで把持部２３を移動させる。移動後、ノズル移動機構５は、把持部２３を下降させ、把持部２３で第１塗布液ノズル３Ａを把持する。その後、ノズル移動機構５は、把持部２３で把持した第１塗布液ノズル３Ａを上昇させ、第１待機ポット３１Ａの上方から基板ＷＢ上方の所定位置まで第１塗布液ノズル３Ａを移動させて塗布処理を行う。
本実施例によれば、ノズル移動機構５は、複数の塗布液ノズル３のいずれかを選択的に把持し、把持した塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を一体的に移動させ、塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を溶剤吸引部３５に移動させる。そして、移動した溶剤ノズル４から溶剤吸引部３５に溶剤を吐出させ、溶剤を吐出した同一の溶剤吸引部３５に滞留する溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。そのため、同一の溶剤吸引部３５で溶剤の吐出と吸引を行うので、溶剤の使用量を抑えることができる。また、溶剤吸引部３５には、溶剤を供給する供給系統が設けなくてもよい。そのため、溶剤吸引部３５の構造をシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、溶剤吸引部３５は、単体で設けられている。すなわち、溶剤吸引部３５は、１０個の塗布液ノズル３で共有する構成となっている。１０個の塗布液ノズル３と同数の溶剤吸引部３５を設けないので、溶剤吸引部３５の構造が更にシンプルになる。そのため、コストを抑えることができる。また、１０個の塗布液ノズル３と同数の溶剤吸引部３５を設けないので、溶剤吸引部３５の清掃を容易にできる。
また、塗布装置１は、塗布液ノズル３を待機させる待機ポット３１を備え、溶剤吸引部３５は、待機ポット３１と分離して設けられている。溶剤吸引部３５は、込み入った待機ポット３１と分離して設けられているので、溶剤吸引部３５の清掃が容易にできる。また、待機ポット３１を装着した状態で溶剤吸引部３５を清掃などのために取り外すことができるので、部品交換が容易である。また、上述のように、溶剤吸引部３５には、溶剤が溶剤ノズル４から供給されるので、溶剤吸引部３５には、溶剤を供給する供給系統を設けなくてもよい。そのため、部品交換の際に、供給系統の配管を取り外す作業が省略されるので、部品交換を容易に行うことができる。また、一体の複雑な構造に対して、待機ポット３１および溶剤吸引部３５の各々の構造を更にシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、塗布装置１は、基板Ｗを保持して回転する複数の保持回転部２を備え、溶剤吸引部３５は、２つの保持回転部２のうち隣り合う２つの保持回転部２の間に設けられている。これにより、溶剤吸引部３５までのアクセスがよい効果がある。例えば、ノズル移動機構５により、一方の基板ＷＡ（第１保持回転部２Ａ）から他方の基板ＷＢ（第２保持回転部２Ｂ）に、基板処理に使用中の第１塗布液ノズル３Ａを移動させるとする。この際に、待機中の他の第２塗布液ノズル３Ｂへの吸引動作を効率よく行うことができる。
また、溶剤吸引部３５は、溶剤ノズル４から吐出される溶剤を受ける受け容器４１と、受け容器４１と個別に設けられ、受け容器４１と連通する滞留容器４３とを備えている。そして、制御部５１は、溶剤ノズル４から受け容器４１に溶剤を吐出させ、滞留容器４３に滞留した溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。溶剤ノズル４から溶剤を受ける受け容器４１と、塗布液ノズル３に溶剤を吸引させる滞留容器４３とを個別の容器にする。これにより、溶剤ノズル４による溶剤の吐出の際に、溶剤の跳ね返りが塗布液ノズル３に付着することを防止できる。また、滞留容器４３に溶剤を溜めやすくできる。そのため、十分な量の溶剤が滞留容器４３に溜まるまでの時間を短縮させ、溶剤の使用量を抑えることができる。なお、溶剤の跳ね返りが塗布液ノズル３に付着すると、付着した溶剤の液滴が基板Ｗ上に落下するおそれが生じる。
また、制御部５１は、ノズル移動機構５により、塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を溶剤吸引部３５に移動させ、その移動後に、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の位置を固定した状態で、溶剤ノズル４から溶剤吸引部３５に溶剤を吐出させ、溶剤吸引部３５に滞留する溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。これにより、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の位置を固定させた状態で、溶剤の吐出と吸引を行うので、吸引動作を効率よく行うことができる。
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
（１）上述した実施例では、溶剤ノズル４は、ノズル移動機構５に取り付けられている。この点、例えば、ノズル移動機構５は、溶剤ノズル４を把持可能な機構を備えて、溶剤ノズル４をノズル移動機構５に取り付けてもよい。この場合、ノズル移動機構５は、把持部２３で塗布液ノズル３を把持し、更に、図示しない把持部で溶剤ノズル４を把持する。
（２）上述した実施例および変形例（１）では、図２のように、溶剤吸引部３５は、隣り合う２つの保持回転部２の間に１つ設けられている。この点、例えば、溶剤吸引部３５は、例えば１０個（複数）の塗布液ノズル３と同数の１０個で設けられていてもよい。溶剤吸引部３５が複数の場合は、図５のように、溶剤吸引部３５の各滞留容器４３に供給される溶剤は、他の滞留容器４３に供給されないように構成される。そのため、各滞留容器４３には、選択的に、溶剤ノズル４から溶剤が供給される。
この場合、制御部５１は、ノズル移動機構５により、１０個の溶剤吸引部３５のいずれかの同一の溶剤吸引部３５に、把持した塗布液ノズル３および溶剤ノズル４を移動させる。吸引動作は、同一の溶剤吸引部３５で溶剤の吐出および吸引が行われる。
また、溶剤吸引部３５は、例えば１０個の塗布液ノズル３よりも少ない個数（複数）で設けられてもよい。１０個の塗布液ノズル３と同数の溶剤吸引部３５を設けないので、溶剤吸引部３５の構造がシンプルになるのでコスト高を抑えることができる。また、１０個の塗布液ノズル３と同数の溶剤吸引部３５を設けないので、溶剤吸引部３５の滞留容器４３の清掃を容易にできる。なお、複数の溶剤吸引部３５は、個々に分離して設けられていることが好ましいが、一体的な構造であってもよい。
（３）上述した実施例および各変形例では、溶剤吸引部３５は、図２において、隣り合う２つの保持回転部２の間に１つ設けられていた。この点、図６のように、例えば、保持回転部２が３つで構成される場合、第１保持回転部２Ａと第２保持回転部２Ｂとの間に、第１溶剤吸引部３５Ａが１つ設けられ、更に、第２保持回転部２Ｂと第３保持回転部２Ｃとの間に、第２溶剤吸引部３５Ｂが１つ設けられてもよい。すなわち、溶剤吸引部３５は、２箇所（複数箇所）に分かれて設置されていてもよい。
また、各々の位置において、第１溶剤吸引部３５Ａおよび第２溶剤吸引部３５Ｂは、１０個の塗布液ノズル３と同数である１０個、あるいは１０個の塗布液ノズル３よりも少ない個数（複数）で設けられてもよい。なお、保持回転部２が４つ以上で構成される場合も同様である。また、図６において、３つの保持回転部３５Ａ〜３５Ｃに対して、保持回転部２は１箇所に設けられてもよい。
（４）上述した実施例および各変形例では、溶剤吸引部３５は、図２において、隣り合う２つの保持回転部２の間に設けられていた。この点、溶剤吸引部３５は、図７は、待機ポット３１と隣接して設けられて、待機ポット移動機構３３により、複数の待機ポット３１の集合体と一体的に移動してもよい。なお、この場合でも、溶剤吸引部３５は、待機ポット３１と分離して設けられ、部品交換を容易に行うことができる。
（５）上述した実施例および各変形例では、溶剤吸引部３５は、図３（ａ）、図３（ｂ）のように、受け容器４１と滞留容器４３の２つの容器を備えていた。この点、溶剤ノズル４からの溶剤の跳ね返り等の影響がほとんどない場合は、滞留容器は、受け容器４１と滞留容器４３を兼ねる１つの容器であってもよい。
（６）上述した実施例および各変形例では、図４（ａ）〜図４（ｃ）のように、把持した塗布液ノズル３、溶剤ノズル４および溶剤吸引部３５の位置（少なくとも水平方向の位置）を固定した状態で、溶剤の吸引動作を行っていた。しかしながら、必要により、それらの位置を固定せずに移動させてもよい。
すなわち、溶剤吸引部６１は、図８（ａ）、図８（ｂ）のように、溶剤を受けて、一時的に溶剤を滞留する単一の滞留容器６５を備えてもよい。制御部５１は、図８（ａ）のように、ノズル移動機構５により、溶剤ノズル４を溶剤吸引部３５（滞留容器６５）に移動させ、移動した溶剤ノズル４から溶剤吸引部６１に溶剤を吐出させる。
制御部５１は、図８（ｂ）のように、溶剤を吐出した同一の溶剤吸引部６１に、ノズル移動機構５により、把持した塗布液ノズル３を少なくとも水平移動（例えば、水平移動＋上下移動）させる。この塗布液ノズル３の移動後に、制御部５１は、溶剤吸引部６１に滞留する溶剤を、把持した塗布液ノズル３に吸引させる。これにより、溶剤吸引部６１をより小型で構成することができる。そのため、溶剤吸引部６１の構造を更にシンプルにでき、コストを抑えることができる。
また、溶剤吸引部７１は、図９（ａ）、図９（ｂ）のように、溶剤を受ける受け容器７３と、溶剤を一時的に滞留する滞留容器７５とを備えてもよい。図９（ａ）、図９（ｂ）の塗布液ノズル３および溶剤ノズル４は、同時に、受け容器７３および滞留容器７５に移動することができない。そのため、図８（ａ）、図８（ｂ）と同様に、溶剤の吐出と溶剤の吸引との動作の間には、水平方向のノズル移動機構５による塗布液ノズル３および溶剤ノズル４の水平移動を行う。なお、図８（ａ）、図８（ｂ）、図９（ａ）および図９（ｂ）において、塗布液ノズル３および溶剤ノズル４に対して、溶剤吸引部６１，７１を水平方向に移動させてもよい。
（７）上述した実施例および各変形例では、滞留容器４３に溜められた溶剤を１回吸引したが、更に、吸引した溶剤を一部又は全部吐き出して、再度吸引させてもよい。また、この溶剤の吸引・吐出の動作を繰り返してもよい。これにより、塗布液が溶解して塗布液の濃度が高い溶剤を吐き出すことができ、比較的新鮮な溶剤を吸引することができる。
（８）上述した実施例および各変形例では、基板処理装置として塗布装置１を例示したが、例えば、現像装置であってもよい。この場合、実施例の塗布液ノズル３は、現像液を吐出し、実施例の溶剤ノズル４は、例えば純水を吐出してもよい。
１ … 塗布装置
２ … 回転保持部
３ … 塗布液ノズル
４ … 溶剤ノズル
５ … ノズル移動機構
２３ … 把持部
３１ … 待機ポット
３５，６１，７１ … 溶剤吸引部
４１，７３ … 受け容器
４３，６５，７５ … 滞留容器
４５ … 連通管
４５ａ〜４５ｃ … 配管
４７ … 排出口
５１ … 制御部
ＳＶ … サックバック弁

Claims (10)

  1. 基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、
    基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、
    複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、
    複数の前記第１ノズルよりも少ない個数で設けられ、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、
    前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部のいずれかに移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
  2. 基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、
    基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、
    複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、
    前記第１ノズルを待機させるノズル待機部と、
    前記ノズル待機部と分離して設けられ、把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、
    前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
  3. 請求項２に記載の基板処理装置において、
    基板を保持して回転する複数の保持回転部を更に備え、
    前記吸引部は、複数の前記保持回転部のうち隣り合う２つの前記保持回転部の間に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
  4. 基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、
    基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、
    複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、
    把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部と、
    前記ノズル移動機構により、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、その移動後に、把持した前記第１ノズル、前記第２ノズルおよび前記吸引部の位置を固定した状態で、前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
  5. 請求項４に記載の基板処理装置において、
    前記吸引部は、前記第２ノズルから吐出される第２処理液を受ける受け容器と、前記受け容器と個別に設けられ、前記受け容器と連通する滞留容器と、を有し、
    前記制御部は、前記第２ノズルから前記受け容器に前記第２処理液を吐出させ、前記滞留容器に滞留した前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させることを特徴とする基板処理装置。
  6. 基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、
    基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルと、
    複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構と、
    把持した前記第１ノズルに前記第２処理液を吸引させる吸引部であって、前記第２ノズルから吐出される第２処理液を受ける受け容器および、前記受け容器と個別に設けられ、前記受け容器と連通する滞留容器を有する前記吸引部と、
    前記ノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記受け容器に前記第２処理液を吐出させ、前記滞留容器に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる制御部とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
  7. 請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記制御部は、前記ノズル移動機構により、前記第２ノズルを前記吸引部に移動させ、移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させ、
    前記制御部は、前記第２処理液を吐出した前記吸引部に、前記ノズル移動機構により、把持した前記第１ノズルを少なくとも水平移動させて、この前記第１ノズルの移動後に、前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させることを特徴とする基板処理装置。
  8. 請求項１から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１処理液は、基板上に塗膜を形成するための塗布液であることを特徴とする基板処理装置。
  9. 請求項１から８のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第２処理液は、溶剤であることを特徴とする基板処理装置。
  10. 基板に対して第１処理液を吐出する複数の第１ノズルと、基板に対して第２処理液を吐出する第２ノズルとを備えた基板処理装置の制御方法であって、
    複数の前記第１ノズルのいずれかを把持し、把持した前記第１ノズルおよび前記第２ノズルを一体的に移動させるノズル移動機構により、少なくとも前記第２ノズルを、複数の前記第１ノズルよりも少ない個数で設けられた吸引部のいずれかに移動させる工程と、
    移動した前記第２ノズルから前記吸引部に前記第２処理液を吐出させる工程と、
    前記第２処理液を吐出した前記吸引部に滞留する前記第２処理液を、把持した前記第１ノズルに吸引させる工程と、
    を備えている基板処理装置の制御方法。
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