JP6502944B2 - シロキサン合成用触媒 - Google Patents
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Description
本技術は、一態様において、環状シロキサンを開環重合するプロセスを提供する。本プロセスは、環状シロキサンをグアニジン含有化合物と接触させることを含む。縮合環系の一部にグアニジン官能基を有するグアニジン含有化合物は、環状シロキサンの開環重合を触媒するのに適し得る。本反応は適切な溶媒中で実行し得る。本反応はまた、触媒の触媒活性が低下しない程度の水の存在下で実行し得る。
環状シロキサンの開環重合は、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)、アルコール末端ポリ(ジメチルシロキサン)およびヘキサメチルジシロキサンの混合物を用いて、触媒としてトリアザビシクロ[4,4,0]デカ−5−エン(TBDとも呼ばれる)を用いて行った。触媒は0.1重量%〜1.4重量%の範囲の装填率で準備した。反応は全て窒素雰囲気下で行った。触媒を固体または水/メタノール溶液として添加した。比較例には、不均一触媒および塩基型触媒を使用した。結果を表1に示す。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるトリアザビシロ[4,4,0]デカ−5−エン(0.4グラム)を添加した。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。14%の揮発分含有率を反応の4時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるトリアザビシロ[4,4,0]デカ−5−エン(0.1グラム)を添加した。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。2.5時間後、反応温度を120℃に上げ、反応混合物をその温度で24時間保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。28.1%の揮発分含有率を反応の24時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるトリアザビシロ[4,4,0]デカ−5−エン(1mlの水に0.4g)を添加した。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。15.5%の揮発分含有率を反応の8時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるトリアザビシロ[4,4,0]デカ−5−エン(2mlのメタノールに0.4グラム)を添加した。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。17.5%の揮発分含有率を反応の24時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(20グラム、0.067モル)、シラノール末端ポリ(ジメチルシロキサン)(80グラム)、およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れる。触媒であるトリアザビシロ[4,4,0]デカ−5−エン(0.4グラム)を添加した。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。20.1%の揮発分含有率を反応の2時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。広く使用されている酸型触媒(0.4重量%)を用いて反応を行った。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。10.2%の揮発分含有率を反応の4時間後に測定した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン(100グラム、0.335モル)およびヘキサメチルジシロキサン(0.82グラム、5.3mmol)を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。広く使用されている塩基型触媒(0.4重量%)を用いて反応を行った。反応混合物を100℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。18.6%の揮発分含有率を反応の5時間後に測定した。
Claims (15)
- 環状シロキサンを二環式グアニジン化合物と接触させることを含む、環状シロキサンを開環重合するプロセス(但し、開始剤を用いる場合を除く)。
- 二環式グアニジンが、環状シロキサンの合計重量に対して0.05重量パーセント〜5重量パーセントの量で存在する、請求項1〜4のいずれかに記載のプロセス。
- 二環式グアニジンが、環状シロキサンの合計重量に対して0.1重量パーセント〜0.4重量パーセントの量で存在する、請求項1〜4のいずれかに記載のプロセス。
- 環状シロキサンが、式(R10R11SiO)n[式中、R10およびR11は、水素または8個までの炭素原子を有する置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アルカリールもしくはアラルキル基から独立して選ばれ、nは、3〜12の値を有する整数を示す]のものである、請求項1〜6のいずれかに記載のプロセス。
- 環状シロキサンが、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(D3)、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチル−1,1−ジフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルペンタシクロシロキサン、シクロペンタ(メチルビニル)シロキサン、シクロテトラ(フェニルメチル)シロキサン、シクロペンタメチルヒドロシロキサンまたはその2種以上の組み合わせから選ばれる、請求項1〜7のいずれかに記載のプロセス。
- 前記環状シロキサンが、互いに異なる環の大きさを有する2種以上の環状シロキサンである、請求項1〜8のいずれかに記載のプロセス。
- シラノール末端ポリ(ジメチルシロキサン)をさらに含む、請求項1〜9のいずれかに記載のプロセス。
- 反応が末端ブロッカー材料を含む、請求項1〜10のいずれかに記載のプロセス。
- 末端ブロッカー材料が、ヘキサメチルジシロキサン;オクタメチルトリシロキサン;デカメチルテトラシロキサン;ドデカメチルペンタシロキサン;テトラデカメチルヘキサシロキサン;ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、またはその2種以上の組み合わせから選ばれる、請求項11に記載のプロセス。
- 触媒を失活させることをさらに含む、請求項1〜12のいずれかに記載のプロセス。
- 触媒を失活させることが、生成物を水で処理することと;生成物中に二酸化炭素を泡立たせることと;触媒を中和する材料で生成物を処理することと、またはその2種以上の組み合わせを含む、請求項13に記載のプロセス。
- 反応混合物を濾過することをさらに含む、請求項13または14に記載のプロセス。
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