JP6498309B2 - 電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法 - Google Patents

電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6498309B2
JP6498309B2 JP2017542541A JP2017542541A JP6498309B2 JP 6498309 B2 JP6498309 B2 JP 6498309B2 JP 2017542541 A JP2017542541 A JP 2017542541A JP 2017542541 A JP2017542541 A JP 2017542541A JP 6498309 B2 JP6498309 B2 JP 6498309B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
electron beam
observation
electron microscope
optical axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017542541A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2017056170A1 (ja
Inventor
雄 山澤
雄 山澤
和利 鍛示
和利 鍛示
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Publication of JPWO2017056170A1 publication Critical patent/JPWO2017056170A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6498309B2 publication Critical patent/JP6498309B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/261—Details
    • H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202—Movement
    • H01J2237/20207—Tilt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202—Movement
    • H01J2237/20221—Translation
    • H01J2237/20235—Z movement or adjustment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/24485—Energy spectrometers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26—Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28—Scanning microscopes
    • H01J2237/2802—Transmission microscopes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は、電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡に関する。
非特許文献１には、走査透過型電子顕微鏡（STEM：Scanning Transmission Microscopy）に電子線エネルギー損失分光装置（EELS：Electron Energy Loss Spectroscopy）を組合せる方法が記載されている。
STEMは、電子線を用いて高い空間分解能で試料の構造を観察する装置である。また、EELSは、STEMの付属装置として取りつけられたエネルギー分光器を用いることにより、試料との相互作用によるエネルギー損失スペクトルを高いエネルギー分解能で取得できる。更に、特定のエネルギーの電子を選択的に検出することにより、エネルギーフィルター像を得ることができる。
電子線が薄膜試料に照射されると、試料を構成する元素の種類や構造に応じて相互作用を受ける。透過した電子線の角度やエネルギーを選択的に検出することにより様々な情報を得ることができる。
例えば、数十mrad以下の低角度で散乱した電子や散乱せずに透過した電子により形成した画像は明視野像と呼ばれる。これに対して、高角度で散乱した電子線には、試料の密度に依存した情報が含まれ、構成元素を識別するのに適しており、暗視野像と呼ばれる。環状検出器によって暗視野像を得る場合、検出する散乱角度範囲には最適値が存在する。加速電圧にも依存するが、例えば200kVでは、20mrad〜300mrad程度の範囲で適切に設定することが望ましい。
同様にEELSでも検出する散乱角度には最適値が存在する。非特許文献２（第61項）には、プラズモン励起などに伴う非弾性散乱された電子が中心ビームより外に拡がるため、検出する散乱角が大きいほど検出効率が高くなり、S/Nの良い分析結果を与えることが記載されている。
特許文献１には、EELSを取り付けたTEM/STEM装置において、環状暗視野電子検出器と明視野電子検出器の間などに電子レンズを配置し、かつ、EELSスペクトロメータの物点を虚像にすることにより、環状暗視野電子検出器への取込角度と明視野電子検出器への取込角度を変更せずに、EELSスペクトロメータへの機械的な入射角度を小さくすることが記載されている。
特開２００４−３１９２３３号公報
R.F. Egerton：Electron Energy-Loss Spectroscopy in the Electron Microscope, Third Edition, Plenum Press 進藤大輔、及川哲夫：材料評価のための分析電子顕微鏡法、共立出版
本願発明者が、一次電子線による試料損傷の回避や、コントラスト強調などを目的に、40kV以下の低加速電圧において、明視野STEM、暗視野像STEMおよびEELSを高分解能観察することについて鋭意検討した結果、次の知見を得るに至った。
なお、以後、「取込角」と表記した場合は、検出器で検出される試料面上に換算した散乱角度を言うことにする。検出器に入射した電子線から見込む角度のことを言う場合は、「入射角」と表記する。
明視野STEM、暗視野像STEMおよびEELSではそれぞれ適切な取込角が異なり、観察条件によって適宜調整することが望ましい。
非特許文献1（第103項）には、取込角を制御する方法として、試料の下流側に配置されたレンズを利用する方法が記載されている。
しかし、試料の下流側に配置されたレンズを用いる場合、中心ビームから外に拡がった電子線を集束させ、取込角を制御することはできるが、このレンズは装置のスペース上の問題により、試料から離れた位置に配置せざるを得ない。この場合、取込角の制御に伴い必然的に色収差が増大し、EELSのエネルギー分解能の悪化を招いてしまう。特に、低い加速電圧では、高い加速電圧と比べて相対的に色収差の影響が生じやすい。
また、非特許文献２に記載のように、検出する散乱角が大きいほどEELSの検出効率は高くなるが、無作為に検出角を増やした場合、エネルギー分光器の収差によってEELSのエネルギー分解能が悪化してしまう場合がある。このため、観察条件によって適切に調整するのことが望ましい。更に、検出器に取り込める散乱角度が同じ場合でも、加速電圧が低いほど検出効率は悪化してしまう。
また、特許文献１では、スペース上の都合により、電子レンズを試料から離れた位置に配置せざるを得ず、よって焦点距離が長くなり、必然的に色収差が問題となってしまう。特許文献１は、TEM/STEMであり、高い加速電圧を前提としているため、色収差の問題に着目していない。
本発明の目的は、低加速電圧において、明視野STEM、暗視野像STEMおよびEELSを高分解能観察することに関する。
本発明は、電子線エネルギー損失分光装置を備えた透過走査型電子顕微鏡において、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更することによりSTEM検出器および電子線エネルギー損失分光装置の取込角を制御することに関する。
本発明によれば、取込角の制御に伴う色収差の発生を抑えつつ、明視野STEM、暗視野STEMおよびEELSのそれぞれに最適な散乱角度を容易に制御できる。
実施例１にかかるEELSを備えたSTEMの概略構成図 対物後方磁界レンズの集束作用を説明する概略図 試料の位置と対物後方磁界レンズの倍率の関係を示すグラフ 実施例１にかかるステージ駆動機構の概略側面図 実施例２にかかる試料ホルダー先端部の要部断面図 実施例２にかかる様々な高さを持つ試料台の断面図
実施例では、一次電子線を放出する電子源と、試料を保持する試料台を移動させるステージ駆動機構と、一次電子線を試料上に集束する対物磁界レンズと、試料上に照射された一次電子線を二次元に走査する走査コイルと、試料を透過した電子を検出するSTEM検出器と、試料を透過した電子のエネルギー損失スペクトルを検出する電子線エネルギー損失分光装置と、を備えた透過走査型電子顕微鏡において、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更することによりSTEM検出器および電子線エネルギー損失分光装置の取込角を制御することを開示する。
また、実施例では、明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の加速電圧が40kV以下である透過走査型電子顕微鏡を開示する。
また、実施例では、明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の切換えに応じて一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更する透過走査型電子顕微鏡を開示する。また、切換えに応じて磁界レンズおよび走査コイルの制御を自動変更する透過走査型電子顕微鏡を開示する。
また、実施例では、ステージ駆動機構の駆動により、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を調整する透過走査型電子顕微鏡を開示する。
また、実施例では、高さが異なる試料台に交換することにより、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を調整する透過走査型電子顕微鏡を開示する。
また、実施例では、電子線エネルギー損失分光装置を備えた透過走査型電子顕微鏡におけるSTEMおよびEELSの観察方法であって、電子源から放出される一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更することによりSTEM検出器および電子線エネルギー損失分光装置の取込角を制御するものを開示する。
また、実施例では、明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の加速電圧が40kV以下である、STEMおよびEELSの観察方法を開示する。
また、実施例では、明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の切換えに応じて一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更する、STEMおよびEELSの観察方法を開示する。また、切換えに応じて、一次電子線を試料上に集束する磁界レンズ、および試料上に照射された一次電子線を二次元に走査する走査コイルの制御を自動変更する、STEMおよびEELSの観察方法を開示する。
また、実施例では、試料を保持する試料台を移動させるステージ駆動機構の制御により、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を調整する、STEMおよびEELSの観察方法を開示する。
また、実施例では、高さが異なる試料台に交換することにより、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を調整する、STEMおよびEELSの観察方法を開示する。
以下、上記及びその他の新規な特徴と効果について図面を用いて説明する。
図１は、実施例１にかかるEELSを備えたSTEMの概略構成図である。電子源１で発生した一次電子線１９は、集束レンズ３および対物前方磁界レンズ７によって試料上に集束される。また、一次電子線１９は、電子光学制御信号発生器２２から電子線走査コイル５に走査信号が供給されることにより、試料面上で走査される。試料３０は、対物レンズの磁界中に配置される。対物レンズのうち、試料３０よりも上側を対物前方磁界レンズ７、下側を対物後方磁界レンズ９とする。試料３０に一次電子線１９が照射された際、二次電子６が発生し、対物前方磁界レンズ７の上部に配置された二次電子検出器２０により検出される。また、試料３０が薄膜もしくは微小な粒子であり、一次電子線１９の加速電圧が十分に高い場合には、散乱電子１０は試料３０を透過する。そして散乱電子１０は、対物後方磁界レンズ９の下部に配置された暗視野STEM検出器１１、明視野STEM検出器１３、またはEELSスペクトル検出器１８により検出される。
明視野STEM検出器１３には、暗視野STEM検出器１１に設けられた開口を通過した電子線が入射される。通常、取込角は必要以上に大きいため、明視野STEM絞り１２を用いて取込角を制限する。
明視野STEM絞り１２と明視野STEM検出器１３が光軸外に退避すると、エネルギー分光器１７には、暗視野STEM検出器１１に設けられた開口を通過した電子線が入射される。これも取込角は必要以上に大きいため、EELS入射絞り１４によって取込角を制限する。多極子レンズ１５は、スペクトル検出器１８上に電子線を集束させる役割を持ち、４極子レンズ１６は、エネルギー分光器１７で発生した色分散を拡大または縮小する役割がある。電子線の損失エネルギーごとに分離させることにより、エネルギースペクトルを得ることができる。
図２は、対物後方磁界レンズの集束作用を説明する概略図である。図３は、試料の位置と対物後方磁界レンズの倍率の関係を示すグラフである。図２と図３を用いて、取込角の制御について説明する。各検出器における取込角は、対物後方磁界レンズ９の角度倍率により調整される。ここで角度倍率Maは|Ma|=β/γで定義される。本実施例では、図２に示すように、βを取込角、γを入射角とする。角度倍率は、図３に示すように、光軸３４方向における試料３０の配置によって変化する。角度倍率が無限大とは、仮想物点３２が無限遠と見なせる状態であり、つまり散乱電子１０が光軸３４に対して並行な軌道となる状態を意味する。対物レンズの構造によっては、散乱電子は複数回集束されることもあり、そのような場合は角度倍率が無限大となる試料の位置は複数箇所に及ぶ。
図４は、本実施例にかかるステージ駆動機構の概略側面図である。本実施例では、光軸３４に対する試料３０の配置を変える具体的な手段として、ステージ駆動機構２１を利用する。対物レンズ内に挿入された試料ホルダー８の先端は微動管２６と接触している。微動管２６は、微動管受け２７により支えられる。Z微動ステージ２８の光軸方向の上下運動が、試料ホルダー８の支持棒に伝わり、回転運動に変換される。結果として試料３０の光軸方向の位置が変化し、明視野STEM、暗視野STEMおよびEELSの取込角が変わる。それぞれ観察条件により適切な取込角が異なるため、適宜、試料の配置をステージ駆動により調整する。この場合、試料の稼働範囲は±0.3mm程度である。
装置には、予め、目的別に複数の観察モードが登録されている。ユーザは必要に応じて、モニタ２３上の画面でモードを選択する。すると、ステージ制御信号発生器３５からZ微動ステージ２８に制御信号が送られ、選択された観察モードに適した試料３０の位置に自動で設定される。このとき、上記観察モードが切替るタイミングで、電子光学制御信号発生器２２から電子線走査コイル５、集束レンズ３および対物レンズに制御信号が送られ、自動で最適な制御値に設定し直される。観察モードは、例えば、EELS高S/Nモード、暗視野STEM重元素観察モードのような名称で登録されている。
光軸３４に対する試料３０の配置によって角度倍率を調整することの利点のひとつは、色収差が小さい光学系が実現できることである。試料３０は、対物レンズの磁界中に配置されているため、焦点距離が極めて小さく、これに伴い散乱電子１０に作用する色収差を抑えることができる。試料３０が一次電子線１９の照射によって損傷を受けないように、またはコントラストをより強調する目的で、低加速電圧で観察する場合、高い加速電圧と比べて相対的に色収差の影響が生じやすいため、上記の構成との相性は非常に良い。
本実施例は、電子顕微鏡の基本的な動作は実施例１と共通であるが、試料の配置を変更する手段として、試料台の交換を利用することが相違する。以下、実施例１との相違点を中心に説明する。
図５は、本実施例にかかる試料ホルダー先端の要部断面図であり、図６は、本実施例にかかる様々な高さを持つ試料台の断面図である。試料台２９は試料ホルダー８の先端部に固定され、散乱電子１０を通す開口を持つ構造となっている。開口の上部には試料が取りつけられる。この試料台は、ネジ、押しばね、または接着ペーストなどにより、取外し可能なように試料ホルダー８の先端部に固定されている。図６に示すように、様々な高さの試料台２９a、２９b、２９cなどが用意され、試料台２９の交換によって試料の光軸方向の配置を変えることができる。この場合、試料台の形状に特段の制限はないため、実施例１と比べて試料の配置を大きく変更することができる。
本実施例は、実施例１と実施例２を組合せて使うものである。つまり、試料３０の光軸方向の配置を変更するために、Z微動ステージ２８の駆動と、試料台２９の交換を合わせて利用することにより、より柔軟な対応が可能となる。
本発明は、加速電圧を100kV以上とできるTEM/STEMにも採用できるが、特に、最大加速電圧が40kV以下の走査型電子顕微鏡に好適である。
１ 電子源
３ 集束レンズ
４ 対物絞り
５ 電子線走査コイル
６ 二次電子
７ 対物前方磁界レンズ
８ 試料ホルダー
９ 対物後方磁界レンズ
１０ 散乱電子
１１ 暗視野STEM検出器
１２ 明視野STEM絞り
１３ 明視野STEM検出器
１４ EELS入射絞り
１５ 多極子レンズ
１６ 4極子レンズ
１７ エネルギー分光器
１８ EELSスペクトル検出器
１９ 一次電子線
２０ 二次電子検出器
２１ ステージ駆動機構
２２ 電子光学制御信号発生器
２３ モニタ
２４ 対物レンズ上磁極
２５ 対物レンズ下磁極
２６ 微動管
２７ 微動管受け
２８ Z微動ステージ
２９ 試料台
２９a 試料台（高）
２９b 試料台（中）
２９c 試料台（低）
３０ 試料
３１ 電子線
３２ 仮想物点
３３ 絞り
３４ 光軸
３５ ステージ制御信号発生器

Claims (12)

  1. 一次電子線を放出する電子源と、
    試料を保持する試料台を移動させるステージ駆動機構と、
    一次電子線を試料上に集束する対物磁界レンズと、
    試料上に照射された一次電子線を二次元に走査する走査コイルと、
    試料を透過した電子を検出するSTEM検出器と、
    試料を透過した電子のエネルギー損失スペクトルを検出する電子線エネルギー損失分光装置と、を備えた透過走査型電子顕微鏡において、
    一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を変更することにより前記STEM検出器および前記電子線エネルギー損失分光装置の取込角を制御することを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  2. 請求項１記載の透過走査型電子顕微鏡において、
    明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の加速電圧が40kV以下であることを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  3. 請求項１記載の透過走査型電子顕微鏡において、
    明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の切換えに応じて一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を変更することを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  4. 請求項３記載の透過走査型電子顕微鏡において、
    前記切換えに応じて前記対物磁界レンズおよび前記走査コイルの制御を自動変更することを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  5. 請求項１記載の透過走査型電子顕微鏡において、
    前記ステージ駆動機構の駆動により、一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を調整することを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  6. 請求項１記載の透過走査型電子顕微鏡において、
    高さが異なる試料台に交換することにより、一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を調整することを特徴とする透過走査型電子顕微鏡。
  7. 電子線エネルギー損失分光装置を備えた透過走査型電子顕微鏡における観察方法であって、
    電子源から放出される一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を変更することによりSTEM検出器および電子線エネルギー損失分光装置の取込角を制御することを特徴とする観察方法。
  8. 請求項７記載の観察方法であって、
    明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の加速電圧が40kV以下であることを特徴とする観察方法。
  9. 請求項７記載の観察方法であって、
    明視野STEM観察、暗視野STEM観察およびEELS観察の切換えに応じて一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を変更することを特徴とする観察方法。
  10. 請求項９記載の観察方法であって、
    前記切換えに応じて、一次電子線を試料上に集束する磁界レンズ、および試料上に照射された一次電子線を二次元に走査する走査コイルの制御を自動変更することを特徴とする観察方法。
  11. 請求項７記載の観察方法であって、
    前記試料を保持する試料台を移動させるステージ駆動機構の制御により、一次電子線の光軸方向に対する試料の配置を調整することを特徴とする観察方法。
  12. 請求項７記載の観察方法であって、
    高さが異なる試料台に交換することにより、一次電子線の光軸方向に対する前記試料の配置を調整することを特徴とする観察方法。
JP2017542541A 2015-09-29 2015-09-29 電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法 Active JP6498309B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/077411 WO2017056170A1 (ja) 2015-09-29 2015-09-29 電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017056170A1 JPWO2017056170A1 (ja) 2018-07-19
JP6498309B2 true JP6498309B2 (ja) 2019-04-10

Family

ID=58422787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017542541A Active JP6498309B2 (ja) 2015-09-29 2015-09-29 電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10373802B2 (ja)
JP (1) JP6498309B2 (ja)
CN (1) CN108140525B (ja)
DE (1) DE112015006826B4 (ja)
WO (1) WO2017056170A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102495839B1 (ko) 2021-11-30 2023-02-06 한국기초과학지원연구원 전자 에너지 손실 분광 분석법을 활용한 유기 반도체 재료의 구조 이미징 방법 및 그 장치

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10522323B2 (en) * 2018-04-05 2019-12-31 Fei Company Electron energy loss spectroscopy with adjustable energy resolution
CN110161063B (zh) * 2019-05-31 2020-06-30 南京大学 一种扫描透射电子束诱导电流分析系统及方法
CN112557430B (zh) * 2020-11-20 2021-10-08 长江存储科技有限责任公司 一种试样的表征方法
CN115464246B (zh) * 2022-09-26 2023-12-22 河北众航高能科技有限公司 一种电子束聚焦磁透镜驱动电路及其电子束焊接设备

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004319233A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡
JP4563733B2 (ja) 2004-06-25 2010-10-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査透過電子顕微鏡及びそれを用いた電子線エネルギー分光方法
JP2006190567A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Hitachi High-Technologies Corp 電子線装置
JP4947965B2 (ja) * 2005-12-06 2012-06-06 ラピスセミコンダクタ株式会社 透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法、観察方法及び構造
JP2009152124A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Panasonic Electric Works Co Ltd 有機多層薄膜材料の構造解析方法
EP2091062A1 (en) * 2008-02-13 2009-08-19 FEI Company TEM with aberration corrector and phase plate
JP5423612B2 (ja) * 2010-08-16 2014-02-19 富士通株式会社 共焦点走査透過型電子顕微鏡装置及び３次元断層像観察方法
US8373137B2 (en) 2010-09-24 2013-02-12 Nion Co. High resolution energy-selecting electron beam apparatus
JP2013033671A (ja) * 2011-08-03 2013-02-14 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
US8598527B2 (en) * 2011-11-22 2013-12-03 Mochii, Inc. Scanning transmission electron microscopy
WO2014155557A1 (ja) 2013-03-27 2014-10-02 富士通株式会社 試料測定装置、試料測定方法、半導体装置の評価方法、およびコンピュータプログラム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102495839B1 (ko) 2021-11-30 2023-02-06 한국기초과학지원연구원 전자 에너지 손실 분광 분석법을 활용한 유기 반도체 재료의 구조 이미징 방법 및 그 장치

Also Published As

Publication number Publication date
DE112015006826T5 (de) 2018-06-21
CN108140525A (zh) 2018-06-08
WO2017056170A1 (ja) 2017-04-06
US20180308659A1 (en) 2018-10-25
CN108140525B (zh) 2020-09-04
DE112015006826B4 (de) 2023-12-28
JPWO2017056170A1 (ja) 2018-07-19
US10373802B2 (en) 2019-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6498309B2 (ja) 電子線エネルギー損失分光装置を備えた走査透過型電子顕微鏡およびその観察方法
JP5404008B2 (ja) 粒子光機器においてサンプルの走査型透過画像を取得する方法
EP2864997B1 (en) Apparatus and method for inspecting a surface of a sample
US9570268B2 (en) Electron gun, charged particle gun, and charged particle beam apparatus using electron gun and charged particle gun
JP6242745B2 (ja) 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる検査方法
KR102139654B1 (ko) 고 및 저 빔 전류 둘 다에 의한 고분해능 이미징을 위한 듀얼 렌즈 총 전자 빔 장치 및 방법
US20170336335A1 (en) Generating an image of an object or a representation of data about the object
JP2007128893A (ja) 粒子光学装置における色収差の補正用の補正器
JP4685637B2 (ja) モノクロメータを備えた走査電子顕微鏡
JP4354197B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JP6266467B2 (ja) 電子顕微鏡、およびモノクロメーターの調整方法
KR20120085303A (ko) 주사 전자 현미경
US10103002B1 (en) Method for generating an image of an object and particle beam device for carrying out the method
JP4523594B2 (ja) 粒子光学装置
JPH11195396A (ja) エネルギーフィルタを有する粒子線装置
KR20170140390A (ko) 필터링된 에너지 확산을 갖는 전자 빔으로 샘플을 이미지화하기 위한 시스템 및 방법
JP5934513B2 (ja) 透過電子顕微鏡
JP7328477B2 (ja) 光電子顕微鏡
JP2018190731A (ja) 粒子ビームを生成するための粒子源及び粒子光学装置
JP6239260B2 (ja) 透過電子顕微鏡
JP5896870B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JP6227866B2 (ja) 荷電粒子装置
EP3379556B1 (en) Scanning transmission electron microscope with a condenser objective system and a method of use thereof
JP2004319233A (ja) 電子顕微鏡
Keshri et al. Lenses and Apertures of A TEM

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180316

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180316

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190312

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6498309

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350