JP7328477B2 - 光電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
また、原子間力顕微鏡という、試料に探針を近接させ、発生する原子間力を一定に保つように探針を走査させて原子間力を一定に保つための電圧を試料位置に対して表示する装置は、原子の配列を観察できるが、あらゆる試料の原子像が観察できるわけではなく、低倍や中倍での観察が困難であることや、組成分析ができないなど像観察以外の機能に乏しいことから、用途は限定的である。
また、SPECS社はミラーを採用した収差補正法を採用しているが、連続電子線のためビームセレクターによる行きと返りの切り分けを必要として、そのため新たな収差を発生させ補正機能の妨げになっていた。(非特許文献2)
それに対し小池らは2段ミラーを採用した新しい収差補正法を提案(非特許文献3)しているが、TEMを対象とするもので、PEEMにそのまま適用するものではなかった。
(1)前記対物レンズ6は、図3に示すように、試料9に対面するヨーク円錐部15の先端13が外半径r1、内半径r2のリング形状をなし、外半径r1は先端13と試料9との距離gの3倍以上であって、光軸12に垂直な面13に対するヨーク円錐部15との角度14を20°以上とし、
ヨーク外周部18に穿孔部17を設けたこと、ただし、形状の不均衡による像の非点収差発生を防ぐために、穿孔部17を軸対称に偶数箇所設けたことを特徴とする電場磁場重畳型の対物レンズと、
(2)前記収差補正器32は、図5に示すように、入射電子線を反射させる静電板20、凹面鏡を形成させる静電板21、球面収差を補正する静電板22、色収差を補正する静電板23を一組とするミラー収差補正器二組を、相対するように同軸上に配置したことを特徴とする二段ミラー収差補正器、とから構成されるPEEMである。
シミュレーションについては、下記プロセスにより実施している。
▲1▼レンズの各部位に印加した電圧により、レンズ周辺の空間に発生する等電位線 を有限要素法により図に表す。
▲2▼同様にレンズに印加した磁気により、周辺に発生する等磁力線を図に表す。
▲3▼資料により発生する光電子線を位置、角度を変えて電場、磁場空間をどのよう に飛行するかを図に表す。
▲4▼その結果を基にレンズ作用の性能を収差の程度で計算する。図3(b)の場合 は4μmという値になった。
全体の光電子顕微鏡の構成を図7に示す。
2.像観察部(蛍光板)
3.試料(薄膜)
4.第一集束レンズ
5.第二集束レンズ
6.対物レンズ
7.投影レンズ
8.光源
9.試料(バルク材料)
10.像観察部(検出器)
11.ヨーク
12.光軸
13.ヨーク先端
14.円錐角
15.ヨーク円錐部
16.シミュレーション図(底面平板状)
17.穿孔部
18.ヨーク外周部
19.シミュレーション図(円錐型)
20.静電板(ミラー部)
21.静電板(凹面鏡形成部)
22.静電板(球面収差補正用)
23.静電板(色収差補正用)
24.電子線
25.電圧可変部
26.二次電子
27.光電子
28.磁場
29.電場
30.試料台
31.スリット
32.収差補正器
33.結像系
g 試料―対物レンズ底面部 距離(ギャップ)
r1 対物レンズ底面円環部外径
r2 対物レンズ底面円環部内径
Claims (2)
- 光源からの光を試料に照射するために、対物レンズのヨーク外周部に穿孔部を軸対称に偶数箇所設けるとともに、前記試料から放出される光電子を対物レンズと収差補正器を介して、拡大像を得る光電子顕微鏡であって、
前記対物レンズは、前記試料に対面するヨーク円錐部の先端が外半径r1、内半径r2からなるリング形状をなし、外半径r1は前記先端と試料台との距離gの3倍以上であって、光軸に垂直な面に対するヨーク円錐部との角度を20°以上とする対物レンズと、
前記収差補正器は、入射電子線を反射させる静電板、凹面鏡を形成させる静電板、球面収差を補正する静電板、色収差を補正する静電板を一組とするミラー型収差補正器二組を、対面するように同軸上に配置したことを特徴とする2段ミラー型収差補正器と、
から構成されることを特徴とする光電子顕微鏡。 - 前記対物レンズは、電場磁場型重畳型対物レンズとすることを特徴とする請求項1記載の光電子顕微鏡。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005127967A (ja) | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Osaka Electro-Communication Univ | 高分解能・化学結合電子・2次イオン顕微鏡装置 |
| WO2008013232A1 (fr) | 2006-07-26 | 2008-01-31 | National University Corporation NARA Institute of Science and Technology | Lentille de type à modération de correction d'aberration sphérique, système de lentille à correction d'aberration sphérique, dispositif de spectroscopie électronique, et microscope électronique optique |
| JP2009094020A (ja) | 2007-10-12 | 2009-04-30 | Topcon Corp | 荷電粒子ビーム反射装置と電子顕微鏡 |
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| WO2018016961A1 (en) | 2016-07-22 | 2018-01-25 | Technische Universiteit Delft | Aberration correcting device for an electron microscope and an electron microscope comprising such a device |
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| WO2008013232A1 (fr) | 2006-07-26 | 2008-01-31 | National University Corporation NARA Institute of Science and Technology | Lentille de type à modération de correction d'aberration sphérique, système de lentille à correction d'aberration sphérique, dispositif de spectroscopie électronique, et microscope électronique optique |
| JP2009094020A (ja) | 2007-10-12 | 2009-04-30 | Topcon Corp | 荷電粒子ビーム反射装置と電子顕微鏡 |
| JP2012173008A (ja) | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Suga Seisakusho:Kk | 光電子顕微鏡 |
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Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| 吉川英樹,放射光励起光電子顕微鏡における対物レンズの開発(I) ,応用物理学関係連合講演会講演予稿集,2001年,Vol.48th No.2,p.724 |
| 小嗣真人,光電子顕微鏡の基礎と応用,表面化学,2016年,Vol.37 No.1,pp.3-8 |
| 朝倉清高,新しいPEEM(光放出電子顕微鏡)を求めて,顕微鏡,2013年,Vol.48 No.3,pp.201-204 |
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