JP6484639B2 - 処理装置、コントローラ及びプログラム - Google Patents

Description

本発明は、被処理体を処理する処理装置で使用される特定の編集ファイルの管理に関する。

従来、基板を処理する基板処理装置等の処理装置は、ＤＲＡＭやＩＣ等のデバイスの製造工程の一工程として、編集ファイルの一つでもある処理条件及び処理手順が定義されたレシピ(プロセスレシピ)に基づいて基板を処理する基板処理工程が実施されてきた。かかる工程を実施する基板処理装置の各部の動作は、制御部によって制御されている。

プロセスレシピは、複数のステップから構成されており、各ステップは、操作画面(レシピ編集画面)上でデータの修正等の編集作業により作成される。そして、編集後、処理ガスの給排状況を表示するガスフローパターン図を操作画面に表示させることで、編集内容の確認が出来る。例えば、特許文献１によれば、プロセスレシピを編集中に操作画面上で、所定の時間何の操作もされない場合に、ログアウト処理と画面切替処理が行われる。これにより、第三者のデータ編集作業を防止している。また、特許文献２によれば、レシピ編集画面からソフトガスパターン画面に切替表示して、各ステップに応じたガスフローパターン図を操作画面(ソフトガスパターン画面)に表示するように構成されている。これにより、処理ガスの給排状況が編集内容に即しているか確認できる。

このように、プロセスレシピは、基板を処理するためのレシピであるため、第三者に自由に編集されると、単に処理基板の品質不良だけでなく、装置の信頼性の損失に関わるため、安全性の確保が対策されている。一方、ガスフローパターン図のような編集ファイルの作成及び修正などの編集は、主に国内で使用していることもあり、特に、制限や権限を設けられていない。

従って、このガスフローパターン図の編集ファイルの作成及び編集は、専用のデータ編集ツールを使用していたが、何らかの理由でこのデータ編集ツールが第三者に渡ってしまい、編集ファイルを悪用される恐れがあった。

特開２００８−１１２９６８号公報 特開２００６−０９３４９４号公報

本発明は、権限の無い第三者への編集ファイルの編集作業を禁止することを目的とする。

本発明の一態様によれば、所定の編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部と、少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルと前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージして生成される前記編集ファイルを前記操作画面に表示する処理と、を実行する制御部と、を含む処理装置が提供される。

本発明に係る処理装置によれば、権限の無い第三者による編集ファイルのデータ改ざんを禁止することができる。

本発明の一実施形態に係る基板処理システムの概要構成図である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置の斜透視図である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置の側面透視図である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置の処理炉の縦断面図である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置が備える基板処理用コントローラ及びその周辺のブロック構成図である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置の操作画面に表示される編集ファイルのインストールの流れを示す例である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置で操作画面に表示される編集ファイルの第三者による編集を防止する例である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置で実行される表示プログラムによる編集ファイルを表示する図示例である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置の操作画面に表示される編集ファイルを作成する専用の編集ツールに関する第三者による編集を防止する図示例である。 本発明の一実施形態に係る基板処理装置で実行される表示プログラムが起動される前に実行されるデータチェック処理を説明するための図である。

＜本発明の一実施形態＞ 以下に、本発明の一実施形態について説明する。

（１）基板処理システムの構成 まず、図１を用いて、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの概要構成図である。

図１に示すように、本実施形態に係る基板処理システムは、少なくとも一台の基板処理装置１００と、この基板処理装置１００とデータ交換可能なように接続される群管理装置５００と、を備えている。基板処理装置１００は、処理手順及び処理条件が定義されたレシピに基づく処理プロセスを実行するように構成されている。基板処理装置１００と群管理装置５００との間は、例えば構内回線（ＬＡＮ）や広域回線（ＷＡＮ）等のネットワーク４００により接続されている。

（２）基板処理装置の構成 続いて、本実施形態に係る基板処理装置１００の構成について、図２，図３を参照しながら説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の斜透視図である。図３は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の側面透視図である。なお、本実施形態にかかる基板処理装置１００は、例えばウエハ等の基板に酸化、拡散処理、ＣＶＤ処理などを行なう縦型の装置として構成されている。

図２、図３に示すように、本実施形態に係る基板処理装置１００は、耐圧容器として構成された筐体１１１を備えている。筐体１１１の正面壁１１１ａの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口１０３が開設されている。正面メンテナンス口１０３には、正面メンテナンス口１０３を開閉する立ち入り機構として一対の正面メンテナンス扉１０４が設けられている。シリコン等のウエハ（基板）２００を収納したポッド（基板収容器）１１０が、筐体１１１内外へウエハ２００を搬送するキャリアとして使用される。

筐体１１１の正面壁１１１ａには、ポッド搬入搬出口（基板収容器搬入搬出口）１１２が、筐体１１１内外を連通するように開設されている。ポッド搬入搬出口１１２は、フロントシャッタ（基板収容器搬入搬出口開閉機構）１１３によって開閉されるようになっている。ポッド搬入搬出口１１２の正面前方側には、載置部としてロードポート（基板収容器受渡し台）１１４が設置されている。ロードポート１１４上には、ポッド１１０を載置されると共に位置合わせされるように構成されている。ポッド１１０は、ＯＨＴ（Ｏｖｅｒｈｅａｄ Ｈｏｉｓｔ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）等の工程内搬送装置（図示せず）によってロードポート１１４上に搬送されるように構成されている。

筐体１１１内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されている。回転式ポッド棚１０５上には、複数個のポッド１１０が保管されるように構成されている。回転式ポッド棚１０５は、垂直に立設されて水平面内で間欠的に回転される支柱１１６と、支柱１１６に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板（基板収容器載置台）１１７と、を備えている。複数枚の棚板１１７は、ポッド１１０を複数個それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。

筐体１１１内におけるロードポート１１４と回転式ポッド棚１０５との間には、ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッド１１０を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ（基板収容器昇降機構）１１８ａと、搬送機構としてのポッド搬送機構（基板収容器搬送機構）１１８ｂとで構成されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送機構１１８ｂとの連続動作により、ロードポート１１４、回転式ポッド棚１０５、ポッドオープナ（基板収容器蓋体開閉機構）１２１との間で、ポッド１１０を相互に搬送するように構成されている。

筐体１１１内の下部には、サブ筐体１１９が筐体１１１内の前後方向の略中央部から後端にわたって設けられている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには、ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が、垂直方向に上下二段に並べられて設けられている。上下段のウエハ搬入搬出口１２０には、ポッドオープナ１２１がそれぞれ設置されている。

各ポッドオープナ１２１は、ポッド１１０を載置する一対の載置台１２２と、ポッド１１０のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構（蓋体着脱機構）１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は、載置台１２２上に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより、ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。

サブ筐体１１９内には、ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された移載室１２４が構成されている。移載室１２４の前側領域にはウエハ移載機構（基板移載機構）１２５が設置されている。ウエハ移載機構１２５は、ウエハ２００を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置（基板移載装置）１２５ａと、ウエハ移載装置１２５ａを昇降させるウエハ移載装置エレベータ（基板移載装置昇降機構）１２５ｂとで構成されている。図２に示すように、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂは、サブ筐体１１９の移載室１２４の前方領域右端部と筐体１１１右側の端部との間に設置されている。ウエハ移載装置１２５ａは、ウエハ２００の載置部としてのツイーザ（基板保持体）１２５ｃを備えている。これらウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ及びウエハ移載装置１２５ａの連続動作により、ウエハ２００をボート（基板保持具）２１７に対して装填（チャージング）及び脱装（ディスチャージング）することが可能に構成されている。

移載室１２４の後側領域には、ボート２１７を収容して待機させる待機部１２６が構成されている。待機部１２６の上方には、処理炉２０２が設けられている。処理炉２０２の下端部は、炉口シャッタ（炉口開閉機構）１４７により開閉されるように構成されている。

図２に示すように、サブ筐体１１９の待機部１２６右端部と筐体１１１右側端部との間には、ボート２１７を昇降させるボートエレベータ（基板保持具昇降機構）１１５が設置されている。ボートエレベータ１１５の昇降台には、連結具としてのアーム１２８が連結されている。アーム１２８には、蓋体としてのシールキャップ２１９が水平に据え付けられている。シールキャップ２１９は、ボート２１７を垂直に支持し、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。

主に、回転式ポッド棚１０５，ボートエレベータ１１５，ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８，ウエハ移載機構（基板移載機構）１２５，ボート２１７及び後述の回転機構２５４により、本実施形態に係る基板搬送系が構成されている。これら回転式ポッド棚１０５，ボートエレベータ１１５，ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８，ウエハ移載機構（基板移載機構）１２５，ボート２１７及び回転機構２５４は、後述のサブコントローラとしての搬送コントローラ１１に電気的に接続されている。

ボート２１７は複数本の保持部材を備えている。ボート２１７は、複数枚（例えば、５０枚〜１２５枚程度）のウエハ２００を、その中心を揃えて垂直方向に整列させた状態でそれぞれ水平に保持するように構成されている。

図２に示すように、移載室１２４のウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ側及びボートエレベータ１１５側と反対側である左側端部には、クリーンユニット１３４が設置されている。クリーンユニット１３４は、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア１３３を供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されている。ウエハ移載装置１２５ａとクリーンユニット１３４との間には、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置（図示せず）が設置されている。

クリーンユニット１３４から吹き出されたクリーンエア１３３は、図示しないノッチ合わせ装置、ウエハ移載装置１２５ａ、待機部１２６にあるボート２１７の周囲を流通した後、図示しないダクトにより吸い込まれて筐体１１１の外部に排気されるか、もしくはクリーンユニット１３４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環されてクリーンユニット１３４によって移載室１２４内に再び吹き出されるように構成されている。

なお、筐体１１１，サブ筐体１１９の外周には基板処理装置１００内への立ち入り機構として図示しない複数の装置カバーが取り付けられている。これら装置カバーは、メンテナンス作業時に取り外して保守員が基板処理装置１００内に立ち入り可能となっている。これら装置カバーと相対する筐体１１１，サブ筐体１１９の端部には、立ち入りセンサとしてのドアスイッチ１３０が設けられている。また、正面メンテナンス扉１０４と相対する筐体１１１の端部にも立ち入りセンサとしてドアスイッチ１３０が設けられている。また、ロードポート１１４上には、ポッド１１０の載置を検知する基板検知センサ１４０が設けられている。これらドアスイッチ１３０及び基板検知センサ１４０等のスイッチ，センサ類１５は、後述の基板処理装置用コントローラ２４０に電気的に接続されている。

（３）基板処理装置の動作 次に、本実施形態にかかる基板処理装置１００の動作について、図２，図３を参照しながら説明する。

図２、図３に示すように、ポッド１１０が工程内搬送装置（図示せず）によってロードポート１１４に供給されると、基板検知センサ１４０によりポッド１１０が検知され、ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放される。そして、ロードポート１１４の上のポッド１１０が、ポッド搬送装置１１８によってポッド搬入搬出口１１２から筐体１１１内部へと搬入される。

筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０は、ポッド搬送装置１１８によって回転式ポッド棚１０５の棚板１１７上へ自動的に搬送されて一時的に保管される。その後、ポッド１１０は、棚板１１７上から一方のポッドオープナ１２１の載置台１２２上に移載される。なお、筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０は、ポッド搬送装置１１８によって直接ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に移載されてもよい。この際、ポッドオープナ１２１のウエハ搬入搬出口１２０はキャップ着脱機構１２３によって閉じられており、移載室１２４内にはクリーンエア１３３が流通され、充満されている。例えば、移載室１２４内にクリーンエア１３３として窒素ガスが充満することにより、移載室１２４内の酸素濃度が例えば２０ｐｐｍ以下となり、大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されている。

載置台１２２上に載置されたポッド１１０は、その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口が開放される。その後、ウエハ２００は、ウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてポッド１１０内からピックアップされ、ノッチ合わせ装置にて方位が整合された後、移載室１２４の後方にある待機部１２６内へ搬入され、ボート２１７内に装填（チャージング）される。ボート２１７内にウエハ２００を装填したウエハ移載装置１２５ａは、ポッド１１０に戻り、次のウエハ２００をボート２１７内に装填する。

この一方（上段または下段）のポッドオープナ１２１におけるウエハ移載機構１２５によるウエハ２００のボート２１７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ１２１の載置台１２２上には、別のポッド１１０が回転式ポッド棚１０５上からポッド搬送装置１１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ１２１によるポッド１１０の開放作業が同時進行される。

予め指定された枚数のウエハ２００がボート２１７内に装填されると、炉口シャッタ１４７によって閉じられていた処理炉２０２の下端部が、炉口シャッタ１４７によって開放される。続いて、ウエハ２００群を保持したボート２１７は、シールキャップ２１９がボートエレベータ１１５によって上昇されることにより処理炉２０２内へ搬入（ローディング）されていく。

ローディング後は、処理炉２０２内にてウエハ２００に任意の処理が実施される。処理後は、ノッチ合わせ装置１３５でのウエハの整合工程を除き、上述の手順とほぼ逆の手順で、処理後のウエハ２００を格納したボート２１７が処理室２０１内より搬出され、処理後のウエハ２００を格納したポッド１１０が筐体１１１外へと搬出される。

（４）処理炉の構成 続いて、本実施形態にかかる処理炉２０２の構成について、図４を用いて説明する。図４は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置１００の処理炉２０２の縦断面図である。

図４に示すように、処理炉２０２は、反応管としてのプロセスチューブ２０３を備えている。プロセスチューブ２０３は、内部反応管としてのインナーチューブ２０４と、その外側に設けられた外部反応管としてのアウターチューブ２０５と、を備えている。インナーチューブ２０４は、例えば石英（ＳｉＯ_２）または炭化シリコン（ＳｉＣ）等の耐熱性材料により構成されている。インナーチューブ２０４は、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。インナーチューブ２０４内の筒中空部には、基板としてのウエハ２００を処理する処理室２０１が形成されている。処理室２０１内は、後述するボート２１７を収容可能なように構成されている。アウターチューブ２０５は、インナーチューブ２０４と同心円状に設けられている。アウターチューブ２０５は、内径がインナーチューブ２０４の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。アウターチューブ２０５は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料により構成されている。

プロセスチューブ２０３の外側には、プロセスチューブ２０３の側壁面を囲うように、加熱機構としてのヒータ２０６が設けられている。ヒータ２０６は円筒形状に構成されている。ヒータ２０６は、保持板としてのヒータベース２５１に支持されることにより垂直に据え付けられている。

アウターチューブ２０５の下方には、アウターチューブ２０５と同心円状になるように、マニホールド２０９が配設されている。マニホールド２０９は、例えばステンレス等により構成されている。マニホールド２０９は、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド２０９は、インナーチューブ２０４の下端部とアウターチューブ２０５の下端部とにそれぞれ係合している。マニホールド２０９は、インナーチューブ２０４の下端部とアウターチューブ２０５の下端部とを支持するように設けられている。なお、マニホールド２０９とアウターチューブ２０５との間には、シール部材としてのＯリング２２０ａが設けられている。マニホールド２０９がヒータベース２５１に支持されることにより、プロセスチューブ２０３は垂直に据え付けられた状態となっている。プロセスチューブ２０３とマニホールド２０９とにより反応容器が形成される。

後述するシールキャップ２１９には、ガス導入部としての処理ガスノズル２３０ａ及びパージガスノズル２３０ｂが処理室２０１内に連通するように接続されている。処理ガスノズル２３０ａには、処理ガス供給管２３２ａが接続されている。処理ガス供給管２３２の上流側（処理ガスノズル２３０ａとの接続側と反対側）には、ガス流量制御器としてのＭＦＣ（マスフローコントローラ）２４１ａを介して、図示しない処理ガス供給源等が接続されている。また、パージガスノズル２３０ｂには、パージガス供給管２３２ｂが接続されている。パージガス供給管２３２ｂの上流側（パージガスノズル２３０ｂとの接続側と反対側）には、ガス流量制御器としてのＭＦＣ（マスフローコントローラ）２４１ｂを介して、図示しないパージガス供給源等が接続されている。

主に、処理ガス供給源（図示しない）、ＭＦＣ２４１ａ、処理ガス供給管２３２ａ及び処理ガスノズル２３０ａにより、本実施形態に係る処理ガス供給系が構成されている。主に、パージガス供給源（図示しない）、ＭＦＣ２４１ｂ、パージガス供給管２３２ｂ及びパージガスノズル２３０ｂにより、本実施形態に係るパージガス供給系が構成されている。主に、処理ガス供給系及びパージガス供給系により、本実施形態に係るガス供給系が構成されている。ＭＦＣ２４１ａ，２４１ｂには、後述のサブコントローラとしてのガス供給コントローラ１４が電気的に接続されている。

マニホールド２０９には、処理室２０１内の雰囲気を排気する排気管２３１が設けられている。排気管２３１は、インナーチューブ２０４とアウターチューブ２０５との隙間によって形成される筒状空間２５０の下端部に配置されている。排気管２３１は、筒状空間２５０に連通している。排気管２３１の下流側（マニホールド２０９との接続側と反対側）には、圧力検知器としての圧力センサ２４５、例えばＡＰＣ（Ａｕｔｏ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｃｏｎｔｏｒｏｌｌｅｒ）として構成された圧力調整装置２４２、真空ポンプ等の真空排気装置２４６が上流側から順に接続されている。主に、排気管２３１、圧力センサ２４５、圧力調整装置２４２及び真空排気装置２４６により、本実施形態に係るガス排気機構が構成されている。圧力調整装置２４２及び圧力センサ２４５には、後述のサブコントローラとしての圧力コントローラ１３が電気的に接続されている。

マニホールド２０９の下方には、マニホールド２０９の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体としてのシールキャップ２１９が設けられている。シールキャップ２１９は、マニホールド２０９の下端に垂直方向下側から当接されるようになっている。シールキャップ２１９は、例えばステンレス等の金属により構成されている。シールキャップ２１９は、円盤状に形成されている。シールキャップ２１９の上面には、マニホールド２０９の下端と当接するシール部材としてのＯリング２２０ｂが設けられている。

シールキャップ２１９の中心部付近であって処理室２０１と反対側には、ボートを回転させる回転機構２５４が設置されている。回転機構２５４の回転軸２５５は、シールキャップ２１９を貫通してボート２１７を下方から支持している。回転機構２５４は、ボート２１７を回転させることでウエハ２００を回転させることが可能に構成されている。

シールキャップ２１９は、プロセスチューブ２０３の外部に垂直に設備された基板保持具昇降機構としてのボートエレベータ１１５によって、垂直方向に昇降されるように構成されている。シールキャップ２１９を昇降させることにより、ボート２１７を処理室２０１内外へ搬送することが可能に構成されている。回転機構２５４及びボートエレベータ１１５には、後述のサブコントローラとしての搬送コントローラ１１が電気的に接続されている。

上述したように、基板保持具としてのボート２１７は、複数枚のウエハ２００を水平姿勢でかつ互いに中心を揃えた状態で整列させて多段に保持するように構成されている。ボート２１７の下部には、断熱部材としての断熱板２１６が水平姿勢で多段に複数枚配置されている。断熱板２１６は、ウエハ２００と同じ円板形状に形成されている。ここで、断熱板２１６は、ヒータ２０６からの熱をマニホールド２０９側に伝えにくくするように構成されている。

プロセスチューブ２０３内には、温度検知器としての温度センサ２６３が設置されている。主に、ヒータ２０６及び温度センサ２６３により、本実施形態に係る加熱機構が構成されている。これらヒータ２０６と温度センサ２６３とには、後述のサブコントローラとしての温度コントローラ１２が電気的に接続されている。

主に、ガス排気機構、ガス供給系、加熱機構により、本実施形態に係る基板処理系が構成されている。

（５）処理炉の動作 続いて、半導体デバイスの製造工程の一工程として、上記構成に係る処理炉２０２を用いてＣＶＤ法によりウエハ２００上に薄膜を形成する方法について、図４を参照しながら説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置１００を構成する各部の動作は基板処理装置用コントローラ２４０により制御される。

複数枚のウエハ２００がボート２１７に装填（ウエハチャージ）されると、図４に示すように、複数枚のウエハ２００を保持したボート２１７は、ボートエレベータ１１５によって持ち上げられて処理室２０１内に搬入（ボートローディング）される。この状態で、シールキャップ２１９はＯリング２２０ｂを介してマニホールド２０９の下端をシールした状態となる。

処理室２０１内が所望の圧力（真空度）となるように、真空排気装置２４６によって真空排気される。この際、圧力センサ２４５が測定した圧力値に基づき、圧力調整装置２４２（の弁の開度）がフィードバック制御される。また、処理室２０１内が所望の温度となるように、ヒータ２０６によって加熱される。この際、温度センサ２６３が検知した温度値に基づき、ヒータ２０６への通電量がフィードバック制御される。続いて、回転機構２５４により、ボート２１７及びウエハ２００が回転させられる。

次いで、処理ガス供給源から供給されてＭＦＣ２４１ａにて所望の流量となるように制御された処理ガスは、ガス供給管２３２ａ内を流通してノズル２３０ａから処理室２０１内に導入される。導入された処理ガスは処理室２０１内を上昇し、インナーチューブ２０４の上端開口から筒状空間２５０内に流出して排気管２３１から排気される。ガスは、処理室２０１内を通過する際にウエハ２００の表面と接触し、この際に熱ＣＶＤ反応によってウエハ２００の表面上に薄膜が堆積（デポジション）される。

予め設定された処理時間が経過すると、パージガス供給源から供給されてＭＦＣ２４１ｂにて所望の流量となるように制御されたパージガスが処理室２０１内に供給され、処理室２０１内が不活性ガスに置換されるとともに、処理室２０１内の圧力が常圧に復帰される。

その後、ボートエレベータ１１５によりシールキャップ２１９が下降されてマニホールド２０９の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ２００を保持するボート２１７がマニホールド２０９の下端からプロセスチューブ２０３の外部へと搬出（ボートアンローディング）される。その後、処理済のウエハ２００はボート２１７より取り出され、ポッド１１０内へ格納される（ウエハディスチャージ）。

（６）基板処理装置用コントローラの構成 続いて、処理炉２０２を構成する各部の動作を制御する基板処理装置用コントローラ２４０及びその周辺のブロック構成を、図５を参照しながら説明する。

図５は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置が備える基板処理用コントローラ及びその周辺のブロック構成図である。

（基板処理装置用コントローラ） 基板処理装置用コントローラ２４０は、制御部としてのＣＰＵ（中央処理装置）１ａ、一時記憶部としてのメモリ（ＲＡＭ）１ｂ、記憶部としての固定記憶装置としてのハードディスク（ＨＤＤ）１ｃ、通信制御部としての送受信モジュール１ｄ、時計機能（図示せず）を備えたコンピュータとして構成されている。ハードディスク１ｃには、プロセスレシピとしての基板処理レシピや保守レシピとしてのクリーニングレシピ等のレシピファイル等の編集ファイルの他、表示プログラムファイル等の各種プログラムファイル、各種画面ファイル、各種アイコンファイル等（いずれも図示せず）が格納されている。本実施の形態において、記憶部には、ガスフローパターン図を編集するための編集ファイル、ガスフローパターン図を表示させるためのデータファイルとしてのアイテムファイル及び図面ファイルとしてのビットマップファイルが格納される。本実施形態において、以後、プロセスレシピやクリーニングレシピをレシピファイルと称し、ガスフローパターン図を作成する専用のデータ編集ツールにより作成された編集ファイルを単に編集ファイルと称して、区別する。

基板処理レシピは、ウエハ２００を処理する処理条件や処理手順等が定義されたレシピである。また、レシピファイルには、搬送コントローラ１１、温度コントローラ１２、圧力コントローラ１３、ガス供給コントローラ１４等のサブコントローラに送信する設定値（制御値）や送信タイミング等が、基板処理のステップ毎に設定されている。

基板処理装置用コントローラ２４０には、操作部としてのタッチパネル７が接続されている。タッチパネル７は、上述の基板搬送系、基板処理系への操作コマンドの入力を受け付ける操作画面(表示部)を表示するように構成されている。かかる表示部としての操作画面は、基板搬送系や基板処理系の状態を確認したり、基板搬送系や基板処理系への動作指示を入力したりするための各種表示欄及び操作ボタンを備えている。なお、操作部はタッチパネル７として構成されている場合に限らず、パソコン等の操作端末(端末装置)のように、モニタ(表示部)とキーボード(入力部)とにより構成されていてもよい。

ＣＰＵ（Central Processing Unit)１ａは、基板処理装置用コントローラ２４０の中枢を構成し、図示しないＲＯＭに記憶された制御プログラムを実行し、操作パネル７からの指示に従って、レシピ記憶部としてのＨＤＤ１ｃに記憶されているレシピ（例えば、プロセス用レシピ）を実行する。ＲＯＭは、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュメモリ、ハードディスクなどから構成され、ＣＰＵ１ａの動作プログラム等を記憶する記録媒体である。メモリ(ＲＡＭ)１ｂは、ＣＰＵ１ａのワークエリア(一時記憶部)などとして機能する。 本発明の実施の形態にかかる基板処理装置用コントローラ２４０は、専用のシステムによらず、通常のコンピュータシステムを用いて実現可能である。例えば、汎用コンピュータに、上述の処理を実行するためのプログラムを格納した記録媒体（フレキシブルディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＵＳＢなど）から当該プログラムをインストールすることにより、上述の処理を実行する基板処理装置用コントローラ２４０を構成することができる。

そして、これらのプログラムを供給するための手段は任意である。上述のように所定の記録媒体を介して供給できる他、例えば、通信回線、通信ネットワーク、通信システムなどを介して供給してもよい。この場合、例えば、通信ネットワークの掲示板に当該プログラムを掲示し、これをネットワークを介して搬送波に重畳して提供してもよい。そして、このように提供されたプログラムを起動し、ＯＳの制御下で、他のアプリケーションプログラムと同様に実行することにより、上述の処理を実行することができる。

（基板処理装置用コントローラと群管理装置との接続） 基板処理装置用コントローラ２４０の送受信モジュール１ｄは、ホストコンピュータやモニタサーバ等の群管理装置５００に、ネットワーク４００を介して通信可能に接続されている。

送受信モジュール１ｄは、群管理装置５００との通信を制御するように構成されている。

（基板処理装置用コントローラとサブコントローラとの接続） 基板処理装置用コントローラ２４０の送受信モジュール１ｄには、サブコントローラとしての搬送コントローラ１１、温度コントローラ１２、圧力コントローラ１３、ガス供給コントローラ１４、及びスイッチ，センサ類１５がそれぞれ接続されている。

搬送コントローラ１１は、基板搬送系を構成する回転式ポッド棚１０５，ボートエレベータ１１５、ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８、ウエハ移載機構（基板移載機構）１２５、ボート２１７及び回転機構２５４の搬送動作をそれぞれ制御するように構成されている。また、図示しないが基板搬送系を構成する回転式ポッド棚１０５，ボートエレベータ１１５，ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８，ウエハ移載機構（基板移載機構）１２５，ボート２１７及び回転機構２５４には、それぞれセンサが内蔵されている。搬送コントローラ１１は、これらのセンサがそれぞれ所定の値や異常な値等を示した際に、基板処理装置用コントローラ２４０にその旨の通知を行うように構成されている。

温度コントローラ１２は、処理炉２０２のヒータ２０６の温度を制御することで処理炉２０２内の温度を調節すると共に、温度センサ２６３が所定の値や異常な値等を示した際に、基板処理装置用コントローラ２４０にその旨の通知を行うように構成されている。

圧力コントローラ１３は、圧力センサ２４５により検知された圧力値に基づいて、処理室２０１内の圧力が所望のタイミングにて所望の圧力となるように、圧力調整装置２４２を制御すると共に、圧力センサ２４５が所定の値や異常な値等を示した際に、基板処理装置用コントローラ２４０にその旨の通知を行うように構成されている。

ガス供給コントローラ１４は、処理ガス供給管２３２ａ，パージガス供給管２３２ｂからのガスの供給や停止を、ガスバルブ（図示せず）を開閉させることにより制御するように構成されている。また、ガス供給コントローラ１４は、処理室２０１内に供給するガスの流量が所望のタイミングにて所望の流量となるように、ＭＦＣ２４１ａ，２４１ｂを制御するように構成されている。ガス供給コントローラ１４は、ガスバルブ（図示せず）やＭＦＣ２４１ａ，２４１ｂの備えるセンサ（図示せず）が所定の値や異常な値等を示した際に、基板処理装置用コントローラ２４０にその旨の通知を行うように構成されている。

ドアスイッチ１３０及び基板検知センサ１４０等のスイッチ，センサ類１５は、筐体１１１，サブ筐体１１９，正面メンテナンス扉１０４等の開閉や、ロードポート１１４上へのポッド１１０の載置を検知して、基板処理装置用コントローラ２４０にその旨の通知を行うように構成されている。

（本発明の好ましい実施形態）次に、具体的な編集ファイルの一実施例として、ガスフローパターン図に関して図６〜図１０を用いて説明する。

（第１の実施形態）先ず、ガスフローパターン図を編集するための編集ツールで編集ファイルを作成し、装置操作部を表示するまでの流れを、図６に示す。ソフトウェアガスパターン専用の編集ツールで、上記編集ファイル(新フォーマット)を作成する。そして、この編集ファイルが基板処理装置の基板処理装置用コントローラ２４０にインストールされると共に、編集ファイルは、ビットマップファイルとアイテムファイルに分離され、この分離されたビットマップファイルとアイテムファイルが、前記基板処理装置の基板処理装置用コントローラ２４０にインストールされる。

基板処理装置用コントローラ２４０の再起動の初期化時に、ガスフローパターン図に変更があったことを検知(データ変更検知処理)して認証処理を行う。そして、このパスワード認証処理でＯＫと判定されると、操作表示部が起動されて表示プログラムの実行によりガスフローパターン図が表示される。尚、パスワード認証処理でＮＧと判定されると、操作表示部が起動されないように構成されている。ここで、データ変更検知処理は、従前の最後に保存されたアイテムファイルをコピーしておき、このアイテムファイルと編集ファイルのデータ部（アイテムファイルに相当するデータ部分）が比較され、ガスフローパターン図のデータ変更を検知する処理である。このようにして、ガスフローパターン図を編集するための編集ファイルが修正されていることを検知することができる。尚、パスワード認証処理については後述する。

これら編集ファイルとアイテムファイルは暗号化されているので直接、修正することができない。たとえデータ構造を解析して編集ツールを使わずに直接、修正したとしても暗号を復元する際に改ざんを検知し表示できないようにする。このデータ改ざんをチェックする処理の詳細については、後述するのでここでは説明は省略する。

図８は、基板処理装置用コントローラ２４０が上記表示プログラムによりガスフローパターン図を表示する仕組み(装置操作部の表示方式)を示した一実施例である。このように、ビットマップファイルとアイテムファイルの２つに分離されたファイルをマージ (合成)して、ガスフローパターン図を作成し、操作表示部に表示するように構成されている。

尚、作業者のログイン処理により、表示プログラムが起動するように構成しても良い。ここで、基板処理装置用コントローラ２４０による表示プログラムの実行によりガスフローパターン図が表示された場合でも、権限が無い作業者によるガスフローパターン図におけるバルブ開閉条件等の設定変更を行えないようにすることができる。また、権限が無い作業者がログインした場合には、表示プログラムが実行されないように構成しても良い。

本実施の形態(第１の実施形態)によれば、以下の(ａ)〜(ｂ)に記載の効果のうち少なくとも一つ以上の効果を奏する。

(ａ) 本実施の形態(第１の実施形態)によれば、データ編集ツールを紛失しても編集ファイルが修正されていれば、パスワードによる認証処理を行うことにより、第三者の編集ファイルの編集作業を防止することができるので、データの流出を防ぐことができる。

(ｂ)本実施の形態(第１の実施形態)によれば、データ編集ツールを紛失してもデータ変更検知処理を行い、編集ファイルのデータが変更されていれば、パスワード認証処理を行うようにしているので、第三者の編集ファイルの編集作業を防止することができるので、データの流出を防ぐことができる。

(ｃ)本実施の形態(第１の実施形態)によれば、データ編集ツールを紛失しても編集ファイルが修正されていれば、編集ファイルやアイテムファイルを暗号化することにより、第三者の編集ファイルの編集作業を防止することができるので、データの流出を防ぐことができる。

（第２の実施形態）図７を用いて、旧バージョンの編集ツールが紛失したときの対策について説明する。基板処理装置用コントローラ２４０を操作する画面に表示するガスフローパターン図は、基板処理装置１００毎に異なる固有のものであるため、専用の編集ツールでデータを作成している。

新バージョンの編集ツールでは、編集ファイルのフォーマットを変更する。このとき、新フォーマットは、データを暗号化したものをファイルにする。例えば、本実施の形態では、データを圧縮させたものである。新バージョンの編集ツールで作成された編集ファイルは、ヘッダと、所定のデータファイル(アイテムファイル)、所定の図面ファイル(ビットマップファイル)に相当する部分を少なくとも含むデータ部、前記所定のデータファイルを暗号化したデータを含む暗号化データ部を含むデータ構造(フォーマット)を有する。よって、この編集ファイルは、基板処理装置用コントローラ２４０に保存(インストール)される際に、編集ファイルからアイテムファイルとビットマップファイルに分離された状態で保存(インストール)される。ここで、アイテムファイルは、文字や数値のデータで構成され、ＭＦＣ、バルブ、処理炉などのアイテム(項目)を含む。また、ビットマップファイルは、配管、炉口部、気化器等のアイコンを含む。

このように、編集ツールが流出しても編集ファイルのフォーマットを変更し、バージョン管理することにより、第三者にガスフローパターン図の編集をさせないようにしている。例えば、旧バージョンの編集ツールを起動させて新バージョンの編集ファイルを操作しようとしても、旧バージョンの編集ツールをインストールしたパソコン等の端末装置では、新バージョンの編集ファイルを読込めないようにすることで、ガスフローパターン図の改造ができなくなる。尚、新バージョンの編集ツールが起動されると新バージョンの編集ファイルだけでなく、旧フォーマットの編集ファイルも読込めるように構成されているのは言うまでもない。

本実施の形態(第２の実施形態)によれば、第１の実施形態における効果、及び、以下の(ｃ)〜(ｄ)に記載のうち少なくとも一つ以上の効果を奏する。

(ｃ)本実施の形態(第２の実施形態)によれば、編集ファイル内のデータを暗号化することにより、編集ファイルのフォーマットを変更しているので、データ編集ツールを紛失しても第三者の編集作業を防止することができるので、データの流出を防ぐことができる。

(ｄ)本実施の形態(第２の実施形態)によれば、バージョン管理することにより、古いバージョンのガスパターンデータ編集ツールを起動しても、新バージョンの編集ファイルを読込めないようにしているので、古いバージョンの編集ツールを悪用される危険性を低く抑えられる。

（第３の実施形態） 図９を用いて、第３の実施形態における新バージョンの編集ツールが流出した場合の対策について説明する。

図９は、新編集ツールの装置へのインストールから操作部での起動までの操作を示す図である。

まず、新編集ツールをパソコンにコピーする。ここで、新編集ツールは、コピーするだけでは起動されないように構成されている。また、編集ツールを起動させるには、パスワードを入力させるように構成されている(Ｓ０１)。新編集ツールが、パソコン上で起動されると、問合せキーが画面上に表示されるように構成される(Ｓ０２)。例えば、パスワードを取得するには、問合せキーを弊社Ｗｅｂ上の所定の部分に入力させる。このパスワードは、秒替りパスワードである。また、秒単位で変化するため、取得した秒替りパスワードを流用することは不可能である(Ｓ０３)。次に、このパスワードによりパソコンから装置にインストールが可能となる(Ｓ０４)。そして、装置の操作部で新編集ツールが起動毎に、日替りパスワードが必要である。よって、弊社Ｗｅｂにアクセスできない場合は日替りパスワードを取得できないため、新編集ツールがインストールされたパソコンが流出しても第三者により新編集ツールが操作されることはない(Ｓ０５)、そして、弊社Ｗｅｂから取得した日替りパスワードを入力すると、新編集ツールの起動が成功する(Ｓ０６)。尚、新編集ツールを最初に起動される際、秒単位で変更するパスワードではなく、日替りで変更するパスワードでも構わないのは言うまでもない。但し、パソコン（ＰＣ）上で編集ツールを起動して編集ファイル(ガスフローパターン図を表示するためのファイル)を作成し、装置にインストールする作業を１日で行う場合があるため、パソコンで入力するパスワードと装置上で起動される際に入力するパスワードは異ならせた方が良い。従い、本実施の形態では、秒単位パスワードと日替りパスワードを組合せている。

このように、本実施の形態(第３の実施形態)において、新編集ツールの操作部の起動までに、いくつかのパスワードを入力するように構成されている。秒単位パスワードと日替りパスワードを組合せている。これらのパスワード入手には、弊社Ｗｅｂサイトから取得する必要があるため、従業員を介する必要がある。このように、必ず当社従業員を介してパスワードを与えているように構成している。また、これらパスワードは、秒単位または日替わりであるため、これらパスワードを取得後、流用するのは不可能である。よって、新編集ツールが第三者に渡っても、第三者が勝手に操作するのは困難である。

更に、新編集ツールを初めて起動する際に操作画面に表示されるキーワード(問合せキー)を、所定のＷｅｂ(例えば、弊社Ｗｅｂサイト)にログインした後、前記キーワードを予め決められた所定の箇所(例えば、キーワード入力画面)に入力する処理を有する。弊社Ｗｅｂへのログインはパスワード認証が必要な為、これらパスワード(例えば、秒単位パスワードや日替りパスワード等)を入手するには、従業員であれば問題なく取得可能であるが、退社後はログイン用のパスワード入手が困難であり、弊社Ｗｅｂサイトにアクセスそのものが困難である。よって、第三者による編集ツールの操作を不可能にしている。よって、新編集ツールを元従業員が不正に取得しても、元従業員が勝手に新編集ツールを操作するのは困難である。

パソコンに新編集ツールをインストールして起動可能になった状態でも、新編集ツールを起動して編集ファイル(例えばガスフローパターン図を表示するためのファイル)を作成し、操作部にインストールして表示させる場合に必ずパスワードを入力させるようにしている。このパスワードを取得するには、弊社Ｗｅｂサイトでしか入手できないパスワードが必要となるので、弊社Ｗｅｂサイトにアクセスできない第三者が新編集ツールを不正に取得しても、パスワードを入手できない。よって、第三者が新編集ツールで作成したガスフローパターン図を表示させないようにして、従業員以外の第三者がガスフローパターン図を編集できないようにしている。

本実施の形態(第３の実施形態)によれば、第１の実施形態及び第２の実施形態における効果、及び、以下の(ｅ)〜(ｌ)に記載の効果のうち少なくとも一つ以上の効果を奏する。

(ｅ)本実施の形態(第３の実施形態)によれば、新バージョンの編集ツールを起動時に必ずパスワードを入力させるようにする。このパスワードは弊社のインターネットサイトでないと入手できない上に、日替わりで１日間だけ有効である。よって、従業員が退社し、入手していたパスワードを流用しても弊社サイトにアクセスできなく入ることができない。従い、第三者により編集ツールを作業できないようにしている。

(ｆ)また、本実施の形態(第３の実施形態)によれば、パスワードを入手しないと新編集ツールを作業できないようにしている上に、パスワードは、弊社のイントラネットからしか入手できないようにしているので、弊社以外の人は、編集ツールを不正に使用することができないようにしている。よって、パスワードを入手しないと新編集ツールを作業できないようにしているので、例えば、第三者が配管の改造に伴うガスフローパターン図の編集が出来なくなる。

(ｇ)また、本実施の形態(第３の実施形態)によれば、第三者が新編集ツールで作成したガスフローパターン図を表示させないように、従業員以外の第三者がパスワードを取得するのを困難にしているため、第三者が不正に新編集ツールを取得しても影響が出ない仕組みを構築し、パスワードを入手しないと新編集ツールで作成した編集ファイルを作業できないようにしているので、第三者が、配管の改造に伴うガスフローパターン図の編集が出来なくなる。

(ｈ)本実施の形態(第３の実施形態)によれば、パスワードを入手するには、弊社サイトにアクセスするしかないため、従業員であれば問題なく取得可能であるが、退社後はパスワード入手が困難であり、弊社サイトにアクセスそのものが困難である。よって、新編集ツールを元従業員が不正に取得しても、元従業員が勝手に新編集ツールを操作できないようにしている。これにより、弊社開発の新編集ツールを利用した悪質なビジネスを防止できる。

(ｉ)本実施の形態(第３の実施形態)によれば、新編集ツールにより、例えば、ガスフローパターン図の編集を行う場合は、弊社の従業員が何らかの形態で携わる必要があるので、第三者が勝手に新編集ツールを操作することによりガスフローパターン図を編集できないようになっている。

(ｊ)本実施の形態(第３の実施形態)によれば、第三者が勝手に新編集ツールを操作し、ガスフローパターン図を編集できないようにしているので、ガスフローパターン図の編集を勝手にできないようになっている。これにより、ガス配管の改造を装置有識者以外の第三者が行うことがないので、セキュリティ(安全)上の危険が抑えられる。

(ｋ)本実施の形態(第３の実施形態)によれば、第三者がガスフローパターン図の編集を勝手にできないようになっているので、ガス配管の改造におけるセキュリティ(安全)上の危険が抑えられる。これにより、ガス配管の改造の際に、第三者が半導体製造装置で基板を処理するために用いられるガスが流れるガスフローパターン図を安易に変更することがない。例えば、半導体製造装置で基板を処理するために用いられるガスは、取扱いに注意が必要なガス(危険性のあるガス、燃焼性のあるガス等)が多いが、装置有識者以外の第三者にて行われることないため特に効果的である。

(ｌ) 本実施の形態(第３の実施形態)によれば、ガスフローパターン図の編集ツールを第三者が勝手に編集（操作）できないように構成されているので、ガス配管の改造におけるセキュリティ(安全)上の危険が抑えられる。特に、半導体製造装置で基板を処理するために用いられるガスは、取扱いに注意が必要なガス(危険性のあるガス、燃焼性のあるガス等)が多く、装置有識者以外の第三者が、例えば、ガスフローパターン図で表示した内容と実際のガス配管のパターンが異なっているのに気付かない等、致命的なミスにより事故につながる恐れがあるが、第三者が、ガスフローパターン図の編集を勝手にできないようになっているので、特に効果的である。

(第４の実施形態) 図１０を用いて、表示プログラムを起動させて操作表示部にガスフローパターン図を表示させる前に実行されるデータチェック処理(装置操作部の妥当性チェック方式)について説明する。

所定のパスワードが入力され、ガスパターン図を表示する装置操作部が起動されると、まずはフォーマット判定が行われる。つまり、装置操作部が、新フォーマットか旧フォーマットであるかを判定する（Ｓ１０）。旧フォーマットに判定されると、表示プログラムによりガスフローパターン図が表示される。

一方、新フォーマットに判定されると、暗号化されている部分の解読が行われる。本実施の形態においては、所定の方法で、データを圧縮したものである。この解読した後のデータと、編集ファイルのデータ（アイテムファイル）が比較される（Ｓ２０）。比較した結果、データが、一致すると、表示プログラムによりガスフローパターン図が表示される。また、データが一致していないと、データ（アイテムファイル）に不正な編集がされたと判定するため、ガスフローパターン図は表示されない。

このように、本実施の形態(第４の実施形態)において、装置の操作部でガスフローパターン図を表示するため、新編集ツールを起動時にデータの変更を検知しパスワード入力を必要とした。また、パスワードによる認証がＯＫであっても暗号化によりデータ（アイテムファイル）の不正な編集をチェックする処理が加えられるので、新編集ツールが第三者に渡ったとしてもガスフローパターン図が装置の操作部で表示されないように構成されている。

本実施の形態(第４の実施形態)によれば、第１の実施形態乃至第３の実施形態における効果、及び、以下の(ｌ)〜(ｍ)に記載の効果のうち少なくとも一つ以上の効果を奏する。

(ｌ) 本実施の形態(第４の実施形態)によれば、旧フォーマットの時は、アイテムファイルの妥当性チェックをせずにガスフローパターン図を操作画面に表示していたが、新フォーマットでは、アイテムファイルの妥当性チェックが行われるようになっているため、データ認証処理でＯＫ判定があったものしか表示しないように構成している。これにより、アイテムファイル(データ)が、不正に編集されていても画面表示できないようにしたため、第三者による編集ファイルのデータ改ざんを防止できる。

(ｍ) 本実施の形態(第４の実施形態)によれば、アイテムファイルのデータ部が解読された場合であっても、ガスフローパターン図を処理装置の操作画面上に表示することがないため、第三者にガスパターン図を編集されなくて済む。

上述のように、本発明(第１の実施形態乃至第４の実施形態)によれば、第三者によるデータ編集ツールの編集を極力できない仕組みにしているので、例えば、不正に取得したガスフローパターン図の編集ツールを利用してガスフローパターン図等の改造を請け負うビジネスを抑えられる。

また、本発明(第１の実施形態乃至第４の実施形態)におけるデータ編集ツールは、主に国内で使用しているが、海外の拠点でも使用することもあり、その際、紛失する可能性があるが、本発明によれば、本編集ツールが何らかの理由で無関係な第三者に渡ったとしても、データを編集される危険性を抑えることができる。

また、本発明(第１の実施形態乃至第３の実施形態)によれば、ガスフローパターン図の編集ツールが、第三者に渡ったとしても、データを編集される危険性を抑えることができるので、装置有識者が細心の注意を払いながら行うべきガス配管の改造を装置有識者以外の第三者が行わせないようにできる。

また、本発明(第１の実施形態乃至第４の実施形態)によれば、ガスフローパターン図の編集ツールが第三者に渡り、装置有識者以外の第三者が、ガス配管の改造を行うことのリスクを軽減できる。特に、半導体製造装置で基板を処理するために用いられるガスは、取扱いに注意が必要なガス(危険性のあるガス、燃焼性のあるガス等)の場合が多く、例えば、実際のガス配管とガスフローパターン図の違いによる事故の防止等、格別な効果が得られる。

＜本発明の他の実施形態＞本実施の形態では、基板処理装置と個別にデータ編集ツールを備えた操作端末に関して詳述したが、これに限定されることは無く、例えば、基板処理装置の基板処理装置用コントローラ２４０にデータ編集ツールを備える場合でも、本発明は適用できる。

なお、本実施形態では、基板処理装置の一例として半導体製造装置を示しているが、半導体製造装置に限らず、ＬＣＤ装置のようなガラス基板を処理する装置であってもよい。また、基板処理の具体的内容は不問であり、成膜処理だけでなく、アニール処理、酸化処理、窒化処理、拡散処理等の処理であってもよい。また、成膜処理は、例えばＣＶＤ、ＰＶＤ、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理であってもよい。

以上、本発明の実施の形態を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。

＜本発明の好ましい態様＞ 以下に、本発明の好ましい態様について付記する。

（付記１） 本発明の一態様によれば、少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含むデータ構造を構成する編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイル(に相当するデータ)と前記所定のデータファイル(に相当するデータ)とを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイル(に相当するデータ)と前記所定のデータファイル(に相当するデータ)を一つにマージして前記編集ファイルを生成する処理と、を実行する制御部と、を含む処理装置が提供される。

（付記２）好ましくは、付記１の処理装置であって、前記所定の図面ファイルは、ビットマップファイルであり、前記所定のデータファイルはアイテムファイルである処理装置が提供される。

（付記３） 好ましくは、付記１または付記２の処理装置であって、前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルは、それぞれ単独では編集できないように構成されている処理装置が提供される。

（付記４）好ましくは、付記１の処理装置であって、前記暗号化データは、前記所定のデータファイルに相当するデータが圧縮されたデータ（圧縮データ）である処理装置が提供される。

（付記５）好ましくは、付記４の処理装置であって、前記暗号化データに設けられた暗号が解読されると、圧縮されたデータ（圧縮データ）を元に戻す処理が実行されるように構成されている処理装置が提供される。

（付記６）好ましくは、付記５の処理装置であって、圧縮されたデータを元に戻す処理が実行された後のデータと前記編集ファイルに格納されている前記所定のデータファイルに相当するデータが比較されるように構成されている処理装置が提供される。

（付記７）本発明の他の態様によれば、少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含むデータ構造を構成する編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイル(に相当するデータ)と前記所定のデータファイル(に相当するデータ)とを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイル(に相当するデータ)と前記所定のデータファイル(に相当するデータ)を一つにマージして前記編集ファイルを生成する処理と、を実行する制御部と、を含むコントローラが提供される。

（付記８）本発明の更に他の態様によれば、少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含むデータ構造を構成する編集ファイルを記憶する処理と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルと前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージして前記編集ファイルを生成する処理と、を有するコンピュータに実行させるプログラム及びこのプログラムを読取可能な記録媒体が提供される。

（付記９）本発明の更に他の態様によれば、少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含むデータ構造を構成する編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルと前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージして前記編集ファイルを生成する処理と、を実行する制御部と、を含む処理装置と、を有する処理システムが提供される。

（付記１０）少なくとも所定の図面ファイルと所定のデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含むデータ構造を構成する編集ファイルを記憶する工程と、前記暗号化データを解除して生成されるデータファイルに相当するデータと前記所定のデータファイルに相当するデータとを比較する工程と、前記比較した結果に応じて前記所定の図面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージして生成される前記編集ファイルを前記操作画面に表示する工程と、を含む処理装置の制御方法が提供される。

（付記１１）好ましくは、付記１０の処理装置の制御方法であって、前記暗号化データの暗号を解除して生成されるデータファイルに相当するデータと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルに相当するデータとを比較した結果、前記データファイルに相当するデータが前記所定のデータファイルに相当するデータと不一致した場合、前記所定のデータファイルに不正な編集がされていると判定し、前記データファイルが前記所定のデータファイルと一致した場合、前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージする処理装置の制御方法が提供される。

（付記１２）所定の編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部と、前記編集ファイルを所定の図面ファイルと所定のデータファイルの２つにそれぞれ分離された状態で記憶し、前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルに相当するデータと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージする処理と、前記マージで生成される前記編集ファイルを前記操作画面に表示する処理と、を実行する制御部と、を含む処理装置が提供される。

（付記１３）好ましくは、付記１２の処理装置であって、前記所定の図面ファイルは、ビットマップファイルであり、前記所定のデータファイルはアイテムファイルである処理装置が提供される。

（付記１４） 好ましくは、付記１２または付記１３の処理装置であって、前記所定の図面ファイルと前記所定のデータファイルは、それぞれ単独では編集できないように構成されている処理装置が提供される。

（付記１５）好ましくは、付記１２の処理装置であって、前記暗号化データは、前記所定のデータファイルに相当するデータが圧縮されたデータ（圧縮データ）である処理装置が提供される。

（付記１６）好ましくは、付記１５の処理装置であって、前記暗号化データに設けられた暗号が解読されると、圧縮されたデータを元に戻す処理と、圧縮されたデータを元に戻す処理が実行された後のデータと前記アイテムファイルに相当するデータが比較する処理が実行されるように構成されている処理装置が提供される。

（付記１７）好ましくは、付記１または付記１２の処理装置であって、前記編集ファイルは、ガスフローパターン図専用のデータ編集ツールの起動により作成されるファイルである処理装置が提供される。

（付記１８）好ましくは、付記１３の処理装置であって、前記ビットマップファイルに相当するデータは、ガス供給ライン又はガス排気ラインを構成する配管を含む処理装置が提供される。

（付記１９）好ましくは、付記１３の処理装置であって、前記ビットマップファイルに相当するデータは、処理炉、気化器、ポンプ等を示すアイコンデータである処理装置が提供される。

（付記２０）好ましくは、付記１３の処理装置であって、前記アイテムファイルに相当するデータは、バルブ、ＭＦＣ等に関する種々のデータである処理装置が提供される。

（付記２１）所定の編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部と、前記編集ファイルを所定の画面ファイルと所定のデータファイルの２つにそれぞれ分離された状態で記憶し、前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージする処理と、前記マージで生成される前記編集ファイルを前記操作画面に表示する処理と、を実行する制御部と、を含むコントローラが提供される。

（付記２２）本発明の更に他の態様によれば、所定の編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部と、編集ファイルを所定の画面ファイルと所定のデータファイルの２つにそれぞれ分離された状態で記憶し、前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、を備えた処理装置の表示方法であって、前記暗号化データの暗号を解除して生成されるデータファイルと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較し、前記比較した結果に応じて、前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージして前記編集ファイルを前記操作画面に表示する基板処理装置の表示方法が提供される。

（付記２３）好ましくは、付記２１の基板処理装置の表示方法であって、前記暗号化データの暗号を解除して生成されるデータファイルと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較した結果、前記データファイルが前記所定のデータファイルと不一致の場合、前記所定のデータファイルに不正な編集がされていると判定し、前記編集ファイルを操作画面に表示しないように構成され、前記データファイルが前記所定のデータファイルと一致した場合、前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージし、前記編集ファイルを操作画面に表示するよう構成される基板処理装置の表示方法が提供される。

（付記２４）本発明の更に他の態様によれば、所定の編集ファイルを作成する手順と、前記編集ファイルを所定の画面ファイルと所定のデータファイルの２つにそれぞれ分離された状態で記憶すると共に、前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する手順と、前記暗号化データの暗号を解除して生成されるデータファイルと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較する手順と、前記比較した結果に応じて、前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージする手順と、前記マージして生成される前記編集ファイルを操作画面に表示する手順と、を有するコンピュータに実行させるプログラム及びこのプログラムを読取可能な記録媒体が提供される。

（付記２５）本発明の更に他の態様によれば、所定の編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作装置と、前記編集ファイルを所定の画面ファイルと所定のデータファイルの２つにそれぞれ分離された状態で記憶し、前記所定のデータファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、前記暗号化データを解除して生成される前記所定のデータファイルと前記編集ファイルを分離した際に生成された前記所定のデータファイルとを比較する処理と、前記比較した結果に応じて前記所定の画面ファイルと前記所定のデータファイルを一つにマージする処理と、前記マージで生成される前記編集ファイルを前記操作画面に表示する処理と、を実行する制御部と、を備えた処理装置と、を含む処理システムが提供される。

（付記２６）付記２５の処理システムであって、好ましくは、前記所定の編集ファイルを操作する権限が無いユーザがログインした場合、前記所定の編集ファイルは、前記操作画面に表示されないように構成されている処理システムが提供される。

（付記２７）好ましくは、付記２５の処理システムであって、前記操作装置は、データ編集ツールを備え、前記データ編集ツールを起動して、前記編集ファイルを作成するよう構成されている処理システムが提供される。

（付記２８） 好ましくは、付記２７の処理システムであって、前記データ編集ツールを初めて起動する際、第１の入力パスワードを要求するよう構成されている処理システムが提供される。

（付記２９）好ましくは、付記２７の処理システムであって、前記第１の入力パスワードは、秒単位で変更するパスワードである処理システムが提供される。

（付記３０）好ましくは、付記２７の処理システムであって、前記第１の入力パスワードは、有効期間が１日である処理システムが提供される。

（付記３１）好ましくは、付記２７の処理システムであって、前記第１の入力パスワードを取得するには、前記データ編集ツールを初めて起動する際に前記操作画面に表示されるキーワード(問合せキー)を、所定のＷｅｂ(例えば、弊社Ｗｅｂ)にログインした後、前記キーワードを予め決められた所定の箇所(画面)に入力する処理を有する処理システムが提供される。

（付記３２）好ましくは、付記２５の処理システムであって、前記編集ファイルを前記処理装置の操作部にインストールする際、第２のパスワードを要求するよう構成されている処理システムが提供される。

（付記３３）好ましくは、付記３２の処理システムであって、前記第２のパスワードを取得する処理は、所定のＷｅｂ(例えば、弊社Ｗｅｂ)にログインした後、予め決められた画面を表示させる処理を有する処理システムが提供される。

（付記３４）好ましくは、付記１２の処理装置であって、前記記憶部は、更に、前記編集ファイルを過去に編集したときの前記アイテムファイル(に相当するデータ)を格納しておき、前記操作部は、前記編集ファイルの表示の際に、前記編集ファイル内に含まれる所定のデータファイル(に相当するデータ)と前記アイテムファイル(に相当するデータ)を比較するデータ変更検知処理を有する処理装置が提供される。

（付記３５）好ましくは、付記３４の処理装置であって、更に、日替りで変更される第２のパスワードを受け付ける前記操作部を有し、前記操作部は、前記データ変更検知処理において、前記データの変更を検知すると、前記第２のパスワードの入力を要求するパスワード認証処理を更に有する処理装置が提供される。

（付記３６）好ましくは、付記３５の処理装置であって、更に、前記操作部は、パスワード認証処理において、ＯＫ判定であれば、前記編集ファイルを表示するＮＧ判定であれば、前記編集ファイルを表示しない処理装置が提供される。

（付記３７）好ましくは、付記１２の処理装置であって、更に、前記操作部は、アイテムファイル(に相当するデータ)の妥当性をチェックする処理と、アイテムファイルとビットマップファイルをマージする処理と、前記マージにて生成された前記編集ファイルを表示する処理と、を有する処理装置が提供される。

（付記３８）好ましくは、付記３７の処理装置であって、アイテムファイル(に相当するデータ)の妥当性をチェックする処理は、予め前記アイテムファイル(に相当するデータ)を暗号化した暗号化データを解除して生成される所定のデータファイルと前記編集ファイル内に含む前記アイテムファイル(に相当するデータ)を示す所定のデータファイルとを比較する処理を含む処理装置が提供される。

（付記３９）好ましくは、付記３７の処理装置であって、アイテムファイル(に相当するデータ)の妥当性をチェックする処理は、前記編集ファイルのフォーマット(データ構造)を判定する処理を含む処理装置が提供される。

（付記４０）好ましくは、付記３７乃至付記３９のいずれか一つの処理装置であって、アイテムファイル(に相当するデータ)の妥当性をチェックする処理において、ガスフローパターン専用の編集ツールを用いないで前記アイテムファイル(に相当するデータ)が不正に改ざんされているか確認する処理装置が提供される。

（付記４１）好ましくは、付記１２の処理装置であって、前記編集ファイルは、ヘッダと、所定のデータファイル(アイテムファイル)、所定の図面ファイル(ビットマップファイル)に相当する部分を少なくとも含むデータ部、前記所定のデータファイルを暗号化したデータを含む暗号化データ部を含むデータ構造を有する処理装置が提供される。

被処理体を処理する処理装置で使用される特定の編集ファイルの管理に関し、特に、所定の基板に所定の処理を行う基板処理装置に適用される。

１００ 基板処理装置２００ ウエハ（基板） ２４０ 基板処理装置用コントローラ（制御部） ５００ 管理装置

Claims (13)

1. 処理ガスの給排状況を表示するガスフローパターン図を編集する編集ツールにより作成された編集ファイルがインストールされると共に、該編集ファイルをデータファイルとしてのアイテムファイル及び画面ファイルとしてのビットマップファイルとに分離させて、前記アイテムファイル及び前記ビットマップファイルがインストールされる制御部と、前記編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部と、少なくとも前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルに相当するデータと前記アイテムファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、を備え、
   前記制御部は、再起動の初期化時に、パスワードを認証するパスワード認証処理を実行する様構成されており、前記編集ツールで作成される前記編集ファイルのフォーマット判定を行い、所定のフォーマットであれば、前記アイテムファイルを暗号化データを解読した後のデータと、編集ツールにより作成された編集ファイルのアイテムファイルに相当するデータとを比較し、一致すると、前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルの２つに分離されたファイルを前記操作部にマージさせて前記ガスフローパターン図を前記操作画面に表示させるよう構成されている処理装置。
2. 処理ガスの給排状況を表示するガスフローパターン図を編集する編集ツールにより作成された編集ファイルがインストールされると共に、該編集ファイルをデータファイルとしてのアイテムファイル及び画面ファイルとしてのビットマップファイルとに分離させて、前記アイテムファイル及び前記ビットマップファイルがインストールされるコントローラであって、少なくとも前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルに相当するデータと前記アイテムファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する記憶部と、前記編集ファイルを編集する操作画面を備えた操作部に接続され、再起動の初期化時に、パスワードを認証するパスワード認証処理を実行する様構成されており、前記編集ツールで作成される前記編集ファイルのフォーマット判定を行い、所定のフォーマットであれば、前記アイテムファイルを暗号化データを解読した後のデータと、編集ツールにより作成された編集ファイルのアイテムファイルに相当するデータとを比較し、一致すると、前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルの２つに分離されたファイルを前記操作部にマージさせて前記ガスフローパターン図を前記操作画面に表示させるよう構成されているコントローラ。
3. 処理ガスの給排状況を表示するガスフローパターン図を編集する編集ツールにより作成された編集ファイルがインストールされると共に、該編集ファイルをデータファイルとしてのアイテムファイル及び画面ファイルとしてのビットマップファイルとに分離させて、前記アイテムファイル及び前記ビットマップファイルがインストールされるコントローラで実行されるプログラムであって、
   少なくとも前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルに相当するデータと前記アイテムファイルを暗号化した暗号化データを含む前記編集ファイルを記憶する手順と、パスワードにより認証するパスワード認証処理手順と、前記編集ツールで作成される前記編集ファイルのフォーマット判定を行う手順と、前記アイテムファイルを暗号化データを解読した後のデータと、編集ツールにより作成された編集ファイルのアイテムファイルに相当するデータとを比較する手順と、前記ビットマップファイルと前記アイテムファイルの２つに分離されたファイルをマージさせて前記ガスフローパターン図を表示させる手順と、をコントローラに実行させるプログラム。
4. 更に、前記制御部は、前記ガスフローパターン図に変更があったことを検知するデータ変更検知処理を実行するように構成され、
   前記データ変更検知処理は、前記再起動前に保存されたアイテムファイルに相当するデータと前記編集ファイルの前記アイテムファイルに相当するデータ部分が比較されるように構成されている請求項１に記載の処理装置。
5. 前記制御部は、ログイン処理された作業者の権限に応じて、前記ガスフローパターン図におけるバルブ開閉条件等の設定変更を行わせるように構成されている請求項１に記載の処理装置。
6. 前記制御部は、ログイン処理された作業者の権限に応じて、前記ガスフローパターン図を表示させるように構成されている請求項１に記載の処理装置。
7. 前記編集ファイルは、少なくとも前記アイテムファイルと及び前記ビットマップファイルに沿うとする部分を含むデータ部と、前記アイテムファイルを暗号化したデータを含む暗号化データ部と、を含むデータ構造を有するように構成されている請求項１に記載の処理装置。
8. 前記アイテムファイルは、文字や数値のデータで構成されている請求項７に記載の処理装置。
9. 前記アイテムファイルは、ＭＦＣ、バルブ、処理炉から選択される少なくとも一つを含むアイテムである請求項８に記載の処理装置。
10. 前記ビットマップファイルは、配管、炉口部、気化器から選択される少なくとも一つを含むアイコンで構成されている請求項７に記載の処理装置。
11. 前記制御部は、前記編集ツールのバージョン管理を行うように構成されている請求項１記載の処理装置。
12. 前記制御部は、前記編集ツールを最初に起動させる際、問合せキーを前記操作画面に表示し、前記問合せキーを所定部分に入力させることで秒替りパスワードを取得させるように構成されている請求項１記載の処理装置。
13. 前記制御部は、前記操作部での前記編集ツールの起動時に、日替りパスワードを取得させるように構成されている請求項１２記載の処理装置。