JP6482348B2 - 回転式塗布装置 - Google Patents

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この発明は、回転する基板に塗布液を供給することにより基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置に関する。
このような回転式塗布装置は、特許文献1に記載のように、基板を保持して回転するスピンチャックと、このスピンチャックに保持されて回転する基板の表面にフォトレジスト等の塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、スピンチャックの外周部に配設された飛散防止用のカップと、このカップの下方から排気を行う排気部と、を備えている。そして、スピンチャックの下方の外周部には、カップ内の気体を整流して排気部に案内するための整流板などと呼称される整流部材が配設されている。塗布液の塗布時に回転する基板の端縁から飛散する塗布液は、カップにより捕獲され、ドレインに排出される。
このような回転式塗布装置において、その塗布液の種類によっては、塗布時に回転する基板の端縁から塗布液が糸を引くように飛散して、糸状の形状となってカップ内を浮遊し、カップ内の気体とともに排気部に到達する可能性がある。このため、特許文献2には、カップ内の雰囲気を外部排気する排気通路内であって、かつ、排気口近傍に、カップ内の雰囲気中に含まれる塗布液ミストを捕捉するためのミストトラップを備えた回転式塗布装置が提案されている。この特許文献2に記載された回転式塗布装置においては、整流板とカップとの間に、多数の孔部が形成されたミストトラップを配設した構成を有する。カップ内の雰囲気は、このミストトラップに形成された孔部を介して、排気部に排出される。
特開平5−206019号公報 特開2003−80159号公報
特許文献2に記載の回転式塗布装置においては、ミストトラップの作用により、カップ内を浮遊する糸状の塗布液が排気部に到達することを防止することが可能となる。しかしながら、基板に対する塗布液の塗布動作を継続して実行した場合においては、ミストトラップにおける孔部が塗布液により目詰まりするという現象が生ずる。このような現象が生じた場合においては、カップ内からの排気を実行することができなくなるという問題が生ずる。
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、カップ内を浮遊する糸状の塗布液が排気部に到達することを防止する作用を長期間に亘って維持することが可能な回転式塗布装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、基板を保持して回転するスピンチャックと、前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面に塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、前記スピンチャックの外周部に配設されたカップと、前記カップの下方から排気を行う排気部と、前記カップ内の気体を整流して前記排気部に案内する整流部材と、を備えた回転式塗布装置であって、基板から飛散する塗布液を捕獲するための複数の孔部が形成されたトラップ部材を、前記整流部材に対して、前記整流部材の下方において前記整流部材から所定の距離だけ離隔した位置に配置される状態で、スペーサを介して前記整流部材の下方に固定したことを特徴とする。
請求項に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記整流部材は、略円錐台状の外形を有するとともに、前記トラップ部材は円盤状の形状を有し、前記整流部材と前記トラップ部材とは同心円状に配設され、かつ、前記トラップ部材の外径は前記整流部材の外径より大きく構成されるとともに、前記略円錐台状の外形を有する整流部材の錐面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構をさらに備える。
請求項1に記載の発明によれば、整流部材と、この整流部材から所定の距離だけ離隔した位置に配置されたトラップ部材との作用により、カップ内を浮遊する糸状の塗布液とカップ内の雰囲気とを分離して、カップ内からの排気を好適に実行することが可能となる。このため、カップ内を浮遊する糸状の塗布液が排気部に到達することを防止する作用を長期にわたって維持することが可能となる。
また、スペーサの作用により、整流部材とトラップ部材との距離を、より正確に設定値に一致させることが可能となる。
請求項に記載の発明によれば、整流部材を介してトラップ部材に洗浄液を供給することができる。このため、整流部材とトラップ部材とを洗浄液により洗浄することができ、トラップ部材に塗布液が付着したとしても、これを洗浄液により洗い流すことが可能となる。これにより、カップ内を浮遊する糸状の塗布液が排気部に到達することをさらに長期にわたって防止することが可能となる。
この発明に係る回転式塗布装置の概要図である。 この発明に係る回転式塗布装置の部分拡大図である。 トラップ部材10の平面図である。 スペーサ16の斜視図である。
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明に係る回転式塗布装置の概要図である。また、図2は、この発明に係る回転式塗布装置の部分拡大図である。
この発明に係る回転式塗布装置は、半導体ウエハ等の基板100の表面にフォトレジスト等の塗布液を塗布するものであり、基板100を保持して回転するスピンチャック41と、このスピンチャック41に保持されて回転する基板100の表面に塗布液を供給する塗布液供給ノズル49と、スピンチャック41の外周部に配設されたカップ20と、カップ20の下方から排気を行う排気部29と、カップ20内の気体を整流して排気部29に案内する整流部材30と、整流部材30の下方に配設されたトラップ部材10とを備える。
スピンチャック41は、鉛直方向を向く回転軸42を中心に回転する。このスピンチャック41には、図示しない排気機構に連結された多数の吸着溝43が形成されており、その表面に基板100を吸着保持可能な構成を有する。基板100は、スピンチャック41の表面に吸着保持された状態で、その主面と平行な平面内で回転する。そして、スピンチャック41に吸着保持されて回転する基板100の回転中心付近と対向する位置に移動した塗布液供給ノズル49から、基板100の表面に塗布液が供給される。この塗布液は、基板100の回転に伴う遠心力により、基板100の表面全域に塗り広げられる。
スピンチャック41の外周部に配設されたカップ20内には、上部部材21と、ガイド部材22とが配設されている。また、このカップ20の下部には、塗布液を回収するための凹部28が形成されている。この凹部28の下端部は水平方向に対して傾斜しており、カップ20内の塗布液は、図1および図2において矢印Aで示すように、凹部28における最下端部から図示しない回収部に回収される。また、このカップ20内の雰囲気は、図示しない排気手段に連結された排気部29を介して排出される。この排気部29は、カップ20の下部に対して、均等に離隔した位置に3箇所配設されている。
図2に示すように、カップ20における上部部材21には、洗浄液貯留部23が形成されている。この洗浄液貯留部23は、導入管26および管路25を介して、図示しない洗浄液の供給部と接続されている。導入管26および管路25を介して洗浄液貯留部23に供給された洗浄液は、上部部材21に形成された孔部24から吐出される。なお、この洗浄液としては、例えば、シンナーが使用される。
図1に示すように、スピンチャック41の下方には、カップ20内の気体を整流して排気部29に案内するための整流部材30が配設されている。この整流部材30は、整流板と呼称されるものであり、図1および図2に示すように、その外周面を錐面31(図2参照)とする略円錐台状の外形を有する。整流部材30の下方側の外側端部30aは凹部28内に位置し、凹部28の内側上端部28aの高さは整流部材30の下方側の外側端部30aの高さと同じかそれよりも高い位置になるよう設けられる。排気部29は凹部28の内側上端部28aよりも内側に設けられる。スピンチャック41とともに回転する基板100の作用によりカップ20内に生じた気流は、前述した排気手段が排気部29を介して排気する気流に乗って、この整流部材30の錐面31に沿って斜め下方向外側向きに流れ、凹部28内で外側端部30aを回って上方内側向きに反転し、内側上端部28aを超えて下向きに転じ、排気部29に向けて案内される。そして、この整流部材30の下方には、トラップ部材10が、整流部材30と所定の距離だけ離隔した位置に配設されている。トラップ部材10は、上述した外側端部30aを回って上方内側向きに反転して内側上端部28aに向かう気流の流路、すなわち整流部材30aの内側面30bと凹部28の内面28bとの間に形成される気流の流路を遮るように配置される。
図3は、トラップ部材10の平面図である。
このトラップ部材10は、その中央に開口部を有する薄板からなる円盤状(ドーナツ状)の形状を有する。このトラップ部材10には、その円周部に沿って、多数の矩形状の孔部11が、等間隔で穿設されている。この孔部11の長さは、例えば、10mm〜20mm程度となっており、幅は、例えば、3mm〜5mm程度となっている。また、このトラップ部材10には、固定用開口部12が、90度毎に穿設されている。
このトラップ部材10は、固定用開口部12を利用して、ネジ15により整流部材30の下面に固定されている。そして、トラップ部材10と整流部材30との間には、スペーサ16が配設されている。すなわち、各ネジ15は、スペーサ16を介して、トラップ部材10を整流部材30に対して取り付け固定している。
図4は、スペーサ16の斜視図である。
このスペーサ16は、中央に孔部が形成された薄板から構成される。このスペーサ16の作用により、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間の距離を、スペーサ16の厚みに応じた一定の距離に維持することが可能となる。この整流部材30の下端の外側端部30aとトラップ部材10の上面との間の距離は、例えば、2〜3mm程度に設定され、かかる距離に応じてスペーサ16の厚みが設定される。
トラップ部材10の内周側は凹部28の内面28bとほぼ隙間なく接する状態に設けられ、これによりトラップ部材10は、上述した外側端部30aを回って上方内側向きに反転して内側上端部28aに向かう気流の流路、すなわち整流部材30aの内側面30bと凹部28の内面28bとの間に形成される気流の流路を遮るように配置される。従って当該気流の流路は、整流部材30の外側端部30aとトラップ部材10との上下方向の隙間から整流部材30の下面とトラップ部材10の上面の隙間を通る第1の流路と、トラップ部材10の下面から孔部11を通って整流部材30の下面とトラップ部材10の上面の隙間を通る第2の流路との二通りに限られる。
図1に示すように、トラップ部材10と整流部材30とは同心円状に配設される。そして、トラップ部材10の外径は整流部材30の外径より大きく構成されている。このため、図1および図2に示すように、トラップ部材10の外周端部は、整流部材30の外周端部に対して、回転軸42の軸心より外側に離れた位置に配置される。
以上のような構成を有する回転式塗布装置においては、半導体ウエハ等の基板100が、図示しない搬送機構によりスピンチャック41上に載置され、スピンチャック41により吸着保持される。そして、スピンチャック41が、そこに吸着保持した基板100とともに、鉛直方向を向く回転軸42を中心に回転する。また、塗布液供給ノズル49が、スピンチャック41に吸着保持されて回転する基板100の回転中心付近の上方に移動する。そして、基板100の回転速度が所定の速度となれば、塗布液供給ノズル49から基板100の表面に塗布液が供給される。この塗布液は、基板100の回転に伴う遠心力により、基板100の表面全域に塗り広げられる。
このときには、スピンチャック41とともに回転する基板100の作用によりカップ20内に生じた気流は、前述した排気手段が排気部29を介して排気する気流に乗って整流部材30の錐面31に沿って流れ、排気部29に向けて案内される。このとき、この気流は、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間(第1の流路)、および、トラップ部材10に穿設された孔部11(第2の流路)を介して、排気部29に到達する。
一方、基板100の回転に伴って基板100の端縁から飛散した塗布液の液滴は、ガイド部材22に衝突して捕捉され、カップ20における凹部28に回収される。そして、この塗布液は、図1および図2において矢印Aで示すように、凹部28における最下端部から図示しない回収部に回収される。また、基板100の回転に伴って基板100の端縁から飛散した塗布液の一部は、糸状の形状となってカップ20内を浮遊する。そして、カップ20内を浮遊する糸状の塗布液の一部はカップ20により回収され、また、一部はカップ20内の気体の流れに伴って、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間またはトラップ部材10に穿設された孔部11に到達する。
ここで、トラップ部材10に穿設された孔部11は、糸状またはそれらが集まって綿状となった塗布液の大きさより十分小さなものとなっている。また、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間は、それらが相互に直接取り付けられていることと、スペーサ16の作用により、整流部材30の外周部全域において一定に維持されている。このため、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間またはトラップ部材10に穿設された孔部11に到達した糸状の塗布液は、トラップ部材10により確実に捕捉(トラップ)される。
このときには、整流部材30と、この整流部材30から所定の距離だけ離隔した位置に配置されたトラップ部材10との作用により、カップ20内を浮遊する糸状の塗布液とカップ20内の雰囲気とを分離して、カップ20内からの排気を好適に実行することが可能となる。このため、カップ20内を浮遊する糸状の塗布液が排気部29に到達することを防止する作用を、長期にわたって維持することが可能となる。
基板100に対する塗布液の塗布動作を一定期間実行した時には、カップ20等の洗浄動作が実行される。このときには、導入管26および管路25を介して、カップ20における上部部材21に形成された洗浄液貯留部23の洗浄液を供給する。この洗浄液は、上部部材21に形成された孔部24から吐出され、上部部材21の下面およびガイド部材22に供給される。この洗浄液の一部は、カップ20に滴下することでカップ20を洗浄した後、カップ20の下端部より外部に排出される。
また、上部部材21の下面から滴下した洗浄液は、図2において矢印Bで示すように、整流部材30における錐面31上に滴下し、錐面31の表面を流下する。上述したように、略円錐台状の外形を有する整流部材30とトラップ部材10とは同心円状に配設され、かつ、トラップ部材10の外径は整流部材30の外径より大きく構成されていることから、錐面31の表面を流下した洗浄液は、図2において矢印Bで示すように、トラップ部材10の端縁付近の上面に滴下する。整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間、および、トラップ部材10に穿設された孔部11に付着した塗布液は、この洗浄液により洗浄、除去される。
このとき、上述したように、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間は、スペーサ16の作用により、整流部材30の外周部全域において一定に維持されている。このため、トラップ部材10上に滴下された洗浄液は、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間に対して均一に供給される。このため、整流部材30の下端部とトラップ部材10の上面との間に形成された隙間、および、トラップ部材10に穿設された孔部11に付着した塗布液を、均一に洗浄、除去することが可能となる。塗布液の洗浄、除去に供された洗浄液は、カップ20の下端部から回収される。
なお、上述した実施形態においては、トラップ部材10に矩形状の孔部11を形成しているが、この孔部11の形状は、矩形状に限らず、円形や多角形状でもよい。また、比較的大きな孔部を形成し、この孔部にメッシュ状の部材を配設するようにしてもよい。要するに、孔部11により糸状となった塗布液をトラップ可能な形態であればよい。
10 トラップ部材
11 孔部
15 ネジ
16 スペーサ
20 カップ
21 上部部材
22 ガイド部材
23 洗浄液貯留部
24 孔部
25 管路
26 導入管
28 凹部
29 排気部
30 整流部材
31 錐面
41 スピンチャック
42 回転軸
49 塗布液供給ノズル
100 基板

Claims (2)

  1. 基板を保持して回転するスピンチャックと、
    前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面に塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、
    前記スピンチャックの外周部に配設されたカップと、
    前記カップの下方から排気を行う排気部と、
    前記カップ内の気体を整流して前記排気部に案内する整流部材と、
    を備えた回転式塗布装置であって、
    基板から飛散する塗布液を捕獲するための複数の孔部が形成されたトラップ部材を、前記整流部材に対して、前記整流部材の下方において前記整流部材から所定の距離だけ離隔した位置に配置される状態で、スペーサを介して前記整流部材の下方に固定したことを特徴とする回転式塗布装置。
  2. 請求項1に記載の回転式塗布装置において、
    前記整流部材は、略円錐台状の外形を有するとともに、前記トラップ部材は円盤状の形状を有し、
    前記整流部材と前記トラップ部材とは同心円状に配設され、かつ、前記トラップ部材の外径は前記整流部材の外径より大きく構成されるとともに、
    前記略円錐台状の外形を有する整流部材の錐面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構をさらに備える回転式塗布装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6883462B2 (ja) * 2017-04-11 2021-06-09 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP6841188B2 (ja) * 2017-08-29 2021-03-10 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置及び塗布液捕集部材
JP7067950B2 (ja) * 2018-02-16 2022-05-16 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
JP7232737B2 (ja) * 2019-08-07 2023-03-03 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP7462503B2 (ja) 2019-08-30 2024-04-05 株式会社Screenホールディングス 塗布装置
CN112447559A (zh) * 2019-08-30 2021-03-05 株式会社斯库林集团 涂布装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2907387B2 (ja) * 1988-04-06 1999-06-21 東京エレクトロン株式会社 回転処理装置
JP2564065B2 (ja) * 1991-12-24 1996-12-18 大日本スクリーン製造株式会社 回転塗布方法およびその装置
US5952045A (en) * 1995-07-27 1999-09-14 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for improved coating of a semiconductor wafer
JP2003080159A (ja) * 2001-09-10 2003-03-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転塗布装置
JP2003236445A (ja) * 2002-02-18 2003-08-26 Nec Kansai Ltd レジスト塗布装置
JP2006086204A (ja) * 2004-09-14 2006-03-30 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 塗布装置
JP3175893U (ja) * 2012-03-15 2012-06-07 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
JP6111721B2 (ja) * 2013-02-15 2017-04-12 株式会社リコー 回転塗布装置、該回転塗布装置の洗浄方法およびスピンカップ洗浄機構

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