JP2003236445A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、目詰まりが起きやすいメッ
シュ状のミストトラップを使用することなく排気気流中
のレジストミストを除去し、レジストミストを安定して
排気系に誘導するとともに、半導体基板に塗布するレジ
スト塗布厚に悪影響を与える虞のないレジストミスト除
去部を有するレジスト塗布装置を提供することである。 【解決手段】 本発明のレジスト除去部を具備する排気
系１０１は、排気孔１６の下方に配置した液溜め槽１０
２に繋がる排気管１０３ａと、側方配管１０４及び小型
ファン１０５と、圧力計２０と、小型ファン１０５の回
転数を制御する回転数制御部１０６と、噴霧状の水ミス
ト１０７を吹出す噴射ノズル１０８と、水１０９を溜め
た液溜め槽１０２と、液溜め槽１０２の上面に設けた通
気孔１１０から排気ポンプ１７に繋がる排気管１０３ｂ
とで構成されている。
シュ状のミストトラップを使用することなく排気気流中
のレジストミストを除去し、レジストミストを安定して
排気系に誘導するとともに、半導体基板に塗布するレジ
スト塗布厚に悪影響を与える虞のないレジストミスト除
去部を有するレジスト塗布装置を提供することである。 【解決手段】 本発明のレジスト除去部を具備する排気
系１０１は、排気孔１６の下方に配置した液溜め槽１０
２に繋がる排気管１０３ａと、側方配管１０４及び小型
ファン１０５と、圧力計２０と、小型ファン１０５の回
転数を制御する回転数制御部１０６と、噴霧状の水ミス
ト１０７を吹出す噴射ノズル１０８と、水１０９を溜め
た液溜め槽１０２と、液溜め槽１０２の上面に設けた通
気孔１１０から排気ポンプ１７に繋がる排気管１０３ｂ
とで構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト塗布の際
に生じるレジストミストを強制的に発生させた排気気流
に含ませて排気管を通して排気する排気管経路の途中に
設けたレジストミスト除去部を有するレジスト塗布装置
に関する。
に生じるレジストミストを強制的に発生させた排気気流
に含ませて排気管を通して排気する排気管経路の途中に
設けたレジストミスト除去部を有するレジスト塗布装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、半導
体基板にレジストを塗布し、露光及び現像してレジスト
パターンを得る処理が繰り返される。一般にレジストの
塗布は上空からレジストを滴下しつつ半導体基板を高速
回転させ、その遠心力を利用してレジストを半導体基板
の表面全体に押し広げる回転塗布方式の塗布装置が使用
される。
体基板にレジストを塗布し、露光及び現像してレジスト
パターンを得る処理が繰り返される。一般にレジストの
塗布は上空からレジストを滴下しつつ半導体基板を高速
回転させ、その遠心力を利用してレジストを半導体基板
の表面全体に押し広げる回転塗布方式の塗布装置が使用
される。
【０００３】従来のレジスト塗布装置の一例の断面図を
図３に示す。レジスト塗布装置１は、半導体基板２のレ
ジスト塗布予定面２ａを上向きにして半導体基板２を吸
着保持するチャック部３と、チャック部３を回転軸４周
りに高速回転させる回転駆動部５と、半導体基板２の中
央部上空に配置し半導体基板２上にレジスト６を滴下す
るレジストノズル７と、半導体基板２の周辺を覆い、回
転による遠心力で生じるレジストミスト８（図中●）が
飛散するのを防止するカップ９と、レジストノズル７の
上空に配置しレジストミスト８を誘導する排気気流（ダ
ウンフロー）１０を発生させる気流発生ファン１１と、
レジストミスト８を含んだ排気気流１０を排気する排気
系１２と、半導体基板２の下方に配置し半導体基板２の
裏側に回り込んだレジスト６を洗い流すリンス液１３を
噴射するリンスノズル１４と、リンス液１３を排出する
排液系１５とで構成されている。尚、排気系１２は、対
向させて２つ配置しバランスのよい排気ができるように
なっている。
図３に示す。レジスト塗布装置１は、半導体基板２のレ
ジスト塗布予定面２ａを上向きにして半導体基板２を吸
着保持するチャック部３と、チャック部３を回転軸４周
りに高速回転させる回転駆動部５と、半導体基板２の中
央部上空に配置し半導体基板２上にレジスト６を滴下す
るレジストノズル７と、半導体基板２の周辺を覆い、回
転による遠心力で生じるレジストミスト８（図中●）が
飛散するのを防止するカップ９と、レジストノズル７の
上空に配置しレジストミスト８を誘導する排気気流（ダ
ウンフロー）１０を発生させる気流発生ファン１１と、
レジストミスト８を含んだ排気気流１０を排気する排気
系１２と、半導体基板２の下方に配置し半導体基板２の
裏側に回り込んだレジスト６を洗い流すリンス液１３を
噴射するリンスノズル１４と、リンス液１３を排出する
排液系１５とで構成されている。尚、排気系１２は、対
向させて２つ配置しバランスのよい排気ができるように
なっている。
【０００４】ここで、排気系１２は、排気孔１６から下
方に延び、末端を排気ポンプ１７に接続した排気管１８
と、排気孔１６に取付けられレジストミスト８を含む排
気気流１０ａ中からレジストミスト８を捕集しレジスト
ミスト８除去済みの排気気流１０ｂのみを通過させる細
かいメッシュ状のミストトラップ１９と、ミストトラッ
プ１９の下流に配置し排気管１８内の圧力を測定するこ
とで排気気流１０ａの流速及びミストトラップ１９の目
詰まり具合を検知する圧力計２０と、排気管１８内の流
速及び流量を調整するダンパ２１とで構成されている。
方に延び、末端を排気ポンプ１７に接続した排気管１８
と、排気孔１６に取付けられレジストミスト８を含む排
気気流１０ａ中からレジストミスト８を捕集しレジスト
ミスト８除去済みの排気気流１０ｂのみを通過させる細
かいメッシュ状のミストトラップ１９と、ミストトラッ
プ１９の下流に配置し排気管１８内の圧力を測定するこ
とで排気気流１０ａの流速及びミストトラップ１９の目
詰まり具合を検知する圧力計２０と、排気管１８内の流
速及び流量を調整するダンパ２１とで構成されている。
【０００５】このレジスト塗布装置１を用いて半導体基
板２にレジスト６を塗布する方法は、先ず、チャック部
３に半導体基板２を吸着保持し、レジストノズル７から
レジスト６を半導体基板２上に滴下しつつ回転駆動部５
を作動しチャック部３を回転軸４周りに高速回転させ
る。この高速回転によって生じる遠心力を利用して半導
体基板２の中央部に滴下したレジスト６を全面に押し広
げる。尚、このとき、余分なレジスト６は遠心力でレジ
ストミスト８となって飛散する。このため、上空の気流
発生ファン１１を作動し強制的に排気気流１０を発生さ
せレジストミスト８を排気系１２に誘導する。レジスト
ミスト８を含んだ排気気流１０ａはメッシュ状のミスト
トラップ１９を通過する際にレジストミスト８を捕集さ
れ、レジストミスト８除去済みの排気気流１０ｂのみが
下流に流れる。また、半導体基板２の裏側に回り込んだ
レジスト６はリンスノズル１４から吐出されるリンス液
１３で洗浄され排液系１５を通して排出される。
板２にレジスト６を塗布する方法は、先ず、チャック部
３に半導体基板２を吸着保持し、レジストノズル７から
レジスト６を半導体基板２上に滴下しつつ回転駆動部５
を作動しチャック部３を回転軸４周りに高速回転させ
る。この高速回転によって生じる遠心力を利用して半導
体基板２の中央部に滴下したレジスト６を全面に押し広
げる。尚、このとき、余分なレジスト６は遠心力でレジ
ストミスト８となって飛散する。このため、上空の気流
発生ファン１１を作動し強制的に排気気流１０を発生さ
せレジストミスト８を排気系１２に誘導する。レジスト
ミスト８を含んだ排気気流１０ａはメッシュ状のミスト
トラップ１９を通過する際にレジストミスト８を捕集さ
れ、レジストミスト８除去済みの排気気流１０ｂのみが
下流に流れる。また、半導体基板２の裏側に回り込んだ
レジスト６はリンスノズル１４から吐出されるリンス液
１３で洗浄され排液系１５を通して排出される。
【０００６】尚、ここで排気気流１０の流速や流路を安
定させることは、レジストミスト８を確実に排気系１２
に誘導するために必要であるが、それに加えて、排気気
流１０は半導体基板２のレジスト塗布面２ａに対して無
視できない圧力で吹付けられるため、半導体基板２に塗
布するレジスト６の塗布厚のばらつきにも影響を及ぼす
虞があり、排気気流１０の流速や流路を安定させること
は、レジスト塗布厚を安定させるためにも重要であっ
た。
定させることは、レジストミスト８を確実に排気系１２
に誘導するために必要であるが、それに加えて、排気気
流１０は半導体基板２のレジスト塗布面２ａに対して無
視できない圧力で吹付けられるため、半導体基板２に塗
布するレジスト６の塗布厚のばらつきにも影響を及ぼす
虞があり、排気気流１０の流速や流路を安定させること
は、レジスト塗布厚を安定させるためにも重要であっ
た。
【０００７】しかしながら、メッシュ状のミストトラッ
プ１９はレジストミスト８により徐々に目詰まりを起こ
し、通過する排気気流１０の流速及び流量が低下するこ
とは避けられなかった。このため、ミストトラップ１９
の下流に配置した圧力計２０で圧力値の変化をモニタし
目詰まり具合を確認しながら作業する必要があった。ま
た、圧力値が基準値を外れそうになると気流発生ファン
１１の回転数を上げたり、ダンパ２１の開閉レベルを調
整しなければならなかった。さらに、このような調整範
囲を越えた場合は、ミストトラップ１９を取外して洗浄
する必要があり、このため大掛かりな分解作業をしなけ
ればならず多大な脱着工数を要した。
プ１９はレジストミスト８により徐々に目詰まりを起こ
し、通過する排気気流１０の流速及び流量が低下するこ
とは避けられなかった。このため、ミストトラップ１９
の下流に配置した圧力計２０で圧力値の変化をモニタし
目詰まり具合を確認しながら作業する必要があった。ま
た、圧力値が基準値を外れそうになると気流発生ファン
１１の回転数を上げたり、ダンパ２１の開閉レベルを調
整しなければならなかった。さらに、このような調整範
囲を越えた場合は、ミストトラップ１９を取外して洗浄
する必要があり、このため大掛かりな分解作業をしなけ
ればならず多大な脱着工数を要した。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したようなレジス
ト塗布装置では、排気気流中に含まれるレジストミスト
をメッシュ状のミストトラップで除去するため目詰まり
による流速及び流量の低下が生じることは避けられず、
このため目詰まり具合を管理し排気気流の流速及び流量
の調整をする必要があった。また、調整の範囲を越えた
場合、ミストトラップを洗浄する必要がありそのための
脱着及び洗浄工数が多大であった。また、ミストトラッ
プの目詰まり具合の変動は、半導体基板に吹付けられる
排気気流の流速や流路に影響し、半導体基板へのレジス
ト塗布厚のばらつきに悪影響を与える虞があった。
ト塗布装置では、排気気流中に含まれるレジストミスト
をメッシュ状のミストトラップで除去するため目詰まり
による流速及び流量の低下が生じることは避けられず、
このため目詰まり具合を管理し排気気流の流速及び流量
の調整をする必要があった。また、調整の範囲を越えた
場合、ミストトラップを洗浄する必要がありそのための
脱着及び洗浄工数が多大であった。また、ミストトラッ
プの目詰まり具合の変動は、半導体基板に吹付けられる
排気気流の流速や流路に影響し、半導体基板へのレジス
ト塗布厚のばらつきに悪影響を与える虞があった。
【０００９】本発明の目的は、その構造上、目詰まりが
起きやすいメッシュ状のミストトラップを使用すること
なく、排気気流中のレジストミストを除去し、排気気流
の流速や流路を安定させ、レジストミストを安定して排
気系に誘導するとともに、半導体基板に塗布するレジス
ト塗布厚に悪影響を与える虞のないレジストミスト除去
部を有するレジスト塗布装置を提供することである。
起きやすいメッシュ状のミストトラップを使用すること
なく、排気気流中のレジストミストを除去し、排気気流
の流速や流路を安定させ、レジストミストを安定して排
気系に誘導するとともに、半導体基板に塗布するレジス
ト塗布厚に悪影響を与える虞のないレジストミスト除去
部を有するレジスト塗布装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために提案されたもので、第１の構成として、レジ
ストミストを含んだ排気気流を通過させる排気管経路
に、排気気流中に含まれるレジストミストを除去するレ
ジストミスト除去部を有するレジスト塗布装置におい
て、レジストミスト除去部は、排気気流の流速を検知し
制御する流速制御部と、排気気流中のレジストミストに
付着させる付着材を供給する付着材供給部と、付着材が
付着したレジストミストを捕捉するレジストミスト捕捉
部とを備えることを特徴とするレジスト塗布装置であ
る。
するために提案されたもので、第１の構成として、レジ
ストミストを含んだ排気気流を通過させる排気管経路
に、排気気流中に含まれるレジストミストを除去するレ
ジストミスト除去部を有するレジスト塗布装置におい
て、レジストミスト除去部は、排気気流の流速を検知し
制御する流速制御部と、排気気流中のレジストミストに
付着させる付着材を供給する付着材供給部と、付着材が
付着したレジストミストを捕捉するレジストミスト捕捉
部とを備えることを特徴とするレジスト塗布装置であ
る。
【００１１】また、第２の構成として、レジストが光硬
化型レジストである場合は、レジストミストを含んだ排
気気流を通過させる排気管経路に、排気気流中に含まれ
る光硬化型レジスト材から成るレジストミストを除去す
る光硬化型レジストミスト除去部を有するレジスト塗布
装置において、光硬化型レジストミスト除去部は、排気
気流の流速を検知し制御する流速制御部と、排気気流中
の光硬化型レジストミストに光を照射し硬化させる光硬
化型レジストミスト硬化部と、光硬化型レジストミスト
硬化部で硬化した光硬化型レジストミストを捕捉する光
硬化型レジストミスト捕捉部とを備えることを特徴とす
るレジスト塗布装置である。
化型レジストである場合は、レジストミストを含んだ排
気気流を通過させる排気管経路に、排気気流中に含まれ
る光硬化型レジスト材から成るレジストミストを除去す
る光硬化型レジストミスト除去部を有するレジスト塗布
装置において、光硬化型レジストミスト除去部は、排気
気流の流速を検知し制御する流速制御部と、排気気流中
の光硬化型レジストミストに光を照射し硬化させる光硬
化型レジストミスト硬化部と、光硬化型レジストミスト
硬化部で硬化した光硬化型レジストミストを捕捉する光
硬化型レジストミスト捕捉部とを備えることを特徴とす
るレジスト塗布装置である。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明のレジスト塗布装置の第１
の構成のレジストミスト除去部を具備する排気系１０１
の一例の断面図を図１に示す。レジスト塗布装置には排
気系１０１は、２つ配置されバランスのよい排気ができ
るようになっているがその一方のみを図示する。図３と
同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。排気系
１０１は、排気孔１６の下方に配置した密閉空間である
液溜め槽１０２に繋がる排気管１０３ａと、その排気管
１０３ａ経路の途中に配置した排気管１０３ａに対して
斜め上側方から接続した側方配管１０４及びその側方配
管１０４の内部に配設した回転数可変な小型ファン１０
５と、側方配管１０４よりも下流に配置し排気管１０３
ａ内の圧力を測定する圧力計２０と、一端を圧力計２０
に、他端を小型ファン１０５に接続し圧力計２０からの
信号により小型ファン１０５の回転数を制御する回転数
制御部１０６と、排気管１０３ａ内に噴霧状の水ミスト
１０７（図中■）を吹出す噴射ノズル１０８と、排気気
流１０ａの進行方向の正面にあって、その液面に排気気
流１０ａが勢いよく吹付けられる水１０９を溜めた液溜
め槽１０２と、液溜め槽１０２の上面に設けた通気孔１
１０から排気ポンプ１７に繋がる排気管１０３ｂとで構
成されており、小型ファン１０５が発生する制御気流１
１１によって排気気流１０ａの流速を所望の流速に制御
可能となっている。また、排気管１０３ａ内に向けて配
置した噴射ノズル１０８は、排気気流１０ａ中のレジス
トミスト８（図中●）に水ミスト１０７を吹付け付着さ
せて巨大化（質量増加）させる。また、液溜め槽１０２
内の水１０９は、その液面に排気気流１０ａを勢いよく
吹付けたときの慣性力を利用して巨大化（質量増加）し
たレジストミスト８を液中に取り込み捕捉する。尚、液
溜め槽１０２には給水部１１２及び排水部１１３を備え
ておくとレジストミスト８で汚染された水１０９の交換
が容易で好適である。
の構成のレジストミスト除去部を具備する排気系１０１
の一例の断面図を図１に示す。レジスト塗布装置には排
気系１０１は、２つ配置されバランスのよい排気ができ
るようになっているがその一方のみを図示する。図３と
同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。排気系
１０１は、排気孔１６の下方に配置した密閉空間である
液溜め槽１０２に繋がる排気管１０３ａと、その排気管
１０３ａ経路の途中に配置した排気管１０３ａに対して
斜め上側方から接続した側方配管１０４及びその側方配
管１０４の内部に配設した回転数可変な小型ファン１０
５と、側方配管１０４よりも下流に配置し排気管１０３
ａ内の圧力を測定する圧力計２０と、一端を圧力計２０
に、他端を小型ファン１０５に接続し圧力計２０からの
信号により小型ファン１０５の回転数を制御する回転数
制御部１０６と、排気管１０３ａ内に噴霧状の水ミスト
１０７（図中■）を吹出す噴射ノズル１０８と、排気気
流１０ａの進行方向の正面にあって、その液面に排気気
流１０ａが勢いよく吹付けられる水１０９を溜めた液溜
め槽１０２と、液溜め槽１０２の上面に設けた通気孔１
１０から排気ポンプ１７に繋がる排気管１０３ｂとで構
成されており、小型ファン１０５が発生する制御気流１
１１によって排気気流１０ａの流速を所望の流速に制御
可能となっている。また、排気管１０３ａ内に向けて配
置した噴射ノズル１０８は、排気気流１０ａ中のレジス
トミスト８（図中●）に水ミスト１０７を吹付け付着さ
せて巨大化（質量増加）させる。また、液溜め槽１０２
内の水１０９は、その液面に排気気流１０ａを勢いよく
吹付けたときの慣性力を利用して巨大化（質量増加）し
たレジストミスト８を液中に取り込み捕捉する。尚、液
溜め槽１０２には給水部１１２及び排水部１１３を備え
ておくとレジストミスト８で汚染された水１０９の交換
が容易で好適である。
【００１３】次に、上記の排気系１０１の動作について
説明する。先ず、排気孔１６に流れ込んだ排気気流１０
ａは、圧力計２０からの信号により回転数が制御される
小型ファン１０５が発生する制御気流１１１と合流され
ることで流速及び流量が制御され、次に、排気気流１０
ａ中のレジストミスト８は、噴射ノズル１０８から吹付
けられる水ミスト１０７が付着し巨大化（質量増加）す
る。次に、巨大化（質量増加）したレジストミスト８を
含む排気気流１０ａは、その進行方向の正面にある水面
１０９ａに勢いよく吹付けられ、その慣性力により巨大
化（質量増加）したレジストミスト８は水１０９中に放
出され取り込まれる。そして、レジストミスト８を放出
した後の排気気流１０ｂは通気孔１１０から排気管１０
３ｂを通して排気される。このようにすると、排気系１
０１に目詰まりするものを一切配置しないためレジスト
ミスト８による目詰まりで経時的に排気気流１０ａの流
速及び流量が低下する虞がない。
説明する。先ず、排気孔１６に流れ込んだ排気気流１０
ａは、圧力計２０からの信号により回転数が制御される
小型ファン１０５が発生する制御気流１１１と合流され
ることで流速及び流量が制御され、次に、排気気流１０
ａ中のレジストミスト８は、噴射ノズル１０８から吹付
けられる水ミスト１０７が付着し巨大化（質量増加）す
る。次に、巨大化（質量増加）したレジストミスト８を
含む排気気流１０ａは、その進行方向の正面にある水面
１０９ａに勢いよく吹付けられ、その慣性力により巨大
化（質量増加）したレジストミスト８は水１０９中に放
出され取り込まれる。そして、レジストミスト８を放出
した後の排気気流１０ｂは通気孔１１０から排気管１０
３ｂを通して排気される。このようにすると、排気系１
０１に目詰まりするものを一切配置しないためレジスト
ミスト８による目詰まりで経時的に排気気流１０ａの流
速及び流量が低下する虞がない。
【００１４】尚、上記の例では、噴射ノズル１０８を１
個配置する構成で説明したが、複数個配置する構成とし
てもよい。また、レジストミスト８への付着材を噴霧状
の水ミスト１０７で説明したが、噴霧状でなくシャワー
状であってもよい。また、材料は、レジストミスト８に
付着しその質量を増加させるものであれば何でもよく、
液体であっても固体（微粒子）であってもよい。また、
液溜め槽１０２に溜める液体は、特に水１０９に限るも
のではなく液体であれば何でもよい。但し、有害でなく
回収後レジストと分離しやすい液体が望ましい。
個配置する構成で説明したが、複数個配置する構成とし
てもよい。また、レジストミスト８への付着材を噴霧状
の水ミスト１０７で説明したが、噴霧状でなくシャワー
状であってもよい。また、材料は、レジストミスト８に
付着しその質量を増加させるものであれば何でもよく、
液体であっても固体（微粒子）であってもよい。また、
液溜め槽１０２に溜める液体は、特に水１０９に限るも
のではなく液体であれば何でもよい。但し、有害でなく
回収後レジストと分離しやすい液体が望ましい。
【００１５】次に、本発明のレジスト塗布装置の第２の
構成のレジストミスト除去部を具備する排気系２０１の
一例の断面図を図２に示す。レジスト塗布装置には排気
系２０１は、２つ配置されバランスのよい排気ができる
ようになっているがその一方のみを図示する。図１，図
３と同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レ
ジストが光硬化型レジストである場合は、排気系２０１
は、上述した第１の構成における噴射ノズル１０８の代
わりに、排気管１０３ａの一部に例えばガラスで成る透
光窓２０２ａ，２０２ｂを対向させて設け、一方の透光
窓２０２ａの外部に照明装置２０３、それと対向させて
他方の透光窓２０２ｂの外部に反射ミラー２０４を配設
し、排気気流１０ａが透光窓２０２ａを通過する際に光
２０５（図中破線矢印）を照射し光硬化型レジストミス
ト８ａを硬化させ粘着性を低下させるようになってい
る。尚、透光窓２０２ａ，２０２ｂは排気管１０３ａ側
壁より突出して設けておくと光硬化型レジストミスト８
ａにより汚染されにくく好適である。
構成のレジストミスト除去部を具備する排気系２０１の
一例の断面図を図２に示す。レジスト塗布装置には排気
系２０１は、２つ配置されバランスのよい排気ができる
ようになっているがその一方のみを図示する。図１，図
３と同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レ
ジストが光硬化型レジストである場合は、排気系２０１
は、上述した第１の構成における噴射ノズル１０８の代
わりに、排気管１０３ａの一部に例えばガラスで成る透
光窓２０２ａ，２０２ｂを対向させて設け、一方の透光
窓２０２ａの外部に照明装置２０３、それと対向させて
他方の透光窓２０２ｂの外部に反射ミラー２０４を配設
し、排気気流１０ａが透光窓２０２ａを通過する際に光
２０５（図中破線矢印）を照射し光硬化型レジストミス
ト８ａを硬化させ粘着性を低下させるようになってい
る。尚、透光窓２０２ａ，２０２ｂは排気管１０３ａ側
壁より突出して設けておくと光硬化型レジストミスト８
ａにより汚染されにくく好適である。
【００１６】次に、上記の排気系２０１の動作について
説明する。先ず、排気孔１６に流れ込んだ排気気流１０
ａは、圧力計２０からの信号により回転数が制御される
小型ファン１０５が発生する制御気流１１１と合流され
ることで流速及び流量が制御される。次に、排気気流１
０ａ中の光硬化型レジストミスト８ａは、照明装置２０
３から照射される光２０５および反射ミラー２０４で反
射される光２０５により硬化し粘着性が低下する。次
に、硬化した光硬化型レジストミスト８ａを含む排気気
流１０ａは、その進行方向の正面にある水面１０９ａに
勢いよく吹付けられ、その慣性力により光硬化型レジス
トミスト８ａは水１０９中に放出され取り込まれる。そ
して、光硬化型レジストミスト８ａを放出した後の排気
気流１０ｂは通気孔１１０から排気管１０３ｂを通して
排気される。ここで、通気孔１０９にメッシュ状フィル
タ２０５を配置し、万一、慣性力による放出に漏れがあ
った場合に対し２重に除去する構成としてもよい。この
場合、メッシュ状フィルタ２０５を用いても光硬化型レ
ジストミスト８ａは粘着性が低下しておりメッシュ状フ
ィルタ２０５に付着せず落下するため目詰まりすること
はない。このようにすると、排気系２０１に容易に目詰
まりするものを配置しないため光硬化型レジストミスト
８ａによる目詰まりで経時的に排気気流１０ａの流速及
び流量が低下する虞がない。
説明する。先ず、排気孔１６に流れ込んだ排気気流１０
ａは、圧力計２０からの信号により回転数が制御される
小型ファン１０５が発生する制御気流１１１と合流され
ることで流速及び流量が制御される。次に、排気気流１
０ａ中の光硬化型レジストミスト８ａは、照明装置２０
３から照射される光２０５および反射ミラー２０４で反
射される光２０５により硬化し粘着性が低下する。次
に、硬化した光硬化型レジストミスト８ａを含む排気気
流１０ａは、その進行方向の正面にある水面１０９ａに
勢いよく吹付けられ、その慣性力により光硬化型レジス
トミスト８ａは水１０９中に放出され取り込まれる。そ
して、光硬化型レジストミスト８ａを放出した後の排気
気流１０ｂは通気孔１１０から排気管１０３ｂを通して
排気される。ここで、通気孔１０９にメッシュ状フィル
タ２０５を配置し、万一、慣性力による放出に漏れがあ
った場合に対し２重に除去する構成としてもよい。この
場合、メッシュ状フィルタ２０５を用いても光硬化型レ
ジストミスト８ａは粘着性が低下しておりメッシュ状フ
ィルタ２０５に付着せず落下するため目詰まりすること
はない。このようにすると、排気系２０１に容易に目詰
まりするものを配置しないため光硬化型レジストミスト
８ａによる目詰まりで経時的に排気気流１０ａの流速及
び流量が低下する虞がない。
【００１７】尚、上記の例では、照明装置２０３を１個
配置する構成で説明したが複数個配置してもよい。ま
た、液溜め槽１０２に溜める液体は、特に水１０９に限
るものではなく液体であれば何でもよい。但し、有害で
なく回収後レジストと分離しやすい液体が望ましい。
配置する構成で説明したが複数個配置してもよい。ま
た、液溜め槽１０２に溜める液体は、特に水１０９に限
るものではなく液体であれば何でもよい。但し、有害で
なく回収後レジストと分離しやすい液体が望ましい。
【００１８】
【発明の効果】本発明のレジスト塗布装置の第１の構成
のレジストミスト除去部によればレジストミストに付着
材を付着させ巨大化（質量増加）させて、排気気流を液
面に吹付けるときの慣性力を利用してレジストミストを
除去するため、、排気系にレジストミストによって目詰
まりするものを一切配置せず、経時的に排気気流の流速
や流路を安定させることが出来る。また、レジストが光
硬化型レジストである場合、本発明のレジスト塗布装置
の第２の構成のレジストミスト除去部によれば、光硬化
型レジストに光を照射し硬化させ粘着性を低下させて、
排気気流を液面に吹付けるときの慣性力を利用してレジ
ストミストを除去するとともにメッシュ状フィルタを用
いた２重の除去が可能となるため経時的に排気気流の流
速や流路を安定させることが出来る。
のレジストミスト除去部によればレジストミストに付着
材を付着させ巨大化（質量増加）させて、排気気流を液
面に吹付けるときの慣性力を利用してレジストミストを
除去するため、、排気系にレジストミストによって目詰
まりするものを一切配置せず、経時的に排気気流の流速
や流路を安定させることが出来る。また、レジストが光
硬化型レジストである場合、本発明のレジスト塗布装置
の第２の構成のレジストミスト除去部によれば、光硬化
型レジストに光を照射し硬化させ粘着性を低下させて、
排気気流を液面に吹付けるときの慣性力を利用してレジ
ストミストを除去するとともにメッシュ状フィルタを用
いた２重の除去が可能となるため経時的に排気気流の流
速や流路を安定させることが出来る。
【図１】 本発明のレジスト塗布装置の第１の構成のレ
ジストミスト除去部を具備する排気系の一例の断面図
ジストミスト除去部を具備する排気系の一例の断面図
【図２】 本発明のレジスト塗布装置の第２の構成のレ
ジストミスト除去部を具備する排気系の一例の断面図
ジストミスト除去部を具備する排気系の一例の断面図
【図３】 従来のレジスト塗布装置の断面図
８ レジストミスト
１０ａ 排気気流
２０ 圧力計
１０２ 液溜め槽
１０３ａ，１０３ｂ 排気管
１０４ 側方配管
１０５ 小型ファン
１０６ 回転数制御部
１０７ 水ミスト
１０８ 噴射ノズル
１０９ 水
Claims (4)
- 【請求項１】レジストミストを含んだ排気気流を通過さ
せる排気管経路に、前記排気気流中に含まれるレジスト
ミストを除去するレジストミスト除去部を有するレジス
ト塗布装置において、前記レジストミスト除去部は、前
記排気気流の流速を検知し制御する流速制御部と、前記
排気気流中のレジストミストに付着させる付着材を供給
する付着材供給部と、前記付着材が付着したレジストミ
ストを捕捉するレジストミスト捕捉部とを備えることを
特徴とするレジスト塗布装置。 - 【請求項２】前記流速制御部は、前記排気管内の圧力を
測定する圧力計と、前記排気管に対して下流に向けて斜
め側方から接続した側方配管及び前記側方配管内に配設
され前記圧力計からの信号に基づき回転数を制御可能な
ファンとで構成し、前記付着材供給部は、噴霧状あるい
はシャワー状の液体を前記排気気流中のレジストミスト
に向けて吹付ける噴射ノズルであり、前記レジストミス
ト捕捉部は、前記排気気流の進行方向の正面にあって、
その液面に前記排気気流が勢いよく吹付けられる液体を
溜めた液溜め槽であることを特徴とする請求項１に記載
のレジスト塗布装置。 - 【請求項３】レジストミストを含んだ排気気流を通過さ
せる排気管経路に、前記排気気流中に含まれる光硬化型
レジスト材から成るレジストミストを除去する光硬化型
レジストミスト除去部を有するレジスト塗布装置におい
て、前記光硬化型レジストミスト除去部は、前記排気気
流の流速を検知し制御する流速制御部と、前記排気気流
中の光硬化型レジストミストに光を照射し硬化させる光
硬化型レジストミスト硬化部と、前記光硬化型レジスト
ミスト硬化部で硬化した光硬化型レジストミストを捕捉
する光硬化型レジストミスト捕捉部とを備えることを特
徴とするレジスト塗布装置。 - 【請求項４】前記流速制御部は、前記排気管内の圧力を
測定する圧力計と、前記排気管に対して下流に向けて斜
め側方から接続した側方配管及び前記側方配管内に配設
され前記圧力計からの信号に基づき回転数を制御可能な
ファンとで構成し、前記光硬化型レジストミスト硬化部
は、前記排気管に設けた透明体で成る透光窓と、前記透
光窓を通して前記排気気流中の光硬化型レジストミスト
に光を照射する照明装置とで構成され、光硬化型レジス
トミスト捕捉部は、前記排気気流の進行方向の正面にあ
って、その液面に前記排気気流が勢いよく吹付けられる
液体を溜めた液溜め槽であることを特徴とする請求項３
に記載のレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002039929A JP2003236445A (ja) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002039929A JP2003236445A (ja) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003236445A true JP2003236445A (ja) | 2003-08-26 |
Family
ID=27780814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002039929A Withdrawn JP2003236445A (ja) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003236445A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008259934A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | 液状樹脂の塗布装置 |
| JP2009214052A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 |
| JP2016184644A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 株式会社テックインテック | 回転式塗布装置 |
| CN107755176A (zh) * | 2017-10-26 | 2018-03-06 | 重庆达小丰机械有限公司 | 一种工件上漆加工设备 |
-
2002
- 2002-02-18 JP JP2002039929A patent/JP2003236445A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008259934A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | 液状樹脂の塗布装置 |
| JP2009214052A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 |
| JP2016184644A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 株式会社テックインテック | 回転式塗布装置 |
| CN107755176A (zh) * | 2017-10-26 | 2018-03-06 | 重庆达小丰机械有限公司 | 一种工件上漆加工设备 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041126 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050520 |