JP6476869B2 - 電子デバイス、電子機器および移動体 - Google Patents
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Description
なお、溝は、外縁部を貫通する溝であっても良いし、有底の溝であっても良い。
対角線が設けられる外縁部の角部は、第1機能素子の中心からの距離が大きくなるため、熱膨張などによる歪み(反り)が大きくなる。また、外縁部の角部には、第1方向および第2方向の両方向から歪み(応力)が加わる。これに対して、第3溝部が対角線に直交する方向に設けられているため、第1方向および第2方向から加わる歪み(応力)を、分散しながら効率よく緩和、抑制することができる。
なお、第3溝部は、上述の対角線を中心として、+−(プラスマイナス)10度程度の範囲に設けられていれば、同等の効果を有している。
なお、溝は、外縁部および基板の少なくとも一方を貫通する溝であっても良いし、有底の溝であっても良い。
なお、溝は、外縁部を貫通する溝であっても良いし、有底の溝であっても良い。
なお、溝は、外縁部および基板の少なくとも一方を貫通する溝であっても良いし、有底の溝であっても良い。
まず、電子デバイスの実施形態1に係る物理量センサーについて説明する。図1(a)〜図1(c)は、電子デバイスの実施形態1に係る物理量センサーを示す模式図であり、図1(a)は、平面図、図1(b)は、物理量センサーが備えるセンサー部としての第1センサー素子の平面図、図1(c)は図1(b)のA−A断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図に付記するXYZ軸において、X方向を右方向、X軸方向(±X方向)を横方向、Y方向を奥行方向、Y軸方向(±Y方向)を前後方向、Z方向を上方向、Z軸方向(±Z方向)を上下方向として説明する。
物理量センサー1は、センサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。第1センサー素子98は、センシング部2、配線30などを備えている。センシング部2は、可動部としての可動電極50、固定電極60などを備えている。可動電極50は、固定部41,42、固定部41から延出している支持部51,52、可動電極指53,54、可動基部55などを備えている。なお、センサー部を構成する第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90は、同一材料から形成されている。第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90が、同一材料で形成された構成は、第1センサー素子(第1機能素子)98と外縁部90とが別々に形成される構成と比較して物理量センサー1を容易に形成することが可能となる。なお、物理量センサー1は、被接合部材としての板状体の基板3に接合されていてもよい。基板3は、主面としての上面に、凹陥部70が設けられている。この凹陥部70は、第1センサー素子98を平面視したときに、センシング部2の可動電極50(支持部51,52、可動電極指53,54、可動基部55)が収まる領域に形成されていることが好ましい。凹陥部70は、可動電極50(支持部51,52、可動電極指53,54、可動基部55)を基板3から遊離させるための逃げ部として形成される。
可動基部55の+Y側の長辺部分からは、複数の(本実施形態では3つの)梁状の可動電極指53が+Y方向に、可動基部55の−Y側の長辺部分からは、複数の(本実施形態では3つの)梁状の可動電極指54が−Y方向に延出している。
Y軸方向に延出する複数の可動電極指53および複数の可動電極指54は、それぞれ、可動電極50の変位するX軸方向に並んで設けられている。
支持部52も同様に、Y軸方向に蛇行しながら−X方向に延びる形状をなす一対の梁で構成されている。
固定電極指61は、1つの可動電極指53を、間隔を隔てて挟むように、X軸方向の両側に対向して一対ずつ配置されている。換言すれば、一対の固定電極指61、即ち2つの固定電極指61が3か所に配置されている。また、同様に、固定電極指62は、1つの可動電極指54を、間隔を隔てて挟むように、X軸方向の両側に一対ずつ対向して配置されている。換言すれば、一対の固定電極指62、即ち2つの固定電極指62が3か所に配置されている。
同様に、固定電極指62の内の可動電極指54の+X側に位置する固定電極指62(以下、同様に第1固定電極指と言う。)と可動電極指54との間の静電容量、および、固定電極指62の内の可動電極指54の−X側に位置する固定電極指62(以下、同様に第2固定電極指と言う。)と可動電極指54との間の静電容量を可動電極50の変位に応じて変化させることができる。
つまり、センシング部2は、例えば、加速度や角速度などの物理量の変化に応じて、可動電極50(可動電極指53,54)が、支持部51,52を弾性変形させながら、X軸方向(+X方向または−X方向)に変位する。第1センサー素子98は、このような変位に伴って変化する静電容量に基づいて、加速度や角速度などの物理量を検出することができる。つまり、第1センサー素子98は、容量型加速度センサーである。
なお、可動電極50および固定電極60の形状は、センシング部2を構成する各部の形状、大きさなどに応じて決められるものであり、上述した構成に限定されない。
具体的には、物理量センサー1の主面上中央部において、第1センサー素子98は、平面視矩形の領域を占めて構成されている。また、物理量センサー1の主面上中央部において、外縁部90は、第1センサー素子98を囲むように、額縁状に形成されている。外縁部90には、配線(図示省略)により、例えば接地電位などの固定電位が与えられる。このように外縁部90を、接地電位や定電位などの固定電位とすることで、外縁部90がシールド電極としての効果を有する。
また、シリコン基板は、エッチングにより高精度に加工することができる。そのため、物理量センサー1を、シリコン基板を主材料として構成することにより、センシング部2などの寸法精度を優れたものとし、その結果、第1センサー素子98の高感度化を図ることができる。
また、物理量センサー1を構成するシリコン材料には、リン、ボロンなどの不純物がドープされていることが好ましい。これにより、物理量センサー1は、第1センサー素子98(センシング部2)の導電性、および外縁部90のシールド電極としてのシールド性を優れたものとすることができる。
なお、物理量センサー1の構成材料としては、シリコン基板に限定するものではなく、静電容量の変化に基づく物理量の検出が可能な材料であれば良い。
物理量センサー1は、第1機能素子としての第1センサー素子98の外周(物理量センサー1を平面視したときの外周)に配置された外縁部90とを備えている。そして、外縁部90には、第1方向に延在する第1溝部92が並設されている。このような構成において、外縁部90は、例えば、第1センサー素子98が検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子98に与えるノイズを遮断あるいは低減する効果を有するシールド電極とすることができる。外縁部90をシールド電極として構成する場合には、第1センサー素子98の外周をより広い面積で取り囲むことがより効果的である。本適用例のように、外縁部90に第1溝部92が設けられていることにより、外縁部90から第1センサー素子98に伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力は、第1溝部92によってその伝達が緩和される。したがって、第1センサー素子98の外周をより広い面積で取り囲むことが可能となる。これらにより、第1センサー素子98が検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子98に与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有しながら、外部から第1センサー素子98に伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した電子デバイスとしての物理量センサー1を得ることができる。
また、第1センサー素子98と、外縁部90と、外縁部90の第1溝部92とが、同一材料から形成されていることにより、その製造に当たって、一体に、例えば、一枚のシリコン基板をパターニング加工することにより形成されることが可能となり、物理量センサー1を容易に製造することができる。
ここで、実施形態1に係る物理量センサー1の変形例について、図2および図3を参照して説明する。図2は、実施形態1に係る物理量センサー1の変形例1〜変形例3を模式的に示す平面図であり、図2(a)は変形例1、図2(b)は変形例2、図2(c)は変形例3を示す。図3は、実施形態1に係る物理量センサー1の変形例4、変形例5を模式的に示す平面図であり、図3(a)は変形例4、図3(b)は変形例5、図3(c)は溝の形状の変形例を示す。図2(a)〜図2(c)に示す変形例の物理量センサー1a,1b,1c、および図3(a)、図3(b)に示す変形例の物理量センサー1d,1eは、実施形態1の物理量センサー1と、外縁部90に設けられている溝部(物理量センサー1では第1溝部92)の構成が異なっている。以下、変形例1〜5の説明では、前述の実施形態1の物理量センサー1との相違点を中心に説明し、同様構成については同符号を付して説明を省略することもある。
図2(a)に示す物理量センサー1aは、前述の物理量センサー1と同様にセンサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。なお、第1センサー素子98は、前述の物理量センサー1と同様であるので説明を省略する。
第2溝部93は、第1溝部92と同様に、外縁部90を貫通する孔溝(溝)であり、Y軸方向の長さが、額縁状を成す外縁部90の枠幅の約70%、X軸方向の幅が外縁部90の枠幅の約10%の大きさである。第2溝部93は、略等間隔に配置された第1溝部92の間あるいはその隣に交互に並ぶように略等間隔に配置されている。このように、第1溝部92と第2溝部93とが並んで配置されることにより、外乱などの漏れ振動や漏れ力の伝達をさらに効果的に抑制することができる。
また、第1溝部92および第2溝部93は、物理量センサー1aを平面視したとき、第1溝部92および第2溝部93によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
図2(b)に示す物理量センサー1bは、前述の物理量センサー1と同様にセンサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。なお、第1センサー素子98は、前述の物理量センサー1と同様であるので説明を省略する。
複数のドット状の溝9で構成された第2溝群93´は、第1溝群92´と同様に、Y軸方向の長さが、額縁状を成す外縁部90の枠幅の約70%、X軸方向の幅が外縁部90の枠幅の約10%の大きさである。第2溝群93´は、略等間隔に配置された第1溝群92´の間あるいはその隣に交互に並ぶように略等間隔に配置されている。
また、第1溝群92´および第2溝群93´は、物理量センサー1bを平面視したとき、第1溝群92´および第2溝群93´によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
図2(c)に示す物理量センサー1cは、前述の物理量センサー1と同様にセンサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。なお、第1センサー素子98は、前述の物理量センサー1と同様であるので説明を省略する。
第3溝部91は、第1溝部92および第2溝部93と同様に、外縁部90の上面から下面に貫通する孔溝(溝)である。なお、第3溝部91の延在方向の長さや幅は、第1溝部92および第2溝部93と同程度に設けられる。また、第3溝部91は、複数のドット状の溝9からなる第3溝群91´(図示せず)であってもよい。
また、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91は、物理量センサー1cを平面視したとき、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、第3溝部91は、例えば、物理量センサー1cの中心Gを基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
また、これに加えて、外縁部90の四隅に設けられた第3溝部91により、第1方向および第2方向からの例えば熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる角部(四隅部分)の歪み応力を効率よく緩和、抑制することができる。対角線CL1,CL2が設けられる外縁部90の角部(四隅)は、第1センサー素子98の中心Gからの距離が大きくなるため、熱膨張などによる歪み(反り)が大きくなる。また、外縁部90の角部(四隅)には、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)の両方向から歪み(応力)が加わる。これに対して、第3溝部91が対角線に直交する方向に設けられているため、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)から加わる歪み(応力)を、分散しながら効率よく緩和、抑制することができる。
これらにより、第1センサー素子98が検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子98に与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有しながら、外部から第1センサー素子98に伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー1cを得ることができる。
図3(a)に示す物理量センサー1dは、前述の物理量センサー1と同様にセンサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。なお、第1センサー素子98は、前述の物理量センサー1と同様であるので説明を省略する。
なお、第3溝部91,91a,91bは、中心線(対角線)CL1,CL2を中心とした+−(プラスマイナス)10度程度の範囲に設けられていれば、同等の効果を有している。
また、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91,91a,91bは、物理量センサー1dを平面視したとき、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91,91a,91bによって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、第3溝部91,91a,91bは、例えば、物理量センサー1dの中心Gを基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
また、これに加えて、外縁部90の四隅に設けられた第3溝部91および他の第3溝部91a,91bにより、第1方向および第2方向からの例えば熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる角部(四隅部分)の歪み応力を、さらに効率よく緩和、抑制することができる。これらにより、第1センサー素子98が検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子98に与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有しながら、外部から第1センサー素子98に伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー1dを得ることができる。
図3(b)に示す物理量センサー1eは、前述の物理量センサー1と同様にセンサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)98、および外縁部90などを備えている。第1センサー素子98は、前述の物理量センサー1と同様であるので説明を省略する。
上述したドット状の溝9の平面形状は、円形に限らず他の形状であってもよい。ドット状の溝9の平面形状は、図3(c)に示すように、円形をなしたドット状の溝9以外にも、例えば正方形をなしたドット状の溝9a、三角形をなしたドット状の溝9b、長方形(四角形)をなしたドット状の溝9c、六角形をなしたドット状の溝9dなどの多角形や楕円などの曲線部を有する形状であってもよい。また、例えば第1溝部92(または第1溝群92´)の構成に、異なる平面形状のドット状の溝や長穴状の溝を組み合わせて用いてもよい。
まず、電子デバイスの実施形態2に係る物理量センサーについて説明する。図4(a)〜図4(c)は、電子デバイスの実施形態2に係る物理量センサーを示す模式図であり、図4(a)は、平面図、図4(b)は、物理量センサーが備えるセンサー素子の平面図、図4(c)は図4(b)のA−A断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図に付記するXYZ軸において、X方向を右方向、X軸方向(±X方向)を横方向、Y方向を奥行方向、Y軸方向(±Y方向)を前後方向、Z方向を上方向、Z軸方向(±Z方向)を上下方向、あるいは、後述する基板10の厚さ方向として説明する。
物理量センサー100は、基板10、センサー部としての第1センサー素子(第1機能素子)99、および外縁部90などを備えている。基板10は、ベース基板として物理量センサー100を支持する板状体であり、平面視したときに矩形の形状を呈している。また、第1センサー素子99は、基板10の主面上に設けられている。基板10は、第1センサー素子99のベース基板をも兼ねている。第1センサー素子99は、センシング部20、配線30などを備えている。センシング部20は、固定部41,42、可動部としての可動電極50、固定電極60などを備えている。可動電極50は、支持部51,52、可動電極指53,54、可動基部55などを備えている。なお、センサー部を構成する第1センサー素子(第1機能素子)99、および外縁部90は、別々に形成されてもよいが、同一材料から形成されることがより好ましい。第1センサー素子(第1機能素子)99、および外縁部90が、同一材料で形成された構成は、第1センサー素子(第1機能素子)99と外縁部90とが別々に形成される構成と比較してセンサー部を容易に形成することが可能となる。
固定部41,42は、基板10を平面視したときに、凹陥部70の領域の外側の領域に、基板10の主面に接合し設けられている。具体的には、固定部41は、基板10の主面の凹陥部70に対して−X方向側(図中左側)の部分に接合され、固定部42は、凹陥部70に対して+X方向側(図中右側)の部分に接合されている。また、固定部41,42は、平面視したときに、それぞれ、凹陥部70の外周縁部に跨るように設けられている。
可動基部55の+Y側の長辺部分からは、複数の(本実施形態では3つの)梁状の可動電極指53が+Y方向に、可動基部55の−Y側の長辺部分からは、複数の(本実施形態では3つの)梁状の可動電極指54が−Y方向に延出している。
凹陥部70は、可動電極50(支持部51,52、可動電極指53,54、可動基部55)を基板10から遊離させるための逃げ部として形成されている。なお、本実施形態では、凹陥部70の平面視形状は、矩形を呈しているが、これに限定されるものではない。
Y軸方向に延出する複数の可動電極指53および複数の可動電極指54は、それぞれ、可動電極50の変位するX軸方向に並んで設けられている。
支持部52も同様に、Y軸方向に蛇行しながら−X方向に延びる形状をなす一対の梁で構成されている。
固定電極指61は、1つの可動電極指53を、間隔を隔てて挟むように、X軸方向の両側に対向して一対ずつ配置されている。換言すれば、一対の固定電極指61、即ち2つの固定電極指61が3か所に配置されている。また、同様に、固定電極指62は、1つの可動電極指54を、間隔を隔てて挟むように、X軸方向の両側に一対ずつ対向して配置されている。換言すれば、一対の固定電極指62、即ち2つの固定電極指62が3か所に配置されている。
同様に、固定電極指62の内の可動電極指54の+X側に位置する固定電極指62(以下、同様に第1固定電極指と言う。)と可動電極指54との間の静電容量、および、固定電極指62の内の可動電極指54の−X側に位置する固定電極指62(以下、同様に第2固定電極指と言う。)と可動電極指54との間の静電容量を可動電極50の変位に応じて変化させることができる。
つまり、センシング部20は、例えば、加速度や角速度などの物理量の変化に応じて、可動電極50(可動電極指53,54)が、支持部51,52を弾性変形させながら、X軸方向(+X方向または−X方向)に変位する。第1センサー素子99は、このような変位に伴って変化する静電容量に基づいて、加速度や角速度などの物理量を検出することができる。つまり、第1センサー素子99は、容量型加速度センサーである。
なお、可動電極50および固定電極60の形状は、センシング部20を構成する各部の形状、大きさなどに応じて決められるものであり、上述した構成に限定されない。
凹部71の深さ寸法(基板10の厚み方向の寸法)は、後述するコンタクト部を除き、配線30の厚さ寸法よりも大きく、凹陥部70の深さ寸法より小さくなっている。
所定の電気接続部とは、配線30の一部を覆うようにセンシング部20を構成する上層が積層して配線30とその上層とが当接し、電気的に接続されるコンタクト部である。
図4(b)に示すように、配線30による第1、第2固定電極指の結線や、配線30と固定部41との接続は、コンタクト部81によって行われる。可動電極50は、固定部41を介して、配線30と電気的に接続されている。なお、配線30の構成材料は、前述の実施形態1と同様であるので説明を省略する。
具体的には、基板10の主面上中央部において、第1センサー素子99は、平面視矩形の領域を占めて構成されている。また、基板10の主面上中央部において、外縁部90は、第1センサー素子99を囲むように、額縁状に形成されている。外縁部90には、配線(図示省略)により、例えば接地電位などの固定電位が与えられる。このように外縁部90を、接地電位などの固定電位とすることで、外縁部90がシールド電極としての効果を有する。
第2溝部93は、第1溝部92と同様に、外縁部90を貫通する孔溝(溝)であり、Y軸方向の長さが、額縁状を成す外縁部90の枠幅の約70%、X軸方向の幅が外縁部90の枠幅の約10%の大きさである。第2溝部93は、略等間隔に配置された第1溝部92の間あるいはその隣に交互に並ぶように略等間隔に配置されている。
また、第1溝部92および第2溝部93は、基板10を平面視したとき、第1溝部92および第2溝部93によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
シリコン基板は、エッチングにより高精度に加工することができる。そのため、センシング部20を、シリコン基板を主材料として構成することにより、センシング部20の寸法精度を優れたものとし、その結果、第1センサー素子99の高感度化を図ることができる。
また、センシング部20、外縁部90を構成するシリコン材料には、リン、ボロンなどの不純物がドープされていることが好ましい。これにより、第1センサー素子99は、センシング部20の導電性、および外縁部90のシールド電極としてのシールド性を優れたものとすることができる。
なお、センシング部20の構成材料としては、シリコン基板に限定するものではなく、静電容量の変化に基づく物理量の検出が可能な材料であれば良い。
前述したように、基板(ガラス基板など)にセンシング部や外縁部(シールド電極)を構成する層(シリコン基板など)を貼り合わせた積層構造を有する物理量センサーでは、使用される温度環境により、センサーとしての検出特性が変動してしまうという問題があった。具体的には、図5(a)に示すように、ガラス基板と、ガラス基板に積層されるシリコン基板との熱膨張係数の差により発生する熱応力が、ガラス基板を反らせてしまうことなどにより、センサー素子を変形させてしまったり、センサー素子の可動部(可動電極)の変位に影響を与えてしまったりするために、検出特性が変動してしまうという問題であった。
図5(b)は、図4(a)のB−B断面図であり、外縁部90に第1溝部92および第2溝部93が設けられた状態を示している。この図からもわかるように、外縁部90に第1溝部92や第2溝部93を貫通させることにより、発生する熱応力自体の緩和や、発生した熱応力の伝達を抑制することが可能となる。つまり、基板10と外縁部90との接合面積が減少することで、発生する熱応力が緩和され(減少し)、また、外縁部90が不連続となることで、熱応力の伝達が分断される。その結果、図5(a)に示されるような反りの発生が抑制される。
次に、電子デバイスの実施形態2に係る物理量センサー100の製造方法について説明する。図6(a)〜図6(d)は、電子デバイスの実施形態2に係る物理量センサー100の製造方法を模式的に示す正断面図である。
また、凹部71の底面に配線30やコンタクト部81を構成する導電体を成膜、パターニングする。導電体を形成する導電体材料としては特に限定されず、例えば、金(Au)、金合金、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、アルミニウム合金、銀(Ag)、銀合金、クロム(Cr)、クロム合金、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、タングステン(W)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、コバルト(Co)、亜鉛(Zn)、ジルコニウム(Zr)等の金属材料や、ITO、ZnO等の電極材料を用いることができる。
物理量センサー100は、基板10と、基板10の主面上に設けられた第1センサー素子99と、第1センサー素子99の外周(基板10を平面視したときの外周)に配置された外縁部90とを備えている。外縁部90は、第1方向(X軸方向)に延在する第1溝部92と、第1方向と交差する第2方向(Y軸方向)に延在する第2溝部93とを有している。そのため、外縁部90が基板10の熱膨張係数と異なる熱膨張係数を有する場合に発生する熱応力は、少なくとも、これらの溝のいずれかによって緩和される。
また、外縁部90と、外縁部90の第1溝部92および第2溝部93とを、同一工程で形成することができるため、容易に第1センサー素子(第1機能素子)99と、外縁部90と、外縁部90の第1溝部92および第2溝部93とを形成することができる。
つまり、使用される環境の温度変化による検出特性の変動が抑制された、より検出特性が安定した物理量センサーを容易に形成し、提供することが可能となる。
外縁部90が基板10の熱膨張係数と異なる熱膨張係数を有する場合、外縁部90は、第1センサー素子99が備える可動部の変位方向と交差する方向に延在する第2溝部93を備えるため、第2溝部93により、可動部の変位方向に生ずる熱応力をより効果的に緩和することができる。特に、第2溝部93が、可動部の変位方向と略直角方向に交差して延在しているため、より効果的に熱応力が緩和される。
次に、図7〜図10を参照して、実施形態2に係る物理量センサーの変形例6〜15について説明する。なお、説明にあたり、上述した実施形態2と同一の構成部位については、同一の符号を使用し、重複する説明は省略する。なお、以下の変形例6〜15では、説明の便宜上、図7〜図10に付記するXYZ軸において、X方向を右方向、X軸方向(±X方向)を横方向、Y方向を奥行方向、Y軸方向(±Y方向)を前後方向、Z方向を上方向、Z軸方向(±Z方向)を上下方向、あるいは、後述する基板10の厚さ方向として説明することがある。
先ず、変形例6に係る物理量センサーについて図7(a)を用いて説明する。図7(a)は、変形例6に係る物理量センサー101の概略を示す平面図である。
第2センサー素子99aは、例えば、第1センサー素子99と同じ構成で、その設置方向(向き)が異なる容量型加速度センサーである。第1センサー素子99がX軸方向の加速度を検出するのに対して、第2センサー素子99aは、Y軸方向の加速度を検出する向きに配置されている。
第3センサー素子99bは、例えば、角速度を検出するジャイロセンサーである。内部に、可動部として振動子を備えている。
なお、必ずしも溝列94および溝列95の両方を設ける必要はなく、センサー素子相互間に発生する応力の緩和が必要な領域に溝列を設ければ良い。
物理量センサー101は、基板10の主面上に設けられた第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備えている。このように、共通の基板上に複数のセンサー素子を備える場合には、一方のセンサー素子が発生するノイズが他方のセンサー素子に影響を与えるなど、物理量センサーとしての検出特性を悪化させる場合がある。このノイズは、電気的なものだけではなく、応力や振動など機械的なエネルギーによる場合がある。具体的には、センサー素子構造体が発生あるいは有する熱応力や残留応力が、また、可動部を有する場合などにおいては、可動部の振動漏れが隣接するセンサー素子に伝達されて隣接するセンサー素子の検出特性に影響を与える場合がある。
次に、変形例7に係る物理量センサーについて図7(b)を用いて説明する。図7(b)は、変形例7に係る物理量センサー102の概略を示す平面図である。
なお、第1機能素子(第1センサー素子99)、および第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)の構成や配置については、変形例6と同様であるので説明を省略する。
溝列94および溝列95のそれぞれにおいて、基板10を平面視したとき、第1溝部92および第2溝部93によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
なお、必ずしも溝列94および溝列95の両方を設ける必要はなく、センサー素子相互間に発生する応力の緩和が必要な領域に溝列を設ければ良い。
物理量センサー102は、基板10の主面上に設けられた第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備えている。このように、共通の基板上に複数のセンサー素子を備える場合には、一方のセンサー素子が発生するノイズが他方のセンサー素子に影響を与えるなど、物理量センサーとしての検出特性を悪化させる場合がある。このノイズは、電気的なものだけではなく、応力や振動など機械的なエネルギーによる場合がある。具体的には、センサー素子構造体が発生あるいは有する熱応力や残留応力が、また、可動部を有する場合などにおいては、可動部の振動漏れが隣接するセンサー素子に伝達されて隣接するセンサー素子の検出特性に影響を与える場合がある。
次に、変形例8に係る物理量センサーについて説明する。図7(c)は、変形例8に係る物理量センサー103の概略を示す平面図である。
外縁部90aが基板10の熱膨張係数と異なる熱膨張係数を有する場合に発生する熱応力は、これらの溝(第1溝部92および第2溝部93、あるいは、少なくともこれらの一方の溝)によって緩和される。また、基板10と基板10の主面上の外縁部90aとの間に生ずる熱応力も、これらの溝によって緩和される。その結果、熱膨張係数の差により発生する熱応力が、基板10の主面上に設けられたセンサー素子(第1センサー素子99、第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を変形させてしまったり、センサー素子が備える可動部の変位に影響を与えてしまったりすることが抑制され、センサー素子が使用される環境の温度変化による検出特性の変動が抑制される。
また、複数のセンサー素子間に働く応力や、一方から他方に伝達される漏れ振動などのエネルギーは、第1溝部92および第2溝部93、あるいは、少なくともこれらの一方の溝によってその伝達が緩和され、特性に与える影響を抑制させることができる。
このように、外縁部90aの全領域に亘って、第1溝部92および第2溝部93がX軸方向、Y軸方向に交互に並ぶように配置されることで、より効果的に検出特性の安定化をはかることができる。
次に、変形例9に係る物理量センサー104について、図8(a)を用いて説明する。図8(a)は、変形例9に係る物理量センサー104の概略を示す平面図である。
図8(a)に示す変形例9に係る物理量センサー104は、変形例6と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の領域の外縁部90aに第1溝部92がX軸方向に並ぶ列からなる溝列94を備えている。また、加えて、物理量センサー104は、第1機能素子(第1センサー素子99)および第2機能素子(第3センサー素子99b)の外縁部90aに第3溝部91(91e)を備えていることを特徴としている。本変形例9の説明では、変形例6と同様な構成については、同符号を付して説明を省略する。
なお、第3溝部91(91e)は、対角線CL1a,CL2a,CL3a,CL4aを中心とした+−(プラスマイナス)10度程度の範囲に設けられていれば、同等の効果を有している。
また、第1溝部92および第3溝部91(91e)は、物理量センサー104を平面視したとき、第1溝部92および第3溝部91(91e)によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、第3溝部91(91e)は、第2センサー素子99aの外縁部90aに設けることもできる。
また、第3溝部91(91e)は、例えば、それぞれのセンサー素子の中心を基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
物理量センサー104は、第1溝部92に加えて第1センサー素子99および第3センサー素子99bの四隅の外縁部90aに第3溝部91(91e)を備えている。この第3溝部91(91e)により、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)からの例えば熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる角部(四隅部分)の歪み応力を効率よく緩和、抑制することができる。
対角線CL1a,CL2a,CL3a,CL4aが設けられる外縁部90aの角部(四隅)は、第1センサー素子99の中心からの距離が大きくなるため、熱膨張などによる歪み(反り)や基板10と外縁部90aとの熱膨張の違いによる歪み(応力)が大きくなる。また、外縁部90aの角部(四隅)には、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)の両方向から歪み(応力)が加わる。これに対して、第3溝部91(91e)が対角線に直交する方向に設けられているため、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)から加わる歪み(応力)を、分散しながら効率よく緩和、抑制することができる。これらにより、第1センサー素子99や第3センサー素子99bが検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子99や第3センサー素子99bに与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有しながら、外部から第1センサー素子99や第3センサー素子99bに伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー104を得ることができる。
なお、第3溝部91(91e)を、第2センサー素子99aの外縁部90aに設ければ、上述と同様な効果を奏することになる。
次に、変形例10に係る物理量センサー105について、図8(b)を用いて説明する。図8(b)は、変形例10に係る物理量センサー105の概略を示す平面図である。
図8(b)に示す変形例10に係る物理量センサー105は、変形例7と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の領域の外縁部90aに第1溝部92および第2溝部93がX軸方向に交互に並ぶ列からなる溝列94を備えている。また、加えて、物理量センサー105は、変形例9と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)および第2機能素子(第3センサー素子99b)の外縁部90aに第3溝部91(91b,91d)を備えていることを特徴としている。本変形例9の説明では、変形例7および変形例9と同様な構成については、同符号を付して説明を省略する。
なお、第3溝部91(91b,91d)は、対角線CL1b,CL2b,CL3b,CL4bまたは中心線CL5b,CL6b,CL7b,CL8bを中心とした+−(プラスマイナス)10度程度の範囲に設けられていれば、同等の効果を有している。
また、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91(91b,91d)は、物理量センサー104を平面視したとき、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、第3溝部91(91b,91d)は、第2センサー素子99aの外縁部90aに設けることもできる。
また、第3溝部91(他の第3溝部91b,91d)は、例えば、それぞれのセンサー素子の中心を基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
物理量センサー105は、第1溝部92および第2溝部93に加えて第1センサー素子99および第3センサー素子99bの四隅の外縁部90aに第3溝部91を備え、この内側の外縁部90aに他の第3溝部91b,91dを備えている。この第3溝部91(91b,91d)により、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)からの例えば熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる角部(四隅部分)の歪み応力を効率よく緩和、抑制することができる。これらにより、第1センサー素子99や第3センサー素子99bが検出する信号の漏れや、外部から第1センサー素子99や第3センサー素子99bに与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有しながら、外部から第1センサー素子99や第3センサー素子99bに伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー105を得ることができる。
なお、第3溝部91(91b,91d)を、第2センサー素子99aの外縁部90aに設ければ、上述と同様な効果を奏することになる。
次に、変形例11に係る物理量センサー106について、図9(a)を用いて説明する。図9(a)は、変形例11に係る物理量センサー106の概略を示す平面図である。
図9(a)に示す変形例11に係る物理量センサー106は、変形例6と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の領域の外縁部90aに第1溝部92がX軸方向に並ぶ列からなる溝列94、および第1溝部92がY軸方向に並ぶ列からなる溝列95を備えている。
次に、変形例12に係る物理量センサー107について、図9(b)を用いて説明する。図9(b)は、変形例12に係る物理量センサー107の概略を示す平面図である。
図9(b)に示す変形例12に係る物理量センサー107は、変形例7と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の領域の外縁部90aに変形例7の第1溝部92に相当する第1溝群92´および変形例7の第2溝部93に相当する第2溝群93´を備えている。具体的には、第1センサー素子99と第3センサー素子99bとの間の領域の外縁部90aは、第1溝群92´および第2溝群93´がX軸方向に交互に並ぶ列からなる溝列94が設けられ、第1センサー素子99と第2センサー素子99aとの間、および第3センサー素子99bと第2センサー素子99aとの間の領域の外縁部90aに、第1溝群92´および第2溝群93´がY軸方向に交互に並ぶ列からなる溝列95が設けられている。
次に、変形例13に係る物理量センサー108について、図9(c)を用いて説明する。図9(c)は、変形例13に係る物理量センサー108の概略を示す平面図である。
図9(c)に示す変形例13に係る物理量センサー108は、変形例8と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の外周をとり囲む外縁部90aの全領域(全面)に亘って変形例8の第1溝部92に相当する第1溝群92´および変形例8の第2溝部93に相当する第2溝群93´を備えている。
次に、変形例14に係る物理量センサー109aについて、図10(a)を用いて説明する。図10(a)は、変形例14に係る物理量センサー109aの概略を示す平面図である。
図10(a)に示す変形例14に係る物理量センサー109aは、変形例6と同様に、第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の領域の外縁部90aに第1溝部92がX軸方向に並ぶ列からなる溝列94を備えている。また、加えて、物理量センサー109aは、基板10の外周部に重なる、第1機能素子(第1センサー素子99)および第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を囲む外縁部90aに第3溝部91を備えていることを特徴としている。本変形例14の説明では、変形例6と同様な構成については、同符号を付して説明を省略する。
また、第1溝部92および第3溝部91は、物理量センサー109aを平面視したとき、第1溝部92および第3溝部91によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、第3溝部91は、例えば、物理量センサー109aの中心を基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
また、第1溝部92および第3溝部91は、溝が並んで配置されている構成であっても良い。
物理量センサー109aは、基板10の外周部に重なる外縁部90aの四隅に第3溝部91を備えている。この第3溝部91により、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)からの例えば熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる角部(四隅部分)の歪み応力を効率よく緩和、抑制することができる。
対角線CL11,CL12が設けられる基板10の外周部に重なる外縁部90aの角部(四隅)は、物理量センサー109aの中心からの距離が大きくなるため、熱膨張などによる歪み(反り)や基板10と外縁部90aとの熱膨張の違いによる歪み(応力)が大きくなる。また、外縁部90aの角部(四隅)には、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)の両方向から歪み(応力)が加わる。これに対して、第3溝部91が対角線に直交する方向に設けられているため、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)から加わる歪み(応力)を、分散しながら効率よく緩和、抑制することができる。
これらにより、第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bが検出する信号の漏れや、基板10側から第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bに与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有する。これらにより、外部から第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bに伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー109aを得ることができる。
次に、変形例15に係る物理量センサー109bについて、図10(b)を用いて説明する。図10(b)は、変形例15に係る物理量センサー109bの概略を示す平面図である。
変形例15に係る物理量センサー109bは、変形例7と同様に第1機能素子(第1センサー素子99)に加えて、更に第2機能素子(第2センサー素子99a、第3センサー素子99b)を備え、それぞれのセンサー素子の間の外縁部90aに、第1溝部92および第2溝部93を備えている。また、加えて、物理量センサー109bは、基板10の外周部に重なる外縁部90aの四隅に第3溝部91を備え、外周辺部の外縁部90aの領域に第1溝部92、第2溝部93、および他の第3溝部91a,91b,91c,91dを備えている。このように物理量センサー109bは、基板10の外周部に重なる外縁部90aに、第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bを囲むようにそれぞれの溝部を備えていることを特徴としている。本変形例15の説明では、第1センサー素子99と第3センサー素子99bとの間の領域の外縁部90aに設けられている第1溝部92および第2溝部93など、変形例7と同様な構成については、同符号を付して説明を省略する。
なお、第3溝部91や他の第3溝部91a,91b,91c,91dは、対角線CL11,CL12または中心線CL13,CL15,CL16,CL18を中心とした+−(プラスマイナス)10度程度の範囲に設けられていれば、同等の効果を有している。
また、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91(他の第3溝部91a,91b,91c,91d)は、物理量センサー109bを平面視したとき、これらの溝部によって構成される図形が2回回転対称となるように配置されている。
また、基板10と重なる外縁部90aに設けられた第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91(他の第3溝部91a,91b,91c,91d)は、例えば、物理量センサー109bの中心を基準とした同心円に重なる一部を用いるなど、円弧状をなしていても良い。
また、第1溝部92、第2溝部93、および第3溝部91(他の第3溝部91a,91b,91c,91d)は、変形例10のように溝が並んで配置されている構成であっても良い。
物理量センサー109bは、基板10の外周部に重なる外縁部90aの四隅に第3溝部91を備え、外周辺部の外縁部90aの領域に第1溝部92、第2溝部93、および他の第3溝部91a,91b,91c,91dを備えている。このように基板10の外周部と重なる外縁部90aに、第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bを囲むようにそれぞれの溝部を設けることにより、第1方向(X軸方向)および第2方向(Y軸方向)から受ける応力、例えば基板10とそれぞれのセンサー素子の外縁部90aとの熱歪みなどが集中し、比較的大きな歪み応力を生じる基板10の角部(四隅部分)、即ち第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bの外縁部90aの歪み応力を効率よく緩和、抑制することができる。これらにより、第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bが検出する信号の漏れや、基板10側から第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bに与えられるノイズを遮断あるいは低減するシールド効果を有する。これらにより、外部から第1センサー素子99、第2センサー素子99a、および第3センサー素子99bに伝わる外乱などの漏れ振動や漏れ力による電気的特性の変動が抑制された、より電気的特性が安定した物理量センサー109bを得ることができる。
図11は、実施形態3に係る物理量センサー110を示す断面図であり、図4(a)におけるB−B断面に相当する位置の断面図である。なお、実施形態2では、応力を緩和するための第1溝部92、第2溝部93、または第3溝部91を基板10の主面上の外縁部に設けるとして説明したが、これらの溝を基板10に設けても良い。なお、本実施形態3では、第3溝部91が設けられていない構成で説明する。
つまり、本実施形態のように基板10に応力を緩和するための溝を設けた場合であっても、使用される環境の温度変化による検出特性の変動が抑制された、より検出特性が安定した物理量センサー110を提供することができる。
また、本形態のように、第3溝96および第4溝97を基板10に設けることで、外縁部90に第1溝部92、第2溝部93、または第3溝部91を設ける必要がないこと、若しくは外縁部90に占める溝部の面積を削減することができること、などから、外縁部90によるシールド電極としての効果をより大きく得ることができる。
次に、第1溝部および第2溝部の配置に係る他の変形例について説明する。なお、説明にあたり、上述した実施形態と同一の構成部位については、同一の符号を使用し、重複する説明は省略する。図12(a)は、第1溝部および第2溝部の変形例16を示す平面図であり、図12(b)は、第1溝部および第2溝部の変形例17を示す平面図である。なお、変形例16および変形例17は、前述の実施形態2に示す構成と、第1溝部92および第2溝部93の配列が異なっている。
図12(a)に示す変形例16の物理量センサー110は、実施形態2と同様に、第1センサー素子99と第3センサー素子99bとの間の領域の外縁部90aには、第1溝部92および第2溝部93がX軸方向に並ぶ列からなる溝列94が設けられている。また、第1センサー素子99と第2センサー素子99aとの間、および第3センサー素子99bと第2センサー素子99aとの間の領域の外縁部90aには、第1溝部92および第2溝部93がY軸方向に交互に並ぶ列からなる溝列95が設けられている。溝列94における第1溝部92および第2溝部93の配列は、第1溝部92を挟んで第2溝部93aと第2溝部93bとが配置された溝群85が、X軸方向に並んでいる。また、溝列95における第1溝部92および第2溝部93の配列は、第2溝部93を挟んで第1溝部92aと第1溝部92bとが配置された溝群86が、Y軸方向に並んでいる。
図12(b)に示す変形例17の物理量センサー111は、実施形態2と同様に、第1センサー素子99と第3センサー素子99bとの間の領域の外縁部90aには、第1溝部92および第2溝部93がX軸方向に並ぶ列からなる溝列94が設けられている。また、第1センサー素子99と第2センサー素子99aとの間、および第3センサー素子99bと第2センサー素子99aとの間の領域の外縁部90aには、第1溝部92および第2溝部93がY軸方向に交互に並ぶ列からなる溝列95が設けられている。溝列94および溝列95では、第1溝部92および第2溝部93が、略中央で交差する形、所謂十字形の溝群87が配列されている。変形例17の溝列94および溝列95は、この十字形をなした溝群87が、X軸方向およびY軸方向に並んでいる。
また、上述の変形例16および変形例17において説明した第1溝部92および第2溝部93は、変形例11のように溝9が並んで配置されている構成であっても良い。
また、外縁部90は、センサー素子99を全周に亘って囲っていなくてもよい。すなわち、本発明の効果の少なくとも一部を奏するのであれば、外縁部90の一部が開放されていてもよい。
また、上述の実施形態1〜3では、第1方向を可動部(可動電極50)の変位方向であるX軸方向として説明したが、これに限らない。例えば、Y軸方向を第1方向とし、X軸方向を第2方向とすることも可能である。
次いで、本発明の一実施形態に係る電子デバイスとしての物理量センサー100を適用した電子機器について、図13(a)、図13(b)、図14に基づき説明する。なお、以下の説明では、物理量センサー100を適用した例として説明しているが、物理量センサー1,101〜108,109a,109b,110,111であっても良い。
デジタルスチールカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1000が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1000は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCD等を含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部1000に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。また、このデジタルスチールカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。更に、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。このようなデジタルスチールカメラ1300には、フィルター、共振器、角速度センサー等として機能する電子デバイスの一例としての物理量センサー100が内蔵されている。
次いで、本発明の一実施形態に係る物理量センサー100を適用した移動体について、図15に基づき説明する。なお、以下の説明では、物理量センサー100を適用した例として説明しているが、物理量センサー1,101〜108,109a,109b,110,111であっても良い。
Claims (14)
- 互いに直交する3軸をX軸、Y軸およびZ軸としたとき、
基板と、
前記Z軸方向からの平面視で、前記基板と重なり、静電容量の変化に基づいて加速度を検出する第1機能素子と、
前記Z軸方向からの平面視で、前記基板と重なり、前記第1機能素子の外周に沿って配置されている外縁部と、
を含み、
前記外縁部は、
前記Z軸方向からの平面視で、前記第1機能素子を囲んでいる枠であり、
長手方向が前記X軸方向に沿っている第1外縁部および第2外縁部と、
長手方向が前記Y軸方向に沿っている第3外縁部および第4外縁部と、
を含み、
前記Z軸方向からの平面視で、
前記第1外縁部、前記第2外縁部、前記第3外縁部および前記第4外縁部の少なくとも1つには、その長手方向に沿って、
長手形状をなす第1溝部と、
長手形状をなし、その長手方向が前記第1溝部の長手方向と直交している第2溝部と、
が交互に断続的に設けられていることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項1において、
前記第1機能素子は、
前記基板から遊離し、前記基板に対して前記X軸方向に変位可能な可動基部と、
前記可動基部に設けられている可動電極指と、
前記基板に固定され、前記可動電極指と前記X軸方向に対向して配置され、前記可動電極指との間に静電容量を形成する固定電極指と、
を含み、
前記X軸方向の加速度が加わると、前記基板に対して前記可動電極指が前記X軸方向に変位して前記静電容量が変化する電子デバイス。 - 請求項1または2において、
前記第1機能素子は、
前記基板に固定されている固定部と、
前記固定部と前記可動基部とを接続している支持部と、
を含み、
前記外縁部は、前記第1機能素子と遊離している電子デバイス。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
変位可能な可動部を含み、当該可動部が前記基板から遊離している第2機能素子を含むことを特徴とする電子デバイス。 - 請求項4において、
平面視で、前記外縁部には、長手方向が、前記第1機能素子および前記第2機能素子の少なくとも何れかの中心を通る線に対して直交している第3溝部が設けられていることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項5において、
前記第3溝部は、前記外縁部の角部に配置されていることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項5または6において、
平面視で、前記第3溝部は、前記中心に対して回転対称となるように配置されていることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項5乃至7のいずれか一項において、
平面視で、前記第1機能素子と前記第2機能素子との間の前記外縁部に、前記第1溝部、前記第2溝部、および前記第3溝部の少なくとも何れかが設けられていることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項2において、
前記第1溝部の前記長手方向は、前記X軸方向であることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項1乃至9のいずれか一項において、
前記第1溝部および前記第2溝部は、それぞれ、前記外縁部を前記Z軸方向に貫通していることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項1乃至10のいずれか一項において、
前記外縁部は、固定電位であることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項1乃至11のいずれか一項において、
前記第1機能素子の材料と、前記外縁部の材料とは、同一材料であることを特徴とする電子デバイス。 - 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の電子デバイスを備えていることを特徴とする電子機器。
- 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の電子デバイスを備えていることを特徴とする移動体。
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Cited By (1)
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US10595951B2 (en) * | 2016-08-15 | 2020-03-24 | Covidien Lp | Force sensor for surgical devices |
JP6816603B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2021-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量センサー、電子機器、および移動体 |
US10732196B2 (en) * | 2017-11-30 | 2020-08-04 | Invensense, Inc. | Asymmetric out-of-plane accelerometer |
CN109387191B (zh) * | 2018-09-28 | 2020-07-14 | 清华大学 | 一种高温度适应性mems平面谐振陀螺结构 |
JP7194362B2 (ja) * | 2019-04-18 | 2022-12-22 | 株式会社村田製作所 | 共振装置及び共振装置製造方法 |
WO2022019167A1 (ja) * | 2020-07-21 | 2022-01-27 | 株式会社村田製作所 | 圧力センサ構造、圧力センサ装置および圧力センサ構造の製造方法 |
US11490186B2 (en) | 2020-08-31 | 2022-11-01 | Invensense, Inc. | Edge patterns of microelectromechanical systems (MEMS) microphone backplate holes |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3430771B2 (ja) | 1996-02-05 | 2003-07-28 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサの製造方法 |
JP4003326B2 (ja) | 1998-02-12 | 2007-11-07 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサおよびその製造方法 |
JP4665942B2 (ja) * | 1998-02-12 | 2011-04-06 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサ |
JP2000187040A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 加速度センサおよびその製造方法 |
US6257060B1 (en) * | 1999-06-22 | 2001-07-10 | Alliedsignal Inc. | Combined enhanced shock load capability and stress isolation structure for an improved performance silicon micro-machined accelerometer |
KR20030097874A (ko) * | 2001-05-15 | 2003-12-31 | 허니웰 인터내셔널 인코포레이티드 | 가속도 측정기 스트레인 경감 구조 |
US7251520B2 (en) * | 2003-07-08 | 2007-07-31 | General Electric Company | Method and apparatus of slice selective magnetization preparation for moving table MRI |
US8250921B2 (en) * | 2007-07-06 | 2012-08-28 | Invensense, Inc. | Integrated motion processing unit (MPU) with MEMS inertial sensing and embedded digital electronics |
JP5038732B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2012-10-03 | パナソニック株式会社 | 光走査ミラー |
JP2008185369A (ja) | 2007-01-26 | 2008-08-14 | Sony Corp | 角速度センサ、角速度センサの製造方法、電子機器、及び回路基板 |
NL2000566C2 (nl) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Elmos Advanced Packaging B V | Sensorelement en sensorsamenstel met omhulling. |
JP4957414B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2012-06-20 | 株式会社デンソー | 容量式半導体加速度センサ |
JP5076986B2 (ja) | 2008-03-14 | 2012-11-21 | 株式会社デンソー | 容量式物理量センサ |
JP5253859B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-07-31 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 加速度センサの構造及びその製造方法 |
US8468887B2 (en) * | 2008-04-14 | 2013-06-25 | Freescale Semiconductor, Inc. | Resonant accelerometer with low sensitivity to package stress |
JP2010071799A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Rohm Co Ltd | 加速度センサおよび加速度センサの製造方法 |
US8256290B2 (en) * | 2009-03-17 | 2012-09-04 | Minyao Mao | Tri-axis angular rate sensor |
JP5652775B2 (ja) * | 2009-05-29 | 2015-01-14 | トレックス・セミコンダクター株式会社 | 加速度センサー素子およびこれを有する加速度センサー |
US8516886B2 (en) | 2010-04-30 | 2013-08-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Micromachined piezoelectric X-Axis gyroscope |
US8906730B2 (en) * | 2011-04-14 | 2014-12-09 | Robert Bosch Gmbh | Method of forming membranes with modified stress characteristics |
JP2013062339A (ja) * | 2011-09-13 | 2013-04-04 | Seiko Epson Corp | 複合基板、電子デバイス及び電子機器 |
JP5477434B2 (ja) | 2012-08-23 | 2014-04-23 | 株式会社デンソー | 容量式物理量センサ |
JP2014107433A (ja) * | 2012-11-28 | 2014-06-09 | Ibiden Co Ltd | 多数個取り基板 |
CN102998479B (zh) * | 2012-12-31 | 2014-08-13 | 哈尔滨理工大学 | 氮化铝基集成阵列结构的二维风速风向传感器及其制造方法 |
JP2015206746A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-19 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス、電子デバイスの製造方法、物理量センサー、電子機器および移動体 |
CN104280051B (zh) * | 2013-07-09 | 2018-09-25 | 精工爱普生株式会社 | 电子装置及制造方法、物理量传感器、电子设备及移动体 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019066257A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量センサー、慣性計測装置、移動体測位装置、電子機器および移動体 |
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