JP6432189B2 - 有機半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態に係る有機半導体装置1について図1〜図4を参照して説明する。図1、図2に示すように、本実施形態に係る有機半導体装置1は、基板2の一面2a上に、第1絶縁膜3、トランジスタ部4、下部電極5、有機層6、上部電極7、第2絶縁膜8、偏光板9が順次積層されて構成されている。この有機半導体装置1は、下部電極5もしくは上部電極7に接続された配線10がコネクタ100(図3、図4を参照)と電気的に接続させられて、電極(下部電極5または上部電極7)に電圧が印加されると有機層6が発光する発光素子である。すなわち、この有機半導体装置1では、下部電極5、有機層6、および上部電極7によって有機EL素子を構成している。また、有機半導体装置1は、コネクタ100(図1、図2を参照)のターミナルとしてのカンチレバー101(図3、図4を参照)に接触させられる端子部(図1、図2中の一点鎖線20で囲まれた部分)を有する。端子部20は、少なくとも基板2を含む部分である。図2に示すように、この有機半導体装置1では、配線10が、基板2の一面2aのうち端子部20にまで延設されている。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
3 第1絶縁膜3
4 トランジスタ部
4e ゲート絶縁膜
5 下部電極
6 有機層
7 上部電極
8 第2絶縁膜
20 端子部
100 コネクタ
Claims (10)
- 一面(2a)および一端(2b)を有する基板(2)と、
前記基板の一面側に形成された下部電極(5)と、
前記下部電極の所定領域上に形成された有機層(6)と、
前記有機層上に形成された上部電極(7)と、
少なくとも前記上部電極の上方に配置されて、前記下部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止する絶縁膜(8)と、
ゲート電極(4d)および前記ゲート電極を被覆するゲート絶縁膜(4e)を有するトランジスタ部(4)と、を備えると共に、
前記基板の一端側において、ターミナル(101)を有するコネクタ(100)の前記ターミナルに接触させられる部分として構成された端子部(20)を有し、
前記下部電極もしくは前記上部電極に接続された配線(10)が、前記端子部における前記一面の上方にまで延設されており、
前記端子部における前記配線が前記コネクタと電気的に接続させられて、前記下部電極または前記上部電極に電圧が印加されると、前記有機層が発光する有機半導体装置であって、
前記絶縁膜は、前記端子部において前記配線を被覆しており、
前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極を封止しつつ、前記端子部における前記配線の上方にまで延設されて形成され、前記端子部において前記配線をすべて被覆しており、
前記端子部において前記配線の上方に配置されて前記配線を被覆する前記絶縁膜および前記ゲート絶縁膜を含む膜の厚さ(t1)が、前記ターミナルによって前記絶縁膜および前記ゲート絶縁膜を含む膜が所定方向(D)に貫通させられることで前記配線と前記コネクタとの電気的接続が行われる厚さに設定されていることを特徴とする有機半導体装置。 - 前記ゲート絶縁膜が、有機材料を主成分とする有機膜と、前記有機膜を挟んで前記配線の反対側に配置された無機材料を主成分とする無機膜と、が順に積層された構成とされていることを特徴とする請求項1に記載の有機半導体装置。
- 前記端子部において前記配線の上方に配置されて前記配線を被覆する前記ゲート絶縁膜を含む膜の厚さが、1〜999nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の有機半導体装置。
- 前記基板と前記配線の間に下側絶縁膜(3)が配置され、
前記下側絶縁膜が、有機材料を主成分とする有機膜と、前記有機膜を挟んで前記配線の反対側に配置された無機材料を主成分とする無機膜と、が順に積層された構成とされていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機半導体装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機半導体装置の前記端子部において前記配線の上方に配置されて前記配線を被覆する前記ゲート絶縁膜を含む膜が前記ターミナルによって前記所定方向に貫通させられて、前記配線と前記コネクタとが電気的に接続されていることを特徴とする有機半導体装置と前記コネクタとの接続構造。
- 請求項5に記載の有機半導体装置と前記コネクタとの接続構造であって、
請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機半導体装置の前記ターミナルが、前記配線に接触させられる接触凸部(101a)を有し、
前記端子部において前記配線の上方に配置されて前記配線を被覆する前記ゲート絶縁膜を含む膜の前記所定方向における厚さ(t1)が、前記接触凸部の前記所定方向における厚さ(t2)よりも薄いことを特徴とする有機半導体装置と前記コネクタとの接続構造。 - 請求項1ないし4のいずれか1つに記載の有機半導体装置の製造方法であって、
前記基板の一面側に前記下部電極を形成する第1工程と、
前記下部電極の所定領域上に前記有機層を形成する第2工程と、
前記有機層上に前記上部電極を形成する第3工程と、
前記下部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止する前記絶縁膜を形成する第4工程と、を有し、
前記第4工程において、前記上部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止しつつ前記端子部における前記配線の上方にまで延設されて前記端子部における前記配線を被覆する前記絶縁膜を含むと共に前記ターミナルによって前記所定方向に貫通させられる厚さとされた膜を形成することを特徴とする有機半導体装置の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機半導体装置の製造方法であって、
前記基板の一面側にゲート電極(4a)を形成するゲート電極形成工程と、
前記基板の一面側において前記ゲート電極を被覆するゲート絶縁膜(4e)を形成するゲート絶縁膜形成工程と、
前記ゲート絶縁膜上に前記下部電極を形成する第1工程と、
前記下部電極の所定領域上に前記有機層を形成する第2工程と、
前記有機層上に前記上部電極を形成する第3工程と、
前記下部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止する前記絶縁膜を形成する第4工程と、を有し、
前記ゲート絶縁膜形成工程において、前記上部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止しつつ前記端子部における前記配線の上方にまで延設されて前記端子部における前記配線を被覆する前記ゲート絶縁膜を含むと共に前記ターミナルによって前記所定方向に貫通させられる厚さとされた膜を形成する工程、および、前記第4工程において、前記上部電極、前記有機層、および前記上部電極を封止しつつ前記端子部における前記配線の上方にまで延設されて前記端子部における前記配線を被覆する前記絶縁膜を含むと共に前記ターミナルによって前記所定方向に貫通させられる厚さとされた膜を形成する工程のうち少なくとも一方を行うことを特徴とする有機半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜形成工程において、前記ゲート絶縁膜を原子層堆積法によって形成することを特徴とする請求項8に記載の有機半導体装置の製造方法。
- 前記第4工程において、前記絶縁膜を原子層堆積法によって形成することを特徴とする請求項7ないし9のいずれか1つに記載の有機半導体装置の製造方法。
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