JP6430142B2 - レーザ加工モニタ及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Description
[第1実施形態]
[第2実施形態]
Claims (18)
- レーザ光を発する光源から前記レーザ光を伝播させる第1光ファイバを保持する第1光ファイバ保持部と、
前記レーザ光のうち第1波長帯を有する第1光を加工対象物に照射するレーザ加工ヘッドに前記第1光を伝播させ且つ前記加工対象物において前記第1光が照射された部分で発せられた測定光を前記レーザ加工ヘッドから伝播させる第2光ファイバを保持する第2光ファイバ保持部と、
前記第1光ファイバから出射した前記レーザ光のうち前記第1光を反射させ且つ当該レーザ光のうち前記測定光の波長帯に相当する第2波長帯を有する第2光を透過させる第1光学部と、
前記第1光学部で反射した前記第1光を反射させ且つ前記第2光ファイバから出射した前記測定光を透過させる第2光学部と、
前記第2光学部を透過した前記測定光を検出する光検出部と、
前記第1光ファイバと前記第1光学部との間における前記レーザ光の光路上に配置された第1レンズと、
前記第2光ファイバと前記第2光学部との間における前記第1光及び前記測定光の光路上に配置された第1レンズと、を備え、
前記第1光ファイバの許容NAは、前記第2光ファイバの許容NAよりも小さい、レーザ加工モニタ。 - レーザ光を発する光源から前記レーザ光を伝播させる第1光ファイバを保持する第1光ファイバ保持部と、
前記レーザ光のうち第1波長帯を有する第1光を加工対象物に照射するレーザ加工ヘッドに前記第1光を伝播させ且つ前記加工対象物において前記第1光が照射された部分で発せられた測定光を前記レーザ加工ヘッドから伝播させる第2光ファイバを保持する第2光ファイバ保持部と、
前記第1光ファイバから出射した前記レーザ光のうち前記第1光を反射させ且つ当該レーザ光のうち前記測定光の波長帯に相当する第2波長帯を有する第2光を透過させる第1光学部と、
前記第1光学部で反射した前記第1光を反射させ且つ前記第2光ファイバから出射した前記測定光を透過させる第2光学部と、
前記第2光学部を透過した前記測定光を検出する光検出部と、
前記第1光ファイバと前記第1光学部との間における前記レーザ光の光路上に配置された第1レンズと、
前記第2光ファイバと前記第2光学部との間における前記第1光及び前記測定光の光路上に配置された第1レンズと、を備え、
前記第1光ファイバの径は、前記第2光ファイバの径よりも小さい、レーザ加工モニタ。 - 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部、前記第2光学部及び前記光検出部を支持する支持体を更に備える、請求項1又は2記載のレーザ加工モニタ。
- 前記支持体は、底壁と、第1方向において対向する1対の第1側壁と、を含むベースであり、
前記第1光ファイバ保持部及び前記第2光ファイバ保持部は、前記1対の第1側壁のうち少なくとも一方に設けられている、請求項3記載のレーザ加工モニタ。 - 前記第1光ファイバ保持部及び前記第2光ファイバ保持部は、前記1対の第1側壁のうち同一の前記第1側壁に設けられており、
前記第1光学部及び前記第2光学部は、前記底壁に取り付けられている、請求項4記載のレーザ加工モニタ。 - 前記第1光ファイバ保持部及び前記第2光ファイバ保持部が設けられた前記第1側壁の厚さは、前記底壁の厚さよりも大きい、請求項4又は5記載のレーザ加工モニタ。
- 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部、前記第2光学部及び前記光検出部の間に形成される光路を覆うカバーを更に備え、
前記カバーは、天壁と、前記第1方向に垂直な第2方向において対向する1対の第2側壁と、を含む、請求項4〜6のいずれか一項記載のレーザ加工モニタ。 - 前記カバーの内面の少なくとも一部には、光吸収処理が施されている、請求項7記載のレーザ加工モニタ。
- 前記第1光ファイバ保持部及び前記第2光ファイバ保持部は、前記支持体を構成する複数の側面のうち同一の前記側面に設けられている、請求項3〜8のいずれか一項記載のレーザ加工モニタ。
- 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部及び前記第2光学部は、同一の平面に沿って配置されており、
前記第1光ファイバ保持部及び前記第2光ファイバ保持部は、それぞれ、前記第1光学部及び前記第2光学部に対して同一の側に配置されている、請求項1〜9のいずれか一項記載のレーザ加工モニタ。 - 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部及び前記第2光学部は、同一の平面に沿って配置されており、
前記第1光ファイバ保持部は、前記第1光学部に対して一方の側に配置されており、
前記第2光ファイバ保持部は、前記第2光学部に対して他方の側に配置されている、請求項1又は2記載のレーザ加工モニタ。 - 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部、前記第2光学部及び前記光検出部を支持する支持体を更に備える、請求項11記載のレーザ加工モニタ。
- 前記支持体は、底壁と、第1方向において対向する1対の第1側壁と、を含むベースであり、
前記第1光ファイバ保持部は、前記1対の第1側壁のうち一方に設けられており、
前記第2光ファイバ保持部は、前記1対の第1側壁のうち他方に設けられており、
前記第1光学部及び前記第2光学部は、前記底壁に取り付けられている、請求項12記載のレーザ加工モニタ。 - 前記第1側壁の厚さは、前記底壁の厚さよりも大きい、請求項13記載のレーザ加工モニタ。
- 前記第1光ファイバ保持部、前記第2光ファイバ保持部、前記第1光学部、前記第2光学部及び前記光検出部の間に形成される光路を覆うカバーを更に備え、
前記カバーは、天壁と、前記第1方向に垂直な第2方向において対向する1対の第2側壁と、を含む、請求項13又は14記載のレーザ加工モニタ。 - 前記カバーの内面の少なくとも一部には、光吸収処理が施されている、請求項15記載のレーザ加工モニタ。
- 前記第1光学部を透過した前記第2光を吸収する光吸収部を更に備える、請求項1〜16のいずれか一項記載のレーザ加工モニタ。
- レーザ光を発する光源と、
前記レーザ光のうち第1波長帯を有する第1光を加工対象物に照射するレーザ加工ヘッドと、
前記光源から前記レーザ光を伝播させる第1光ファイバと、
前記レーザ加工ヘッドに前記第1光を伝播させ且つ前記加工対象物において前記第1光が照射された部分で発せられた測定光を前記レーザ加工ヘッドから伝播させる第2光ファイバと、
請求項1〜17のいずれか一項記載のレーザ加工モニタと、を備える、レーザ加工装置。
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