JP6413895B2 - インデックスマッチング層を有する積層体およびその製造方法、ならびにインデックスマッチング層形成用硬化性組成物 - Google Patents

Description

本発明は、インデックスマッチング層を有する積層体およびその製造方法、ならびにインデックスマッチング層形成用硬化性組成物に関する。本発明は、特に、透明基板と透明電極層との間にインデックスマッチング層を有する積層体に関する。

タッチパネル等の表示装置は、通常、ガラス基板および透明樹脂製基板等の透明基板上に、パターン状の透明電極層が設けられた積層体を有する。前記積層体では、透明基板上の、透明電極層を有する部分（図１中のＡ部分）と透明電極層を有さない部分（図１中のＢ部分）との光学特性の差が大きい。このため、タッチパネル等の表示装置が、その前面部分に前記積層体を有すると、表示装置の視認性が低下するという問題、例えば透明電極層（パターン）の骨見えという問題がある。

上記問題を解決するために、透明基板と透明電極層との間に屈折率の異なる層（インデックスマッチング層）を設けることで、透明電極層を有する部分と有さない部分との光学特性の差を小さくし、視認性を向上させることが行われている（特許文献１〜３参照）。

特開２００９−７６４３２号公報 特開２０１０−１５８６１号公報 国際公開第２０１０／１１４０５６号

インデックスマッチング層（ＩＭ層）は、通常、透明基板上にＩＭ層の前駆体である塗膜を形成し、この塗膜に紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線を照射して形成されている。しかしながら、この場合、透明基板とＩＭ層との密着性が低く、透明基板からＩＭ層の剥離が生じることがある。

本発明の課題は、インデックスマッチング層を有する積層体において、上記剥離が防止された積層体、およびその製造方法を提供することにあり、また、インデックスマッチング層を形成するための硬化性組成物を提供することにある。

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、以下の構成を有する積層体およびインデックスマッチング層形成用硬化性組成物により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明は、例えば以下の［１］〜［１１］に関する。
［１］透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、インデックスマッチング層が、（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物とを含有する硬化性組成物から形成された層であることを特徴とする積層体。

［２］透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、インデックスマッチング層が、（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物とを含有する硬化性組成物から形成された層であることを特徴とする積層体。

［３］インデックスマッチング層の屈折率が、１．５９〜１．８０である前記［１］または［２］に記載の積層体。

［４］インデックスマッチング層を形成する硬化性組成物が、（Ｄ）光重合開始剤をさらに含有する前記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の積層体。

［５］前記化合物（Ｂ１）が、フルオレン骨格を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物およびビスフェノール骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種である前記［１］に記載の積層体。

［６］前記化合物（Ｂ２）が、フルオレン骨格を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物およびビスフェノール骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種である前記［２］に記載の積層体。

［７］前記化合物（Ｃ）が、多官能（メタ）アクリレートである前記［１］〜［６］のいずれか１項に記載の積層体。

［８］透明基板とインデックスマッチング層との間に、接着剤層をさらに有する前記［１］〜［７］のいずれか１項に記載の積層体。

［９］（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物とを含有することを特徴とするインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。

［１０］（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物とを含有することを特徴とするインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。

［１１］透明基板上に、前記［９］または［１０］に記載のインデックスマッチング層形成用硬化性組成物の塗膜を形成する工程、前記塗膜に活性エネルギー線を照射してインデックスマッチング層を形成する工程、および前記インデックスマッチング層上に透明電極層を形成する工程を有する、積層体の製造方法。

本発明によれば、インデックスマッチング層を有する積層体において、上記剥離が防止された積層体、およびその製造方法を提供することができる。また、インデックスマッチング層を形成するための硬化性組成物を提供することができる。

図１は、透明基板と透明電極層とを有する積層体を示す断面図である。 図２は、本発明の積層体の一例を示す断面図である。

以下、本発明を実施するための形態について説明する。

〔積層体〕
本発明の積層体は、透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層された構造を有する。前記インデックスマッチング層は、（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ）波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない、光重合開始剤以外の化合物（Ｂ１）、または１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物（Ｂ２）と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ）以外の化合物とを含有する硬化性組成物から形成された層である。

本発明の積層体は、透明基板とインデックスマッチング層との密着性に優れており、透明基板／インデックスマッチング層間での剥離が防止された積層体である。また、本発明では、光透過性が高く、ヘイズが小さい積層体を提供することができる。

［透明基板］
本発明で使用される透明基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム；ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系フィルム；ポリシクロオレフィン系フィルム；セルローストリアセテートフィルム等のセルロースエステルフィルム；アクリル系フィルムが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
透明基板の厚さは、通常は２０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍである。

透明基板の屈折率は、インデックスマッチング層を設けることで得られる積層体の視認性を向上させる観点から、好ましくは１．４５〜１．７５、より好ましくは１．４５〜１．７０である。透明基板の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１４２に準拠して、アッベ屈折率計を用いて測定することができる。

透明基板上には、傷つき防止や、積層体同士の接触時に積層体同士が張り付いてしまう問題を防止するアンチブロッキング性の付与等のために、ハードコート層が設けられていてもよい。

透明基板上には、インデックスマッチング層、ハードコート層等の他の層との密着性向上のために、接着剤層が設けられていることが好ましい。接着剤層の厚さは、通常は１０〜１５０ｎｍ、好ましくは１０〜１２０ｎｍである。

［インデックスマッチング層］
本発明において、「インデックスマッチング層」とは、タッチパネル等の表示装置等に用いられる積層体を構成する層であって、透明基板と透明電極層との間に、透明基板上の透明電極層を有する部分と透明電極層を有さない部分との光学特性の差を小さくすることを目的として設けられる層のことをいう。

インデックスマッチング層は、（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、（Ｂ）波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない、光重合開始剤以外の化合物（Ｂ１）、または１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物（Ｂ２）と、（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ）以外の化合物とを含有する硬化性組成物から形成された層である。前記硬化性組成物は、活性エネルギー線、特に紫外線を照射することにより硬化する組成物であることが好ましい。以下、前記組成物を「インデックスマッチング層形成用硬化性組成物」ともいう。

以下、前記硬化性組成物の含有成分について説明する。
〈金属酸化物粒子（Ａ）〉
金属酸化物粒子（Ａ）としては、例えば、硬化性組成物から形成された硬化膜（インデックスマッチング層）の透明性および屈折率の観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛およびチタン酸バリウムから選ばれる少なくとも１種を含む粒子が挙げられる。好ましくは、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムからなる粒子である。

金属酸化物粒子（Ａ）の屈折率は１．７以上であり、好ましくは１．７〜４．０、より好ましくは１．７５〜３．５、さらに好ましくは１．８〜３．０である。屈折率が前記範囲にあると、屈折率調整の点で好ましい。屈折率は、アッベ屈折率計（測定波長：５８９ｎｍ）を用いて測定することができる。

金属酸化物粒子（Ａ）の粒子形状は、例えば、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状が挙げられ、好ましくは球状である。
金属酸化物粒子（Ａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

金属酸化物粒子（Ａ）は、硬化性組成物を調製する際、粉体の状態または分散媒中に分散した分散液の状態で用いることができる。均一な分散性が得られやすいことから、金属酸化物粒子（Ａ）を分散液の状態で用いることが好ましい。分散液は、分散媒に金属酸化物粒子（Ａ）を分散させて製造することができ、前記粒子の分散媒への分散性を向上させるために、各種の分散剤および分散助剤を用いてもよい。

分散媒としては、例えば、有機溶媒が挙げられ、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類が挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトン、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、キシレン、エチルベンゼン、トルエンがより好ましい。
分散媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

金属酸化物粒子（Ａ）は、当該粒子について表面変性がなされていてもよい。表面処理剤を用いた表面変性を行うことにより、硬化性組成物から形成された硬化膜の光学特性および保存安定性を改善することができる。表面変性は、公知の方法で用いることができる（例えば、特開２００３−１０５０３４号公報、特開２０１０−２５４８８９号公報参照）。

金属酸化物粒子（Ａ）の表面処理前の１次粒子の平均粒子径は、通常は１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。１次粒子の平均粒子径は、比表面積測定法により測定することができる。特定の平均粒子径を有する金属酸化物粒子を１種単独で用いてもよく、平均粒子径の異なる２種以上の金属酸化物粒子を混合して用いてもよい。
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤が挙げられる。

シランカップリング剤としては、例えば、反応性官能基を有するシラン化合物が挙げられる。反応性官能基は、例えば、他の成分と共重合又は架橋反応する官能基である。このような官能基としては、例えば、重合性不飽和二重結合、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基が挙げられ、重合性基を有する化合物（Ｃ）との反応の観点から、重合性不飽和二重結合が特に好ましい。

例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等の重合性不飽和二重結合を有するシラン化合物；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有するシラン化合物；３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ基を有するシラン化合物；３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシラン化合物が挙げられる。

また、シランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン等のシクロアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のハロゲン化アルキルトリアルコキシシランを挙げることもできる。

表面処理に用いるシランカップリング剤の量は、表面処理前の金属酸化物粒子１００質量部に対して、好ましくは１〜３０質量部、より好ましくは５〜２０質量部である。シランカップリング剤の量が前記範囲にあると、硬化性組成物中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができ、得られる硬化膜の透明性および耐擦傷性を高めることができる。

表面処理剤としては、シランカップリング剤とともに、重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物を用いてもよい。前記イソシアネート化合物は、シランカップリング剤により表面の水酸基が減少した金属酸化物粒子に対して効率的に結合すると考えられる。

なお、ウレタン結合同士の水素結合により粒子の分散性が低下することがあるため、シランカップリング剤により表面処理された金属酸化物粒子に対して、重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物で表面処理をすることが好ましい。

重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが挙げられる。

重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物の使用量は、シランカップリング剤により表面処理された金属酸化物粒子１００質量部に対して、好ましくは１〜５０質量部、より好ましくは５〜２０質量部である。前記イソシアネート化合物の使用量が前記範囲にあると、硬化膜の強度の点で好ましい。
表面処理剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

金属酸化物粒子（Ａ）の体積基準の粒度分布における、累積分布５０％の値（Ｄ５０）は、好ましくは５〜１００ｎｍ、より好ましくは５〜８０ｎｍである。金属酸化物粒子（Ａ）のＤ５０が前記範囲にあると、表面凹凸の少ない、透明性の高い硬化膜が得られる。粒度分布は、動的光散乱式粒径分布測定により得られる。

分散液中における各成分の量は、用途に応じて適宜設定できる。例えば、分散液中における金属酸化物粒子（Ａ）の量（表面処理された金属酸化物粒子の場合、表面処理後の金属酸化物粒子の量）は、通常は５〜６０質量％、好ましくは１０〜４５質量％である。

分散処理は、金属酸化物粒子および分散媒と、必要に応じて、表面処理剤、分散剤、分散助剤等とを、ＳＣミル、アニュラー型ミル、ピン型ミル等に入れ、通常は周速５〜１５ｍ／ｓで、粒径の低下が観察されなくなるまで継続する。分散処理時間は、通常は０．５〜２０時間である。分散の際に、ガラスビーズ、アルミナビーズ、ジルコニアビーズ等の分散ビーズを用いることが好ましい。ビーズ径は特に限定されないが、通常は０．０５〜１ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍである。

表面処理剤を用いる場合、例えば、金属酸化物粒子、分散媒およびシランカップリング剤を混合し、上記分散処理を行い、得られた処理液に、重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物を配合し、超音波分散させることで、分散液を得ることができる。超音波処理には、例えば、超音波洗浄機、超音波ホモジナイザー、超音波分散機を用いることができる。

インデックスマッチング層形成用硬化性組成物において、金属酸化物粒子（Ａ）の含有量は、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、好ましくは１〜９０質量％、より好ましくは３０〜８５質量％、さらに好ましくは５０〜７０質量％である。金属酸化物粒子（Ａ）が表面処理されている場合も同じである。前記（Ａ）の含有量が前記下限値以上であれば、所望の屈折率を得るうえで好ましく、前記上限値以下であれば、インデックスマッチング層の透明性および強度の点で好ましい。

〈化合物（Ｂ）〉
化合物（Ｂ）としては、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物（Ｂ１）を用いることができ、ただし、後述する光重合開始剤（Ｄ）は除く。ここで、波長３００ｎｍにおいて吸収を有するとは、波長３００ｎｍにおける透過率が１００％ではないことを意味する。波長３００ｎｍおよび４００ｎｍの透過率は、実施例記載の条件で測定することができる。

化合物（Ｂ）としては、１分子中に２個以上のベンゼン核を有する化合物（Ｂ２）を用いることもでき、ただし、後述する光重合開始剤（Ｄ）は除く。ベンゼン核の個数は、縮合環の場合、ナフタレニル基で２個、アントラセニル基では３個のようにカウントし、またビフェニル基の場合は２個である。化合物（Ｂ２）は、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さないことが好ましい。

化合物（Ｂ）は、硬化性（膜強度）、密着性およびＵＶ耐性の観点から、重合性不飽和二重結合、エポキシ基等の重合性基を１つ以上有する化合物が好ましく、前記重合性基を２つ以上有する化合物がより好ましい。

化合物（Ｂ）を、インデックスマッチング層（ＩＭ層）の形成材料として用いることにより、透明基板とＩＭ層との密着性およびＵＶ耐性に優れた積層体を得ることができ、透明基板／ＩＭ層間の剥離を抑制することができる。この理由は定かではないが、化合物（Ｂ）およびこの化合物由来の成分が、積層体を製造する際に照射される紫外線等を充分に吸収することができ、このため、透明基板とＩＭ層との間に接着剤層を設ける場合に、接着剤層に到達する紫外線量を低減することができ、接着剤層に含まれる化合物の分解等を防止することができることに基づくと推測される。

化合物（Ｂ）としては、例えば、フルオレン骨格を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物、ビスフェノール骨格を有する化合物が、前記骨格に由来する高い屈折率を示すことから好ましい。硬化後の膜強度、密着性およびＵＶ耐性の観点から、フルオレン骨格、ビフェニル骨格またはビスフェノール骨格と、重合性不飽和二重結合、エポキシ基等の重合性基とを有する化合物が特に好ましい。

上記化合物において、重合性基数は、好ましくは１〜１５、より好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜６、特に好ましくは２〜６である。

フルオレン骨格を有する化合物としては、例えば、フルオレン、フルオレノン、２−アセトアミドフルオレン、２−アセチルフルオレン、２−アミノフルオレン、９−ブロモフルオレン、９−ブロモ−９−フェニルフルオレン、２，７−ジアミノフルオレン、２，７−ジ（アセトアミド）フルオレン、２，７−ジアセチルフルオレン、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレンジアンハイドライドが挙げられる。

フルオレン骨格を有する化合物としては、フルオレン骨格と重合性不飽和二重結合またはエポキシ基とを有する化合物が好ましく、例えば、式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｂ１）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基；アルコキシ基；アシル基；アルコキシカルボニル基；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基等のＮ，Ｎ−２置換アミノ基；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよい。Ｒ²は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基またはエポキシ基を有する基である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に０または１〜４の整数であり、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１〜４の整数であり、ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜４の整数である。

重合性不飽和二重結合を有する基としては、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基等の炭素数２〜１８のアルケニルオキシ基、式（ｇ１）で表される基が挙げられ、式（ｇ１）で表される基が好ましい。エポキシ基を有する基としては、例えば、グリシジルオキシ基が挙げられる。

式（ｇ１）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ａは炭素数１〜４、好ましくは１〜３のアルキレン基であり、ｎは０〜１２、好ましくは１〜１０の整数であり、＊は結合手である。

式（Ｂ１）で表される化合物としては、具体的には、

が挙げられる。

ビフェニル骨格を有する化合物としては、例えば、式（Ｂ２）で表される化合物が挙げられ、中でも重合性不飽和二重結合またはエポキシ基を有する化合物が好ましい。

式（Ｂ２）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基；アルコキシ基；アシル基；アルコキシカルボニル基；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基等のＮ，Ｎ−２置換アミノ基；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよい。Ｒ²は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基またはエポキシ基を有する基である。ｍおよびｎはそれぞれ独立に０または１〜４の整数であり、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１〜５の整数である。

重合性不飽和二重結合を有する基としては、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基等の炭素数２〜１８のアルケニルオキシ基、上記式（ｇ１）で表される基が挙げられ、上記式（ｇ１）で表される基が好ましい。エポキシ基を有する基としては、例えば、グリシジルオキシ基が挙げられる。

式（Ｂ２）で表される化合物としては、例えば、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、４，４’−ビフェノールモノグリシジルエーテル、４，４’−ビフェノールジグリシジルエーテル、ｏ−フェニルフェノールビニルエーテル、ｐ−フェニルフェノールビニルエーテル、４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルビニルエーテル、４，４’−ビフェノールモノビニルエーテル、４，４’−ビフェノールジビニルエーテル、エトキシ化フェニルフェノール（メタ）アクリレートが挙げられる。

また、ビフェニル骨格と、オキサゾリン、アミノ基、カルボジイミド基、イソシアネート基、イソチオシアネート基とを有する化合物を挙げることもできる。
ビフェニル骨格を有する化合物の中でも、硬化性（膜強度）の観点から、ビフェニル骨格と重合性不飽和二重結合またはエポキシ基とを有する化合物が好ましい。

ビスフェノール骨格を有する化合物としては、例えば、特開２００５−２９８６６５号公報、特開２００５−６２４５１号公報、特開２００６−１５４６３７号公報に記載されている化合物が挙げられる。

また、化合物（Ｂ）としては、ベンゼン核を２個以上有する、従来公知の紫外線吸収剤を挙げることもできる。紫外線吸収剤は、高エネルギーをもつ紫外線を吸収し、無害のエネルギーに転換し、再輻射することによって、紫外線遮断効果をもたらす成分である。例えば、ベンゼン核を２個以上有する紫外線吸収剤であって、サリシレート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤、その他の紫外線吸収剤が挙げられる。

サリシレート系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートが挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンが挙げられる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールが挙げられる。

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤としては、例えば、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルが挙げられる。

その他の紫外線吸収剤としては、例えば、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ’−（２−エトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）蓚酸ジアミドが挙げられる。

また、化合物（Ｂ）としては、構造単位中に紫外線吸収基を有する紫外線吸収ポリマーを挙げることもできる。例えば、（メタ）アクリル酸３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチルと、（メタ）アクリル酸および（メタ）アクリル酸エステルから選ばれる少なくとも１種との共重合体が挙げられる。（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルが挙げられる。

紫外線吸収ポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定することができる。

インデックスマッチング層形成用硬化性組成物において、化合物（Ｂ）の含有量は、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜２５質量％である。化合物（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、膜強度、密着性およびＵＶ耐性の点で好ましい。

〈重合性基を有する、前記（Ｂ）以外の化合物（Ｃ）〉
重合性基としては、例えば、重合性不飽和二重結合が挙げられる。
化合物（Ｃ）は、化合物（Ｂ）として波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物（Ｂ１）を用いる場合、当該吸収要件を満たさない、重合性基を有する化合物であり、化合物（Ｂ）として１分子中に２個以上のベンゼン核を有する化合物（Ｂ２）を用いる場合、１分子中にベンゼン核を有さないか、またはベンゼン核を１つ有する、重合性基を有する化合物である。

化合物（Ｃ）としては、上記条件を満たす、１官能または多官能（メタ）アクリレート、スチレン系化合物が挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの両者または一方を示す。

１官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の脂環式基含有（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の芳香環含有（メタ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシ−ジ，トリ又はポリアルキレングリコール−モノ（メタ）アクリレートが挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のジ，トリ又はポリアルキレングリコール−ジ（メタ）アクリレート；１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルカンジオールジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等の３官能以上のポリオールポリ（メタ）アクリレート；ポリウレタンジ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。

化合物（Ｃ）の中でも、硬化性の点から、多官能（メタ）アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートがより好ましい。
化合物（Ｃ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

インデックスマッチング層形成用硬化性組成物において、化合物（Ｃ）の含有量は、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜３０質量％である。化合物（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、膜強度の点で好ましい。

〈光重合開始剤（Ｄ）〉
インデックスマッチング層形成用硬化性組成物は、硬化性の観点から、さらに光重合開始剤（Ｄ）を含有することが好ましい。光重合開始剤（Ｄ）としては、例えば、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシムエステル化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アントラキノン類、チオキサントン類が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、特開平１１−０６０９９５号公報、特開２００５−２０２３８７号公報、特開２００６−２８５２２６号公報、特開２００７−１０２０７０号公報、特開２０１０−０４９２６２号公報、特開２０１０−０８３９７０号公報、特開２０１２−２４１１２７号公報、特開２０１４−１８６３４２号公報、特開２０１５−０５０２６９号公報に記載の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の好適例としては、例えば、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が挙げられる。

光カチオン重合開始剤としては、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、特開平１１−０６０９９５号公報、特開２００８−０８８２５３号公報、特開２０１０−０７４２５０号公報、特開２０１１−２３８３０７号公報、特開２０１２−１５７９９６号公報、特開２０１５−００１６６７号公報に記載の光カチオン重合開始剤が挙げられる。

光カチオン重合開始剤の市販品としては、例えば、ＵＶＡＣＵＲＥ１５９０（ダイセル・サイテック製）、ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）等のスルホニウム塩系カチオン重合開始剤、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０（ＢＡＳＦ製）、ＷＰＩ−１１３（和光純薬（株）製）、Ｒｐ−２０７４（ローディア・ジャパン製）等のヨードニウム塩系カチオン重合開始剤が挙げられる。
光重合開始剤（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、インデックスマッチング層形成用硬化性組成物の固形分全量を１００質量％として、好ましくは１〜１５質量％、より好ましくは２〜６質量％、さらに好ましくは３〜５質量％である。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が前記範囲であれば、硬化が充分に進行し、充分な硬度を有する硬化膜が得られる。

〈溶媒（Ｅ）〉
インデックスマッチング層形成用硬化性組成物は、必要に応じて溶媒（Ｅ）を含有してもよい。溶媒（Ｅ）としては、例えば有機溶媒が挙げられ、金属酸化物粒子（Ａ）の分散に用いることのできる分散媒として例示した有機溶媒と同様の溶媒が挙げられる。

溶媒（Ｅ）の使用量は、特に制限されず、所望の用途に応じて適宜調整すればよい。上記硬化性組成物の全量を１００質量％として、前記溶媒（Ｅ）の総質量（金属酸化物粒子（Ａ）として分散液を用いる場合、その分散媒の質量を含む）が、好ましくは４０〜９９質量％、より好ましくは４５〜９９質量％である。

〈添加剤〉
インデックスマッチング層形成用硬化性組成物は、必要に応じて添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、増感剤、レベリング剤が挙げられる。添加剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

〈インデックスマッチング層形成用硬化性組成物の調製〉
インデックスマッチング層形成用硬化性組成物は、各成分を均一に混合することにより調製できる。また、ゴミを取り除くために、各成分を均一に混合した後、得られた混合物をフィルター等で濾過してもよい。

〈インデックスマッチング層（ＩＭ層）の構成〉
ＩＭ層の厚さは、好ましくは０．０１〜５μｍ、より好ましくは０．０１〜４μｍである。ＩＭ層の厚さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定することができる。
ＩＭ層の屈折率は、好ましくは１．５９〜１．８０、より好ましくは１．６０〜１．７５である。ＩＭ層の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１４２に準拠して、アッベ屈折率計を用いて測定することができる。

ＩＭ層は、上記範囲の屈折率を有するため、ＩＭ層を透明基板とパターン状の透明電極層との間に設けることで、透明基板上の、透明電極層を有する部分と透明電極層を有さない部分との、光学特性の差を低減することができる。このため、前記積層体を用いることで、透明電極層がパターン状に形成されていても、いわゆる骨見えが防止されることから、視認性に優れる表示装置を得ることができる。

ＩＭ層のヘイズは、好ましくは１．５％以下、より好ましくは１．０％以下である。ＩＭ層のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、カラーヘーズメーターを用いて測定することができる。ＩＭ層のヘイズが上記範囲にあることで、透明性が求められる用途においても、本発明の積層体を好適に使用することができる。

ＩＭ層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、カラーヘーズメーターを用いて測定することができる。ＩＭ層の全光線透過率が上記範囲にあることで、高光透過性が求められる用途においても、本発明の積層体を好適に使用することができる。

〈インデックスマッチング層（ＩＭ層）の形成方法〉
ＩＭ層は、例えば、上記ＩＭ層形成用硬化性組成物を、透明基板上に塗工し、必要に応じて乾燥工程により溶媒（Ｅ）を除去することで塗膜を形成した後、活性エネルギー線を照射することで塗膜を硬化させることにより、形成することができる。

ＩＭ層形成用組成物を透明基板上に塗工する方法としては、例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法およびドクターブレードを用いる方法が挙げられる。なお、透明基板表面には、接着剤層が形成されていてもよく、ハードコート層が形成されていてもよい。

乾燥工程は、溶媒（Ｅ）を除去できれば特に制限されないが、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１２０℃で、好ましくは１〜５分、より好ましくは１〜２分間加熱する方法が挙げられる。また、乾燥工程は、常圧下で行ってもよいし、減圧下で行ってもよい。

活性エネルギー線、好ましくは紫外線の照射光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプが挙げられる。また、レーザー光線なども照射光源として利用できる。その他、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線中性子線なども利用可能である。

照射量は、ＩＭ層形成用硬化性組成物の組成に応じて適宜調節すればよい。測定波長ＵＶ−Ａにおける照射量が、好ましくは１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²程度であり、より好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²程度である。

［透明電極層］
透明電極層は、インデックスマッチング層上に形成される。
透明電極層としては、透明であって、導電性を示す層であれば特に制限されないが、例えば、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）および酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の金属酸化物からなる層；前記金属酸化物を主体とする複合層；金、銀、銅、錫、ニッケル、アルミニウムおよびパラジウム等の金属からなる層が挙げられる。

透明電極層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる層を用いる場合には、層の機械的強度を高める、層を結晶化させる、層を低抵抗にする等のために、透明電極層形成用材料として、酸化インジウムおよび２〜１８質量％の酸化スズを含む材料を用いることが好ましく、より好ましくは８２〜９８質量％の酸化インジウムおよび２〜１８質量％の酸化スズを含む材料、さらに好ましくは８５〜９６質量％の酸化インジウムおよび４〜１５質量％の酸化スズを含む材料を用いる。ただし、透明電極層形成用材料全体を１００質量％とする。

透明電極層の膜厚は、好ましくは１〜３００ｎｍ、より好ましくは１〜２００ｎｍである。透明電極層の膜厚が前記範囲にあることで、低抵抗と高い透明性とのバランスに優れる積層体を得ることができる。透明電極層の膜厚は、反射率測定法により測定することができる。

透明電極層の屈折率は、インデックスマッチング層を設けることで得られる積層体の視認性を向上させる観点から、好ましくは１．７〜２．５、より好ましくは１．８〜２．２である。透明電極層の屈折率は、反射率測定法を用いて測定することができる。

透明電極層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、化学蒸着（ＣＶＤ）法が挙げられる。得られる層の均一性およびインデックスマッチング層への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法で透明電極層を形成することが好ましい。

また、透明電極層の形成方法としては、ポリチオフェン系またはポリアニリン系の導電性ポリマーをインデックスマッチング層上に塗布して成膜する方法も挙げられる。
透明電極層は１層でもよいし、多層からなっていてもよい。多層の場合は、合計膜厚が前記範囲となるように調整することが好ましい。透明電極層が多層からなる場合は、同一の材料からなる多層であってもよいし、異なる材料からなる多層であってもよい。

透明電極層を形成する際には、本発明の効果を損なわない限り、予めインデックスマッチング層の表面に周知の種々の添加剤または安定剤、例えば紫外線防止剤、可塑剤、滑剤、易接着剤などを塗布しておいてもよい。また、インデックスマッチング層と透明電極層との密着性を向上させるため、本発明の効果を損なわない限り、インデックスマッチング層表面に、コロナ処理、プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理等の処理を予め行ってよい。

本発明の積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いる場合には、透明電極層をパターニングすることができる。透明電極層をパターニングする方法としては、例えば、透明電極層上にレジストを塗布し、露光・現像によりレジストパターンを形成した後に、透明電極層を化学的に溶解させる方法、真空中で化学反応により気化させる方法、レーザーにより透明電極層を昇華させる方法が挙げられるが、パターンの形状、精度等により、適宜選択することができる。

［他の層］
本発明の積層体は、本発明の効果を損なわない範囲において、その少なくとも一方の面に、例えば、偏光板、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、防汚層などを有していてもよい。

本発明の積層体は、インデックスマッチング層と透明電極層との間に、表示装置の視認性をより向上させる目的で、低屈折率層を有してもよい。低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３３〜１．５２、より好ましくは１．３３〜１．５０である。低屈折率層の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１４２に準拠して、アッベ屈折率計を用いて測定することができる。

［層構成］
本発明の積層体の層構成としては、例えば、透明基板／接着剤層／ＩＭ層／透明電極層、透明基板／接着剤層／ＩＭ層／低屈折率層／透明電極層、透明基板／接着剤層／ハードコート層／ＩＭ層／透明電極層、透明基板／接着剤層／ハードコート層／ＩＭ層／低屈折率層／透明電極層、ハードコート層／接着剤層／透明基板／接着剤層／ハードコート層／ＩＭ層／透明電極層、ハードコート層／接着剤層／透明基板／接着剤層／ハードコート層／ＩＭ層／低屈折率層／透明電極層が挙げられる。

〔積層体の製造方法〕
本発明の積層体の製造方法は、透明基板上に、本発明のインデックスマッチング層形成用硬化性組成物の塗膜を形成する工程１、前記塗膜に活性エネルギー線を照射してインデックスマッチング層を形成する工程２、および前記インデックスマッチング層上に透明電極層を形成する工程を有する。

工程１および工程２については、上述の〈インデックスマッチング層（ＩＭ層）の形成方法〉に記載した方法に従い行うことができる。工程３については、上述の［透明電極層］に記載した方法に従い行うことができる。

〔表示装置〕
本発明の表示装置は、前記積層体を含む。このため、前記表示装置は、視認性に優れる。前記表示装置としては、タッチパネルが挙げられ、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末、カーナビ用車載装置、タブレットコンピューター、販売機器、ＡＴＭ装置、ＦＡ機器等の、タッチパネルを有する電子機器に制限なく使用することができる。

本発明によれば、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式などの、何れの方式のタッチパネルも製造することができる。前記タッチパネルとしては、抵抗膜方式および静電容量方式のタッチパネルが好ましく、静電容量方式のタッチパネルがより好ましい。

以下、本発明を実施例に基づいて更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。なお、調製例、実施例および比較例中の「部」は「質量部」を示す。

［金属酸化物粒子の分散液の調製］
［調製例１］
３０ｇの酸化ジルコニウム粒子（第一稀元素製、ＵＥＰ−１００、１次粒子の平均粒子径：１０〜２０ｎｍ）に対して、６ｇの３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（東レ・ダウコーニング製、Ｚ６０３０）および６４ｇのメチルエチルケトンを配合し、周速８ｍ／ｓで３０分間のビーズミル条件で分散処理して、処理液を回収した。次いで、１００ｇの処理液に対して、２ｇの２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工（株）製、カレンズＭＯＩ）を配合し、超音波分散機で１時間分散処理して、表面処理された酸化ジルコニウム粒子（Ａ−１）を３７質量％含む分散液を得た。

動的光散乱式粒径分布測定装置「ＬＢ−５５０」（（株）堀場製作所製）を用いて粒度分布を測定したところ、酸化ジルコニウム粒子（Ａ−１）の累積５０％粒径（Ｄ５０）は、２４．２ｎｍであった。アッベ屈折率計（（株）アタゴ製；測定波長：５８９ｎｍ）を用いて屈折率を測定したところ、酸化ジルコニウム粒子（Ａ−１）の屈折率は、２．０であった。

［硬化性組成物の調製］
［実施例１］
紫外線を遮蔽した容器中において、成分（Ａ）として調製例１で得られた酸化ジルコニウム粒子（Ａ−１）の分散液を６３部、成分（Ｂ）としてＡＢＰＥＦ（新中村化学工業（株）製）を５部、成分（Ｃ）としてＡ−ＤＰＨ（新中村化学工業（株）製)を１０部、成分（Ｄ）としてＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を２部、成分（Ｅ）としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２０部加えて、室温で２時間撹拌することにより、固形分濃度４０質量％の均一な硬化性組成物を得た。

［実施例２〜１４、比較例１〜２および参考例１］
実施例２〜１４、比較例１〜２および参考例１では、各成分を表１に示す組成で配合したこと以外は実施例１と同様にして、固形分濃度４０質量％の均一な硬化性組成物を得た。
表１中に示す各成分の詳細は、以下のとおりである。

〈成分（Ｂ）〉
Ｂ−１：ＡＢＰＥＦ（商品名、新中村化学工業（株）製）
Ｂ−２：Ａ−ＬＥＮ−１０（商品名、新中村化学工業（株）製）
Ｂ−３：バナレジンＵＶＡ−５０８０（商品名、新中村化学工業（株）製）
固形分：約４１質量％、溶媒：酢酸エチル
Ｂ−４：ＯＧＳＯＬ ＥＧ−２００（商品名、大阪ガスケミカル（株）製）

〈成分（Ｃ）〉
Ｃ−１：Ａ−ＤＰＨ（商品名、新中村化学工業（株）製）
Ｃ−２：ライトエステルＢＺ（商品名、共栄社化学（株）製）

〈成分（Ｄ）〉
Ｄ−１：ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｄ−２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ Ｏｘｅ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｄ−３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ Ｏｘｅ０２（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｄ−４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｄ−５：ＷＰＩ−１１３（商品名、和光純薬（株）製）

なお、成分（Ｂ）および（Ｃ）の波長３００ｎｍおよび４００ｎｍにおける透過率は、以下の様にして測定した。プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて試料濃度０．００４５質量％に調製後、分光光度計「Ｖ６５０」（日本分光（株）製）、石英セル厚（光路長）１ｍｍを用いて、波長３００ｎｍおよび４００ｎｍの透過率を測定した。

［評価］
実施例・比較例で得られた硬化性組成物を、バーコーターを用いて、両面に厚さ約１００ｎｍの易接着層が形成された、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム「コスモシャインＡ４３００」（商品名、東洋紡（株）製）上に塗工した。８０℃で２分間乾燥した後、無電極ランプシステムを用いて空気下で照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²（ヘレウス（株）製ＵＶパワーマップ、測定波長ＵＶ−Ａ）の紫外線を照射して、膜厚１．５μｍの硬化膜を作製した。この硬化膜について、下記特性を評価した。

（１）ヘイズおよび全光線透過率
得られた硬化膜のヘイズ（％）および全光線透過率（％）を、カラーヘーズメーター（スガ試験機（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。

（２）屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、アッベ屈折率計（（株）アタゴ製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１４２（測定波長：５８９ｎｍ）に準拠して測定した。

（３）密着性
得られた硬化膜について、ＪＩＳ Ｋ５６００ ５−６「クロスカット法」に準拠して、密着性の評価を実施した。試験後に１００マス中に残る膜数を評価した。残る膜数の多いものほど、ＰＥＴフィルムと硬化膜との密着性が良好な材料と言える。
ＡＡ：１００/１００
ＢＢ：９９/１００〜９０/１００
ＣＣ：８９/１００〜０/１００

（４）ＵＶ耐性
得られた硬化膜に、インジウムスズ酸化物からなる、膜厚２０ｎｍの透明導電膜をスパッタリング法で形成し、ＰＥＴフィルム／易接着層／硬化膜／透明導電膜からなる積層体を得た。さらに、無電極ランプシステムを用いて空気下で照射量４８０ｍＪ／ｃｍ²（ヘレウス（株）製ＵＶパワーマップ、測定波長ＵＶ−Ａ）の紫外線を、得られた硬化膜側から複数回照射した。この後、上記（３）の密着性を評価した。１００マス中に残る膜数が５０マスを下回るのに要する追加照射回数を確認した。回数が多いものほど、ＵＶ耐性が良好な材料と言える。
ＡＡ：２０回以上
ＢＢ：１０〜１９回
ＣＣ：５〜９回
ＤＤ：５回未満

（５）エッチング耐性
「（４）ＵＶ耐性」で得られた積層体上に、エッチングインキ（Ｍｅｒｃｋ社製ｉｓｉｓｈａｐｅ ＨｉｐｅｒＥｔｃｈ０４Ｓ）を塗布した。続いて１５０℃±２℃のオーブン中で２０分間加熱した。その後、水で洗浄および風乾し、エッチングインキに接触した積層体のＰＥＴ面に黒テープを貼り付け、瞬間マルチ測光システム（ＭＣＰＤ−３０００）により波長３４０〜７００ｎｍの範囲における反射率を硬化膜側から測定した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における硬化膜の反射率から「（４）ＵＶ耐性」で得られた積層体の硬化膜の膜厚を測定した。
ＡＡ：１ｎｍ未満の膜厚減
ＢＢ：１〜１０ｎｍの膜厚減
ＣＣ：１０ｎｍを超える膜厚減

１０：透明基板
２０：接着剤層
３０：インデックスマッチング層
４０：透明電極層
Ａ：透明基板上の透明電極層を有する部分
Ｂ：透明基板上の透明電極層を有さない部分

Claims (9)

1. 透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
   インデックスマッチング層が、
   （Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
   （Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   （Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
   を含有する硬化性組成物から形成された層である
   ことを特徴とする積層体。
2. 透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
   インデックスマッチング層が、
   （Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
   （Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   （Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
   を含有する硬化性組成物から形成された層である
   ことを特徴とする積層体。
3. インデックスマッチング層の屈折率が、１．５９〜１．８０である請求項１または２に記載の積層体。
4. インデックスマッチング層を形成する硬化性組成物が、
   （Ｄ）光重合開始剤
   をさらに含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記化合物（Ｃ）が、多官能（メタ）アクリレートである請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 透明基板とインデックスマッチング層との間に、接着剤層をさらに有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
7. （Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
   （Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   （Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
   を含有することを特徴とするインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。
8. （Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
   （Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   （Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
   を含有することを特徴とするインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。
9. 透明基板上に、請求項７または８に記載のインデックスマッチング層形成用硬化性組成物の塗膜を形成する工程、前記塗膜に活性エネルギー線を照射してインデックスマッチング層を形成する工程、および前記インデックスマッチング層上に透明電極層を形成する工程を有する、積層体の製造方法。

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