JP6411478B2 - ポリイミドフィルムの製造方法、電子機器の製造方法および塗膜の剥離方法 - Google Patents
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Description
[1] 可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程(a)と、工程(a)を経て得られるポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に、前記支持体から剥離する工程(b)とを含むポリイミドフィルムの製造方法。
[2] 工程(b)において、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射する[1]に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
[3] ベースフィルム上にデバイスを形成する電子機器の製造方法であって、前記ベースフィルムとして、ポリイミドフィルムを少なくとも有し、可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程(a)と、工程(a)により得られたポリイミドフィルム上に前記デバイスを形成する工程(c)と、工程(c)を経て得られた前記ポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に前記支持体から剥離する工程(b)とを含む電子機器の製造方法。
[4] 工程(c)は、気相成長法による薄膜形成プロセスを含む、[3]に記載の電子機器の製造方法。
[5] 工程(b)は、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射することを特徴とする[3]又は[4]に記載の電子機器の製造方法。
[6] 前記フラッシュ光は、前記支持体上に形成された前記ポリイミドフィルムの端縁部に集中的に照射することを特徴とする[5]に記載の電子機器の製造方法。
[7] 平面視上、前記ポリイミドフィルムの端縁部と対向する前記支持体上に、前記フラッシュ光を吸収する光吸収層を設けることを特徴とする[5]又は[6]に記載の電子機器の製造方法。
[8] 前記フラッシュ光の出射光のうち、前記ポリイミドフィルムの光吸収率が高い帯域を選択的に照射することを特徴とする[5]〜[7]のいずれかに記載の電子機器の製造方法。
[9] 前記フラッシュ光の出射光は、前記ポリイミドフィルムの光吸収率が低い帯域をフィルターによってカットすることを特徴とする、[8]に記載の電子機器の製造方法。
[10] 前記ポリイミドフィルムの光吸収率が高い帯域が、紫外域であることを特徴とする[8]又は[9]に記載の電子機器の製造方法。
[11] 前記フィルターは、400nm以上の波長をカットするものであることを特徴とする[9]に記載の電子機器の製造方法。
[12] 工程(c)の前に、前記ポリイミドフィルムが形成された前記支持体の周囲の雰囲気を減圧する工程(d)をさらに備え、
前記フラッシュ光を照射する際に、前記ポリイミドフィルムと前記支持体の界面に存在する気泡を膨張させることを特徴とする、[5]〜[11]のいずれかに記載の電子機器の製造方法。
[13] 前記デバイスが、フレキシブルディスプレイ、フレキシブルデバイス、半導体デバイス、太陽電池および燃料電池からなる群から選択されるいずれか一つである[3]〜[12]のいずれかに記載の電子機器の製造方法。
[14] 可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥してポリイミドフィルムを形成する工程(a)と、工程(a)を経て得られる前記ポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に、前記支持体から剥離する工程(b)とを含む塗膜の剥離方法。
[15] 工程(b)において、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射する[14]に記載の塗膜の剥離方法。
本発明に係るポリイミドフィルムの製造方法は、少なくとも以下の工程(a)〜工程(b)を有する。
工程(a)は、可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程である。工程(b)は、工程(a)を経て得られる前記ポリイミドフィルムを、架橋材の架橋反応を促進させた後に、前記支持体から剥離する工程である。
次に、本発明のポリイミドフィルムの製造方法を用いた電子機器の製造方法の実施形態の一例について説明する。
本発明に係る電子機器の製造方法は、ベースフィルムたるポリイミドフィルム上にデバイスを形成する工程を含むものであり、上述した工程(a)、工程(b)に加えて工程(c)を少なくとも有するものである。工程(c)は、工程(b)の前に行われるものであり、ポリイミドフィルム上にデバイスを形成する工程である。デバイスの種類は特に限定されないが、フレキシブルディスプレイ、フレキシブルデバイス、半導体デバイス、太陽電池および燃料電池等が例示できる。
(フラッシュランプアニール装置の構成)
図1に、第1実施形態に用いるフラッシュランプアニール装置の模式的構成図を示す。フラッシュランプアニール装置1は、ガラス基板上にポリイミドフィルムを形成した被処理体8にフラッシュ光を照射することによって、ポリイミドフィルムの剥離を補助する装置である。フラッシュランプアニール装置1は、主たる要素として、被処理体8を収容するチャンバー10と、被処理体8を保持する保持プレート20と、被処理体8にフラッシュ光を照射するフラッシュ光源70とを備える。また、フラッシュランプアニール装置1は、装置に設けられた各種動作機構を制御して処理を進行させる制御部3を備える。なお、図1および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。
次に、上記構成を有するフラッシュランプアニール装置1における処理手順について説明する。図2は、フラッシュランプアニール装置1における処理手順を示すフローチャートである。以下に説明するフラッシュランプアニール装置1の各処理工程は、制御部3がフラッシュランプアニール装置1の各動作機構を制御することにより進行する。
次に、上記第1実施形態とは異なる電子機器の製造方法の一例について説明する。第2実施形態に係る電子機器の製造方法は、以下の点を除く基本的な構成は第1実施形態と同様である。すなわち、第2実施形態に係る電子機器の製造方法は、フラッシュランプアニール装置の構成、および照射方法の点において、第1実施形態と相違する。
第3実施形態に係る電子機器の製造方法は、以下の点を除く基本的な構成および製造方法は第1実施形態に係る電子機器の製造方法と同様である。すなわち、第3実施形態は、ガラス基板に光吸収層を形成する点において、光吸収層を用いていない第1実施形態と相違する。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。第4実施形態に係る電子機器の製造方法は、以下の点を除く基本的な構成および製造方法は第1実施形態に係る電子機器の製造方法と同様である。すなわち、第4実施形態は、光学フィルターを用いている点において、光学フィルターを用いていない第1実施形態と相違する。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記各実施形態においては、ガラス基板81上に貼り付けられたポリイミドフィルム82にデバイス83を実装したものを被処理体8としていたが、被処理体8はこれに限定されるものではなく、種々のバリエーションが可能である。
以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されない。
[ポリイミドフィルムの形成]
下記表1に示すポリイミドワニスAおよびBを用意した。
12.5mm角のガラス基板に幅11.0mmのアプリケーターで、乾燥後の厚みが20μmになるように各ポリイミドワニスを塗工し、オーブンを用いてポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の架橋材の架橋開始温度未満の温度、所定の時間で加熱して乾燥し、試験片を得た。当該試験片の一部にフラッシュランプアニール(FLA)装置でフラッシュ光を照射した。照射、非照射の各試験片のピール強度をそれぞれ測定し、評価した。照射エネルギーは5〜15J/cm2とした。下記表2に結果を示す。
3 制御部
8 被処理体
10 チャンバー
11 チャンバー側壁
12 チャンバー底部
15 処理空間
18 チャンバー窓
20 保持プレート
21 ヒータ
22 支持ピン
40 ガス供給機構
41 処理ガス供給源
42 供給配管
43 供給バルブ
50 排気機構
51 排気装置
52 排気配管
53 排気バルブ
60 遮光板
70 フラッシュ光源
72 リフレクタ
74 光学フィルター
81 ガラス基板
82 ポリイミドフィルム
83 デバイス
85 光吸収層
Claims (15)
- 可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程(a)と、
工程(a)を経て得られるポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に、前記支持体から剥離する工程(b)とを含むポリイミドフィルムの製造方法。 - 工程(b)において、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射する請求項1に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
- ベースフィルム上にデバイスを形成する電子機器の製造方法であって、
前記ベースフィルムとして、ポリイミドフィルムを少なくとも有し、
可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程(a)と、
工程(a)により得られた前記ポリイミドフィルム上に前記デバイスを形成する工程(c)と、
工程(c)を経て得られた前記ポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に前記支持体から剥離する工程(b)とを含む電子機器の製造方法。 - 工程(c)は、気相成長法による薄膜形成プロセスを含む、請求項3に記載の電子機器の製造方法。
- 工程(b)は、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射することを特徴とする請求項3又は4に記載の電子機器の製造方法。
- 前記フラッシュ光は、前記支持体上に形成された前記ポリイミドフィルムの端縁部に集中的に照射することを特徴とする請求項5に記載の電子機器の製造方法。
- 平面視上、前記ポリイミドフィルムの端縁部と対向する前記支持体上に、前記フラッシュ光を吸収する光吸収層を設けることを特徴とする請求項5又は6に記載の電子機器の製造方法。
- 前記フラッシュ光の出射光のうち、前記ポリイミドフィルムの光吸収率が高い帯域を選択的に照射することを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の電子機器の製造方法。
- 前記フラッシュ光の出射光は、前記ポリイミドフィルムの光吸収率が低い帯域をフィルターによってカットすることを特徴とする、請求項8に記載の電子機器の製造方法。
- 前記ポリイミドフィルムの光吸収率が高い帯域が、紫外域であることを特徴とする請求項8又は9に記載の電子機器の製造方法。
- 前記フィルターは、400nm以上の波長をカットするものであることを特徴とする請求項9に記載の電子機器の製造方法。
- 工程(c)の前に、前記ポリイミドフィルムが形成された前記支持体の周囲の雰囲気を減圧する工程(d)をさらに備え、
前記フラッシュ光を照射する際に、前記ポリイミドフィルムと前記支持体の界面に存在する気泡を膨張させることを特徴とする、請求項5〜11のいずれか1項に記載の電子機器の製造方法。 - 前記デバイスが、フレキシブルディスプレイ、フレキシブルデバイス、半導体デバイス、太陽電池および燃料電池からなる群から選択されるいずれか一つである請求項3〜12のいずれか1項に記載の電子機器の製造方法。
- 可溶性ポリイミド樹脂、熱硬化性の架橋材および溶剤を含むポリイミドワニスを、支持体上に塗布し、前記可溶性ポリイミド樹脂のガラス転移点越え、熱硬化性の前記架橋材の架橋開始温度未満で乾燥して塗膜を形成する工程(a)と、
工程(a)を経て得られるポリイミドフィルムを、前記架橋材の架橋反応を促進させた後に、前記支持体から剥離する工程(b)とを含む塗膜の剥離方法。 - 工程(b)において、前記支持体側から前記ポリイミドフィルムにフラッシュ光を照射する請求項14に記載の塗膜の剥離方法。
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