JP6402093B2 - 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス - Google Patents

Description

本発明は、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体とその製造方法、この積層体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスに関する。

近年、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等のディスプレイには、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現するために、電極を有する基板として、ガラス板に代えて、透明プラスチックフィルム上に、無機層（ガスバリア層）が積層されてなる、いわゆるガスバリアフィルムが用いられている。

また、無機層と有機層を組み合わせて用いることで、ガスバリアフィルムのガスバリア性をさらに向上させる方法が提案されている。
例えば、特許文献１、２には、基材の少なくとも片面に、特定のモノマーを用いて形成された有機層と無機層とが交互に少なくとも一層以上積層されてなる積層体が提案されている。
特許文献３には、プラスチックフィルムと、このプラスチックフィルム上に、少なくとも１層の有機層および少なくとも２層の無機層からなるユニットとを有する積層体が提案されている。

特開２００３−３３５８８０号公報 特開２００３−５３８８１号公報 特開２００７−２５３５８８号公報

特許文献１〜３に記載の積層体は、優れたガスバリア性を有するものの、熱負荷が加わると無機層と有機層との膨張率の差により、ガスバリア性が大きく低下することがあり、駆動時に発熱する電子デバイスの部材としては適していなかった。

本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体、この積層体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスを提供することを目的とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、２つのバリア層と有機中間層とからなる特定のガスバリア性ユニットを基材上に設けることで、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明によれば、下記（１）〜（１０）の積層体、（１１）の電子デバイス用部材、及び（１２）の電子デバイス、及び（１３）の積層体の製造方法が提供される。
（１）基材と、ガスバリア性ユニットとを有する積層体であって、前記ガスバリア性ユニットが、第１のバリア層及び第２のバリア層の２つのバリア層と、これら２つのバリア層に挟まれた、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上である有機中間層とからなり、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下で、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下のものであることを特徴とする積層体。
（２）前記第１および第２のバリア層が、無機蒸着膜からなるもの、又は、高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるものである、（１）に記載の積層体。
（３）前記有機中間層が、エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなるものである、（１）に記載の積層体。
（４）前記有機中間層が、エネルギー線硬化性組成物を、第１のバリア層上に塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して、硬化させたものである、（３）に記載の積層体。
（５）前記エネルギー線硬化性組成物が、多官能（メタ）アクリル系化合物を含有するものである、（３）に記載の積層体。
（６）前記多官能（メタ）アクリル系化合物が、（メタ）アクリル基の数が３以上の化合物である、（５）に記載の積層体。
（７）前記多官能（メタ）アクリル系化合物が、分子量が３５０〜５０００の化合物である、（５）に記載の積層体。
（８）有機中間層の厚み（Ｘ）が、３００ｎｍ以上、３μｍ以下、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）が１０〜４００ｎｍ、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）が１０〜４００ｎｍ、第１のバリア層と第２のバリア層の厚みの合計（Ｙ）が、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である、（１）に記載の積層体。
（９）基材、バリア層、有機中間層、バリア層がこの順に積層されてなる、（１）に記載の積層体。
（１０）基材、バリア層、有機中間層、バリア層、有機中間層、バリア層がこの順に積層されてなる、（１）に記載の積層体。（１１）前記（１）〜（１０）のいずれかに記載の積層体からなる電子デバイス用部材。
（１２）前記（１１）に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。
（１３）請求項１〜８のいずれかに記載の積層体の製造方法であって、基材と、ガスバリア性ユニットとを有する積層体の製造方法であって、基材上に、直接又はその他の層を介して、第１のバリア層を形成する工程と、第１のバリア層上に、大気圧下でエネルギー線硬化性組成物を塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して硬化させ、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層を、この有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下になるように形成する工程と、前記有機中間層上に、第２のバリア層を、前記有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下になるように形成する工程と、を有することを特徴とする積層体の製造方法。

本発明によれば、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体及びその製造方法、この積層体からなる電子デバイス用部材、並びにこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスが提供される。

本発明の積層体の一例を示す模式図である。

以下、本発明を、１）積層体、２）積層体の製造方法、並びに、３）電子デバイス用部材及び電子デバイス、に項分けして詳細に説明する。

１）積層体
本発明の積層体は、基材と、ガスバリア性ユニットとを有する積層体であって、前記ガスバリア性ユニットが、第１のバリア層及び第２のバリア層の２つのバリア層と、これらのバリア層に挟まれた、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層とからなり、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ）が、３以上、１８以下、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下のものであることを特徴とする。

（１）基材
本発明の積層体を構成する基材は、ガスバリア性ユニットを担持できるものであれば特に限定されない。基材としては、通常、フィルム状又はシート状のものが用いられる。
基材の厚みは、特に限定されず、積層体の目的に合わせて決定すればよい。基材の厚みは、通常、０．５〜５００μｍ、好ましくは１〜１００μｍである。本明細書において、「Ａ〜Ｂ」は、Ａ以上、Ｂ以下であることを意味する。

基材の素材は、本発明の積層体の目的に合致するものであれば特に制限されない。
基材の素材としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等の樹脂基材が挙げられる。

これらの中でも、透明性に優れ、汎用性があることから、ポリエステル、ポリアミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド又はシクロオレフィン系ポリマーがより好ましく、ポリエステル又はシクロオレフィン系ポリマーがさらに好ましい。

ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等が挙げられる。
ポリアミドとしては、全芳香族ポリアミド、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン共重合体等が挙げられる。

シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。その具体例としては、アペル（三井化学社製のエチレン−シクロオレフィン共重合体）、アートン（ＪＳＲ社製のノルボルネン系重合体）、ゼオノア（日本ゼオン社製のノルボルネン系重合体）等が挙げられる。

（２）ガスバリア性ユニット
本発明の積層体を構成するガスバリア性ユニットは、第１のバリア層及び第２のバリア層の２つのバリア層と、これらのバリア層に挟まれた、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層とからなり、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下のものである。
本発明の積層体は、このようなガスバリア性ユニットを有することで、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくいものとなっている。

〔バリア層〕
ガスバリア性ユニットを構成する第１のバリア層及び第２のバリア層は、いずれもガスバリア層〔酸素や水蒸気等のガスの透過を抑制する特性（ガスバリア性）を有する層〕として機能する層である。本発明の積層体は、ガスバリア性ユニット中に第１のバリア層及び第２のバリア層（以下、これらの層を総称して、「バリア層」ということがある。）を有するため、極めてガスバリア性に優れるものとなる。
第１のバリア層と第２のバリア層の厚みや種類は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
なお、本発明において、有機中間層を介して配置された２つのバリア層のうち、基材に近い側に配置されるものを第１のバリア層とし、基材に遠い側に配置されるものを第２のバリア層と呼ぶものとする。

第１のバリア層と第２のバリア層の厚みは、後述するように、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上、１８以下、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下となる範囲であれば、特に限定されない。第１のバリア層の厚み（Ｙ１）と第２のバリア層の厚み（Ｙ２）は、それぞれ、通常、１０〜４００ｎｍ、好ましくは５０〜３５０ｎｍである。

バリア層としては、例えば、無機蒸着膜からなるもの、高分子化合物を含む層（以下、「高分子層」ということがある。）にイオンを注入等の改質処理を施して得られるもの〔この場合、バリア層とは、改質された領域（イオンが注入された領域など）のみを意味するのではなく、「改質された高分子層」を意味する。〕等が挙げられる。

無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物；無機炭化物；無機硫化物；酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。
これらは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中では、ガスバリア性の観点から、無機酸化物、無機窒化物又は金属を原料とする無機蒸着膜が好ましく、さらに、透明性の観点から、無機酸化物又は無機窒化物を原料とする無機蒸着膜が好ましい。

無機蒸着膜を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ（物理的蒸着）法や、熱ＣＶＤ（化学的蒸着）法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等のＣＶＤ法が挙げられる。

高分子層に改質処理を施して得られるバリア層において、用いる高分子化合物としては、ポリオルガノシロキサン、ポリシラザン系化合物等のケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。
これらの高分子化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができる。

これらの中でも、より優れたガスバリア性を有するバリア層を形成し得ることから、高分子化合物としては、ケイ素含有高分子化合物が好ましい。ケイ素含有高分子化合物としては、ポリシラザン系化合物、ポリカルボシラン系化合物、ポリシラン系化合物、及びポリオルガノシロキサン系化合物等が挙げられる。これらの中でも、優れたガスバリア性を有するバリア層を形成できる観点から、ポリシラザン系化合物が好ましい。

ポリシラザン系化合物は、分子内に−Ｓｉ−Ｎ−結合（シラザン結合）を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。具体的には、式（１）

で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、１００〜５０，０００であるのが好ましい。

前記式（１）中、ｎは任意の自然数を表す。
Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。

前記無置換若しくは置換基を有するアルキル基のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。

無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基等の炭素数３〜１０のシクロアルキル基が挙げられる。

無置換若しくは置換基を有するアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。

前記アルキル基、シクロアルキル基及びアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。

無置換又は置換基を有するアリール基のアリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基が挙げられる。

前記アリール基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。

アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリｔ−ブチルシリル基、メチルジエチルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルシリル基、エチルシリル基等が挙げられる。

これらの中でも、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚとしては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。

前記式（１）で表される繰り返し単位を有するポリシラザン系化合物としては、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚが全て水素原子である無機ポリシラザン、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚの少なくとも１つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。
また、本発明においては、ポリシラザン系化合物として、ポリシラザン変性物を用いることもできる。ポリシラザン変性物としては、例えば、特開昭６２−１９５０２４号公報、特開平２−８４４３７号公報、特開昭６３−８１１２２号公報、特開平１−１３８１０８号公報等、特開平２−１７５７２６号公報、特開平５−２３８８２７号公報、特開平５−２３８８２７号公報、特開平６−１２２８５２号公報、特開平６−３０６３２９号公報、特開平６−２９９１１８号公報、特開平９−３１３３３号公報、特開平５−３４５８２６号公報、特開平４−６３８３３号公報等に記載されているものが挙げられる。
これらの中でも、ポリシラザン系化合物としては、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有するイオンＡＱＡ注入層を形成できる観点から、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚが全て水素原子であるペルヒドロポリシラザンが好ましい。
また、ポリシラザン系化合物としては、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
ポリシラザン系化合物は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

高分子層は、上述した高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含有してもよい。他の成分としては、硬化剤、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
高分子層中の高分子化合物の含有量は、より優れたガスバリア性を有するバリア層が得られることから、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。

高分子層の厚みは、特に制限されないが、好ましくは５０〜３００ｎｍ、より好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
本発明においては、高分子層の厚みがナノオーダーであっても、充分なガスバリア性を有するガスバリア性積層体を得ることができる。

高分子層を形成する方法は特に限定されない。例えば、高分子化合物の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する高分子層形成用溶液を調製し、次いで、この高分子層形成用溶液を、公知の方法により塗工し、得られた塗膜を乾燥することにより、高分子層を形成することができる。

高分子層形成用溶液に用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

高分子層形成用溶液の塗工方法としては、バーコート法、スピンコート法、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。

形成された塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。加熱温度は、通常６０〜１３０℃の範囲である。加熱時間は、通常数秒から数十分である。

高分子層の改質処理としては、イオン注入処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、熱処理等が挙げられる。
イオン注入処理は、後述するように、高分子層にイオンを注入して、高分子層を改質する方法である。
プラズマ処理は、高分子層をプラズマ中に晒して、高分子層を改質する方法である。例えば、特開２０１２−１０６４２１号公報に記載の方法に従って、プラズマ処理を行うことができる。
紫外線照射処理は、高分子層に紫外線を照射して高分子層を改質する方法である。例えば、特開２０１３−２２６７５７号公報に記載の方法に従って、紫外線改質処理を行うことができる。
これらの中でも、高分子層の表面を荒らすことなく、その内部まで効率よく改質し、よりガスバリア性に優れるガスバリア層を形成できることから、イオン注入処理が好ましい。

高分子層に注入するイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン；エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン；ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン；アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン；シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン；シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン；金属のイオン；有機ケイ素化合物のイオン；等が挙げられる。
これらのイオンは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
なかでも、より簡便にイオンを注入することができ、より優れたガスバリア性を有するバリア層が得られることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。

イオンの注入量は、積層体の使用目的（必要なガスバリア性、透明性等）等に合わせて適宜決定することができる。

イオンを注入する方法としては、電界により加速されたイオン（イオンビーム）を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便に目的のバリア層が得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。

プラズマイオン注入は、例えば、希ガス等のプラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、高分子層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン（陽イオン）を、高分子層の表面部に注入して行うことができる。

イオン注入により、イオンが注入される領域の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、高分子層の厚み、積層体の使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、１０〜４００ｎｍである。

第１のバリア層と第２のバリア層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、それぞれ８ｎｍ以下であることが好ましい。また、第１のバリア層と第２のバリア層の表面の粗さ曲線の最大断面高さ（Ｒｔ）は、それぞれ１５０ｎｍ未満であることが好ましい。なお、第１のバリア層の表面とは、有機中間層および第２のバリア層が積層された側の面をいい、第２のバリア層の表面とは、第１のバリア層および有機中間層が積層された側とは反対側の面をいう。第１のバリア層の算術平均粗さおよび最大断面高さが、上記範囲内であることで、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくいものとなる。

〔有機中間層〕
ガスバリア性ユニットを構成する有機中間層は、第１のバリア層と第２のバリア層に挟まれた、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の層である。本発明の積層体は、ガスバリア性ユニット中にこの有機中間層を有するため、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくいものとなる。

有機中間層の９０℃における弾性率は、１．５ＧＰａ以上であり、好ましくは、１．５〜５．０ＧＰａ、より好ましくは２．０〜４．０ＧＰａである。９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上であることで、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体になる。

有機中間層の２５℃における弾性率は、３．２ＧＰａ以上が好ましく、３．２〜５．０ＧＰａがより好ましくい。２５℃における弾性率がこの範囲内であることで、フレキシブル性に優れる積層体が得られ易くなる。
有機中間層の６０℃における弾性率は、２．３ＧＰａ以上が好ましく、２．３〜４．５ＧＰａがより好ましい。６０℃における弾性率がこの範囲内であることで、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体が得られ易くなる。

有機中間層の弾性率は、公知の方法、例えば、超微小硬度計を用いるナノインデンテーション法により測定することができる。なお、有機中間層の弾性率については、便宜的に、基材上に有機中間層を積層した状態で、実施例に示す方法で測定することができる。

有機中間層は、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上である限り、その樹脂成分等は特に限定されない。
有機中間層としては、硬化性組成物の硬化物からなるものが好ましい。なかでも、有機中間層は、硬化性組成物を、第１のバリア層上に塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜を硬化させたものが好ましい。塗工法により硬化性塗膜を形成することで、１）比較的厚みのある硬化性塗膜及び有機中間層を効率よく形成することができ、２）比較的分子量が大きい材料を用いて硬化性塗膜及び有機中間層を形成することができ、３）硬化性組成物に含まれる成分の組成比をほとんど変えることなく、硬化性塗膜及び有機中間層を形成することができ、４）バリア層との密着性に優れる有機中間層を形成することができる。

硬化性組成物としては、熱硬化性組成物やエネルギー線硬化性組成物が挙げられる。熱硬化性組成物を用いて硬化性塗膜を形成した場合は、加熱により硬化性塗膜を硬化させることで有機中間層を形成することができ、エネルギー線硬化性組成物を用いて硬化性塗膜を形成した場合は、エネルギー線の照射により硬化性塗膜を硬化させることで有機中間層を形成することができる。

有機中間層は、エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなるものが好ましい。
エネルギー線硬化性組成物を用いることで、硬化反応を十分に進行させることができ、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層をより効率よく形成することができる。
すなわち、熱硬化性組成物を用いる場合、積層体の性能低下や、生産性の低下の原因になるおそれがあるため、熱硬化性組成物を十分に加熱できないことがあり、硬化反応が十分に進行しないおそれがある。一方、エネルギー線硬化性組成物を用いる場合、これらの問題が生じない。
さらに、エネルギー線硬化性組成物を硬化させる場合、高温に加熱する必要がないため低沸点成分の揮発が抑えられ、硬化性塗膜に含まれる成分の組成比をほとんど変えることなく、有機中間層を形成することができる。

また、有機中間層は、エネルギー線硬化性組成物を、第１のバリア層上に塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して、硬化させたものがより好ましい。
上記のように、エネルギー線硬化性組成物を用いることで、膜厚に関わらず、硬化性に優れる硬化性塗膜を形成することができ、塗工法を利用することで、所定の厚みのある硬化性塗膜を効率よく形成することができる。このため、高弾性率の有機中間層の膜厚の調節や、有機中間層の厚み（Ｘ）と第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）及び有機中間層の厚み（Ｘ）と第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）の制御を効率よく行うことができる。

エネルギー線硬化性組成物は、通常、多官能モノマーまたはオリゴマーと、光重合開始剤を含有し、エネルギー線を照射することにより硬化する組成物である。

エネルギー線硬化性組成物としては、例えば、多官能（メタ）アクリル系化合物を含有するエネルギー線硬化性組成物〔以下、「（メタ）アクリレート系エネルギー線硬化性組成物」ということがある。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を表す。〕や、エチレン性不飽和基を有する化合物とメルカプト基を有する化合物とを含有するエネルギー線硬化性組成物が挙げられる。
これらのエネルギー線硬化性組成物のなかでも、目的とする弾性率を有する有機中間層をより簡便に形成し、バリア層との密着性を高めるという観点から、（メタ）アクリレート系エネルギー線硬化性組成物が好ましい。

（メタ）アクリレート系エネルギー線硬化性組成物中の多官能（メタ）アクリル系化合物は、（メタ）アクリル基の数が３以上のものが好ましく、３〜６のものがより好ましい。（メタ）アクリル基の数が３以上であることで、所望の弾性率の有機中間層がより得られ易くなる。

多官能（メタ）アクリレート系化合物の分子量は、好ましくは、３５０〜５０００、より好ましくは４００〜４０００である。多官能（メタ）アクリレート系化合物の分子量が上記範囲内であることで、より効率よく硬化反応を起こすことができ、所望の弾性率の有機中間層がより得られ易くなる。 多官能（メタ）アクリル系化合物としては、多官能（メタ）アクリレート系モノマーや、多官能（メタ）アクリレート系樹脂等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能（メタ）アクリレート化合物；
ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の５官能（メタ）アクリレート化合物；
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の６官能（メタ）アクリレート化合物；等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレート系樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート系樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂等が挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂は、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物、多価イソシアネート系化合物、及びポリオール系化合物を反応させて得られるもの等が挙げられる。

水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、脂肪酸変性−グリシジル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多価イソシアネート系化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネート；水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等の脂環式系ポリイソシアネート；これらポリイソシアネートの３量体化合物又は多量体化合物；アロファネート型ポリイソシアネート；ビュレット型ポリイソシアネート；水分散型ポリイソシアネート（例えば、日本ポリウレタン工業（株）製の「アクアネート１００」、「アクアネート１１０」、「アクアネート２００」、「アクアネート２１０」等）；等が挙げられる。

ポリオール系化合物としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等のアルキレン構造含有ポリエーテル系ポリオール等のポリエーテル系ポリオール；
エチレングリコール、ジエチレングール等の多価アルコール、マロン酸、マレイン酸、フマル酸等の多価カルボン酸、及び、プロピオラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等の環状エステルの３種類の成分による反応物等のポリエステルポリオール；
上述の多価アルコールとホスゲンとの反応物、環状炭酸エステル（エチレンカーボネート、トリメチレンカーボネート、テトラメチレンカーボネート、ヘキサメチレンカーボネート等のアルキレンカーボネート等）の開環重合物等のポリカーボネート系ポリオール；
飽和炭化水素骨格としてエチレン、プロピレン、ブテン等のホモポリマー又はコポリマーを有し、その分子末端に水酸基を有するもの等のポリオレフィン系ポリオール；
炭化水素骨格としてブタジエンの共重合体を有し、その分子末端に水酸基を有するもの等のポリブタジエン系ポリオール；
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルを重合体又は共重合体の分子内にヒドロキシル基を少なくとも２つ有するもの等の（メタ）アクリル系ポリオール；
ジメチルポリシロキサンポリオールやメチルフェニルポリシロキサンポリオール等のポリシロキサン系ポリオール；等が挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の市販品としては、「ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９０」、「ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９２」（いずれも日本合成化学社製）等が挙げられる。

ポリエステル（メタ）アクリレート系樹脂としては、多塩基性カルボン酸（無水物）及びポリオールの脱水縮合反応により得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得られる化合物、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得られる化合物等が挙げられる。
ポリエステル（メタ）アクリレート系樹脂の製造に用いる多塩基性カルボン酸（無水物）としては（無水）コハク酸、アジピン酸、（無水）マレイン酸、（無水）イタコン酸、（無水）トリメリット酸、（無水）ピロメリット酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸、（無水）フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。また、ポリオールとしては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジメチロールヘプタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。

エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂としては、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化することにより得られる化合物等が挙げられる。
これらの化合物は、市販品をそのまま使用することもできる。

多官能（メタ）アクリル系化合物としては、多官能（メタ）アクリレート系モノマーを１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、多官能（メタ）アクリレート系樹脂を１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、多官能（メタ）アクリレート系モノマーの１種以上と、多官能（メタ）アクリレート系樹脂の１種以上を組み合わせて用いることもできる。

これらの中でも、多官能（メタ）アクリル系化合物としては、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート等の３官能（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の６官能（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂、及びこれらの組合せが好ましい。
特に、官能基を多く含む多官能（メタ）アクリル系化合物を用いると有機中間層の弾性率が大きくなり、官能基が少ない多官能（メタ）アクリル系化合物を用いると積層体のカールを抑制し易くなる傾向があるため、これらの組み合わせることで所望の積層体を形成することができる。

エネルギー線硬化性組成物中の光重合開始剤としては、特に制限されず、従来公知のものが使用できる。例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン化合物；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２−（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン化合物；ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン等のアントラキノン化合物；２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン化合物；ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール等のジメチルケタール化合物；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル；オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］；等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、エネルギー線硬化性組成物の固形分中、好ましくは０．１〜７質量％、より好ましくは１〜５質量％の範囲である。

エネルギー線硬化性組成物は、（メタ）アクリル基等の官能基を有するシリカ微粒子（以下、「反応性シリカ微粒子」ということがある。）を含有してもよい。
反応性シリカ微粒子を含有するエネルギー線硬化性組成物を用いることで、有機中間層の弾性率をより高めることができ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体が得られる。
反応性シリカ微粒子は、シリカ微粒子表面のシラノール基と反応し得る、官能基含有化合物を用いて、シリカ微粒子を修飾することにより得ることができる。
かかる官能基含有化合物としては、アクリル酸、アクリル酸クロリド、アクリル酸２−イソシアナートエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２，３−イミノプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
反応性シリカ微粒子を含有する場合、その含有量は、エネルギー線硬化性組成物の固形分中、５〜３０質量％、好ましくは１０〜２０質量％である。

エネルギー線硬化性組成物は、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、シランカップリング剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂安定剤、充填剤、顔料、増量剤、軟化剤等の添加剤が挙げられる。
これらは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
その他の成分を含有する場合、それぞれの含有量は、エネルギー線硬化性組成物の固形分中、好ましくは０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２質量％である。

エネルギー線硬化性組成物は、上述の多官能モノマーまたはオリゴマー、光重合開始剤、溶媒等を、常法に従って適宜混合・攪拌することにより調製することができる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

エネルギー線硬化性組成物を用いて有機中間層を形成する方法としては、例えば、エネルギー線硬化性組成物を、第１のバリア層上に塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜を乾燥し、次いで、所望により加熱した後、エネルギー線を照射して、硬化させる方法が挙げられる。

エネルギー線硬化性組成物の塗工方法としては、バーコート法、スピンコート法、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。加熱温度は、通常６０〜１３０℃の範囲である。加熱時間は、通常数秒から数十分である。

硬化性塗膜を硬化させる際に用いるエネルギー線としては、紫外線や電子線等が挙げられる。
装置の取扱性に優れるという観点からは、紫外線が好ましく、光重合開始剤を必要としないという観点からは、電子線が好ましい。
紫外線は、高圧水銀ランプ、無電極ランプ、キセノンランプ、ＬＥＤランプなどで発生させることができる。一方、電子線は電子線加速器などで発生させることができる。
エネルギー線の照射量は、目的に合わせて適宜選定されるが、紫外線の場合は照度５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ^２、光量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲が好ましく、電子線の場合は１０〜１０００ｋｒａｄの範囲が好ましい。
照射時間は、通常数秒〜数時間であり、照射温度は、通常、室温（２５℃）〜１００℃の範囲である。

有機中間層の厚みは、後述するように、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下となる範囲であれば、特に限定されない。有機中間層の厚み（Ｘ）は、通常、３００ｎｍ以上、３μｍ以下、好ましくは、５００ｎｍ以上、２μｍ以下である。

有機中間層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、８ｎｍ以下、粗さ曲線の最大断面高さ（Ｒｔ）は、１５０ｎｍ未満であることが好ましい。なお、有機中間層の表面とは、第２のバリア層が積層された側の面（基材や、第１のバリア層とは反対側の面）をいう。有機中間層の算術平均粗さ（Ｒａ）および最大断面高さ（Ｒｔ）が、上記範囲内であることで、第２のバリア層にピンホール等の欠陥が生じにくく、熱負荷が加わったときに第２のバリア層にクラックが生じ難く、積層体のガスバリア性が低下しにくいものとなる。

〔ガスバリア性ユニットの層構成〕
ガスバリア性ユニットを構成する有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）および、ガスバリア性ユニットを構成する有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）は、それぞれ、３以上、１８以下、好ましくは４以上、１７以下である。比（Ｘ／Ｙ１）および比（Ｘ／Ｙ２）の値が、それぞれ３未満のときは、熱負荷が加わったときにバリア層にクラックが生じ易く、積層体のガスバリア性が低下し易くなる。一方、比（Ｘ／Ｙ１）および比（Ｘ／Ｙ２）の値が、それぞれ１８を超えると、積層体にカールが発生し易くなり、電子デバイス用部材としては適さないものとなる。

第１のバリア層と第２のバリア層の厚みの合計（Ｙ）は特に限定されないが、通常、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下である。
第１のバリア層と第２のバリア層の厚みの合計（Ｙ）が、上記範囲内であることで、本願発明の積層体を効率よく形成することができる。

（３）積層体の層構成
本発明の積層体は、前記基材と、ガスバリア性ユニットとを有するものであるが、これら以外の層を有するものであってもよい。
基材、ガスバリア性ユニット以外の層としては、基材との層間密着性を向上させるためのプライマー層、導電体層、衝撃吸収層、粘着剤層、工程シート等が挙げられる。これらの層の積層位置は、特に限定されない。これらの層の積層位置は、特に限定されない。なお、工程シートは、積層体を保存、運搬等する際に、積層体を保護する役割を有し、積層体が使用される際には剥離されるものである。本発明の積層体は、基材との層間密着性を向上させるために、基材とガスバリア性ユニットの間にプライマー層を有していることが好ましい。

本発明の積層体の例を図１（ａ）〜（ｃ）に示す。
図１（ａ）に示す積層体（１０Ａ）は、基材（１）、バリア層（２ａ）、有機中間層（３）、バリア層（２ｂ）がこの順に積層されてなるものである。
積層体（１０Ａ）は、第１のバリア層（２ａ）、有機中間層（３）、第２のバリア層（２ｂ）からなるガスバリア性ユニット（４）が上記の要件を満たすことで、本発明の積層体となる。

図１（ｂ）に示す積層体（１０Ｂ）は、基材（１）、プライマー層（５）、バリア層（２ａ）、有機中間層（３）、バリア層（２ｂ）がこの順に積層されてなるものである。
積層体（１０Ｂ）は、第１のバリア層（２ａ）、有機中間層（３）、第２のバリア層（２ｂ）からなるガスバリア性ユニット（４）が上記の要件を満たすことで、本発明の積層体となる。

図１（ｃ）に示す積層体（１０Ｃ）は、基材（１）、バリア層（２ａ）、有機中間層（３ａ）、バリア層（２ｂ）、有機中間層（３ｂ）、バリア層（２ｃ）がこの順に積層されてなるものである。
積層体（１０Ｃ）は、第１のバリア層（２ａ）、有機中間層（３ａ）、第２のバリア層（２ｂ）からなるガスバリア性ユニット（４ａ）と、第１のバリア層（２ｂ）、有機中間層（３ｂ）、第２のバリア層（２ｃ）からなるガスバリア性ユニット（４ｂ）の両方が上記の要件を満たすことで、本発明の積層体となる。
積層体（１０ｃ）のように、本発明の積層体は、複数のガスバリア性ユニットを有するものであってもよい。

本発明の積層体の製造方法は特に限定されない。
例えば、積層体（１０Ａ）は、基材（１）上に、前記方法によりバリア層（２ａ）を形成し、次いで、バリア層（２ａ）上に前記方法により有機中間層（３）を形成し、さらに、有機中間層（３）上に前記方法によりバリア層（２ｂ）を形成することにより、製造することができる。
バリア層（２ｂ）は、有機中間層（３）上に直接形成して積層させてもよいし、工程シート上に予め形成したバリア層を、有機中間層（３）上に転写して積層させてもよい。
具体的には、後述する本発明の積層体の製造方法により、本発明の積層体を製造することが好ましい。

本発明の積層体は、ガスバリア性に優れ、かつ、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくいものである。

本発明の積層体がガスバリア性に優れることは、例えば水蒸気透過度を測定することにより示される。本発明の積層体の水蒸気透過度は、温度４０℃、相対湿度９０％において、好ましくは１０ｍｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、より好ましくは１ｍｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下である。
積層体の水蒸気透過度は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。
積層体のガスバリア性は、バリア層の厚みや層数等により制御することができる。

本発明の積層体が、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくいことは、例えば、積層体を高温高湿度下に長時間静置した後に水蒸気透過度を測定し、その増加率を調べることにより示される。例えば、温度６０℃、相対湿度９０％で１５０時間静置した後の水蒸気透過度の増加率は、３００％以下であるのが好ましく、１０％以下であるのがより好ましく、５％以下であるのがさらに好ましい。
熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくい積層体は、上記の要件を満たすガスバリア性ユニットを用いることで得ることができる。

本発明の積層体は、カール量が小さいものが好ましい。
例えば、一辺が１０ｃｍの正方形の積層体において、四方の端部の浮きの合計が、３ｃｍ以下が好ましく、１ｃｍ以下がより好ましい。
積層体のカール量は、有機中間層の形成に用いるモノマーや樹脂の官能基数を調節することにより制御することができる。

これらの特性を有するため、本発明の積層体は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池等の電子デバイスの部材として好ましく用いられる。

２）積層体の製造方法
本発明の積層体の製造方法は、基材上に、直接又はその他の層を介して、第１のバリア層を形成する工程（工程Ｉ）と、第１のバリア層上に、大気圧下でエネルギー線硬化性組成物を塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して硬化させ、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層を、この有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下になるように形成する工程（工程ＩＩ）と、前記有機中間層上に、第２のバリア層を、前記有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下になるように形成する工程（工程ＩＩＩ）と、を有することを特徴とする。

工程（Ｉ）において、第１のバリア層を形成する方法としては、「積層体」の項で示したものと同様のものが挙げられる。
工程（ＩＩ）において、硬化性塗膜及び有機中間層を形成する方法としては、「積層体」の項で示したものと同様のものが挙げられる。
工程（ＩＩＩ）において、第２のバリア層を形成する方法としては、「積層体」の項で示したものと同様のものが挙げられる。

本発明の積層体の製造方法によれば、本発明の積層体を効率よく形成することができる。特に、工程（ＩＩ）において、エネルギー線硬化性組成物を塗工して硬化性塗膜を形成し、この硬化性塗膜にエネルギー線を照射して硬化させるため、膜厚が大きく、かつ、高弾性率の有機中間層を効率よく形成することができ、有機中間層の厚み（Ｘ）と第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）及び有機中間層の厚み（Ｘ）と第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）の制御を効率よく行うことができる。
また、工程（ＩＩ）においては、大気圧下で有機中間層を形成するため、本発明の積層体の製造方法は生産性に優れるものである。そして、本発明の積層体の製造方法によれば、エネルギー線硬化性組成物の組成がほぼ反映された（すなわち、成分の組成比がほとんど変わらない）有機中間層を形成することができ、さらに、バリア層と有機中間層との密着性に優れる積層体を効率よく得ることができる。

３）電子デバイス用部材及び電子デバイス
本発明の電子デバイス用部材は、本発明の積層体からなることを特徴とする。従って、本発明の電子デバイス用部材は、優れたガスバリア性を有しているので、水蒸気等のガスによる素子の劣化を防ぐことができる。また、耐久性に優れるので、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイ部材；太陽電池用バックシート；等として好適である。

本発明の電子デバイスは、本発明の電子デバイス用部材を備える。具体例としては、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池等が挙げられる。
本発明の電子デバイスは、本発明の積層体からなる電子デバイス用部材を備えているので、優れたガスバリア性と耐久性を有する。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び％は、特に断りのない限り、質量基準である。

用いた多官能（メタ）アクリル系化合物の詳細を以下に示す。
多官能（メタ）アクリル系化合物１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ａ−ＤＰＨ、新中村化学社製、官能基数６、分子量５７８）
多官能（メタ）アクリル系化合物２：ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９０、日本合成化学社製、官能基数６、分子量１１００）
多官能（メタ）アクリル系化合物３：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ−９３００、新中村化学社製、官能基数３、分子量４２３）
多官能（メタ）アクリル系化合物４：ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９２、日本合成化学社製、官能基数３、分子量２４００）
多官能（メタ）アクリル系化合物５：反応性シリカ微粒子（固形分３０％、表面がアクリロイル基で修飾されたシリカ微粒子、日産化学社製、ＭＥＫ−ＡＣ−２１０１）
多官能（メタ）アクリル系化合物６：ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９５、日本合成化学社製、官能基数２、分子量１８０００）
多官能（メタ）アクリル系化合物７：ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（ＳＨＩＫＯＨ ＵＴ−４６９７、日本合成化学社製、官能基数２、分子量１４０００）
多官能（メタ）アクリル系化合物８：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学社製、官能基数２、分子量３０４）

〔製造例１〕エネルギー線硬化性組成物（Ａ）の調製
多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部をメチルイソブチルケトン１００部に溶解させた後、光重合性開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ社製）を、エネルギー線硬化性組成物（Ａ）の固形分に対して３％となるように添加して、エネルギー線硬化性組成物（Ａ）を調製した。

〔製造例２〕エネルギー線硬化性組成物（Ｂ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物２ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｂ）を調製した。

〔製造例３〕エネルギー線硬化性組成物（Ｃ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物１と多官能（メタ）アクリル系化合物２との混合物（質量比１：１）２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｃ）を調製した。

〔製造例４〕エネルギー線硬化性組成物（Ｄ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物３ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｄ）を調製した。

〔製造例５〕エネルギー線硬化性組成物（Ｅ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物２と多官能（メタ）アクリル系化合物３との混合物（質量比１：１）２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｅ）を調製した。

〔製造例６〕エネルギー線硬化性組成物（Ｆ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物１と多官能（メタ）アクリル系化合物４の混合物（質量比１：１）２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｆ）を調製した。

〔製造例７〕エネルギー線硬化性組成物（Ｇ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物４ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｇ）を調製した。

〔製造例８〕エネルギー線硬化性組成物（Ｈ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物１と多官能（メタ）アクリル系化合物５の混合物（質量比３：１）２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｈ）を作製した。

〔製造例９〕エネルギー線硬化性組成物（Ｉ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物６ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｉ）を調製した。

〔製造例１０〕エネルギー線硬化性組成物（Ｊ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物７ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｊ）を調製した。

〔製造例１１〕エネルギー線硬化性組成物（Ｋ）の調製
製造例１において、多官能（メタ）アクリル系化合物１ ２０部の代わりに、多官能（メタ）アクリル系化合物８ ２０部を用いたこと以外は、製造例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物（Ｋ）を調製した。

（比較例７）
基材としてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ＰＥＴ２５ Ｔ−１００、厚み２５μｍ、三菱樹脂社製）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）をバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍのプライマー層を形成した。
得られたプライマー層上に、ペルヒドロポリシラザン含有液（ＡＺＮＬ１１０−２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）をスピンコート法により塗布し、得られた塗膜を１２０℃で２分間加熱して、厚み１５０ｎｍのペルヒドロポリシラザン層を形成した。その後、ペルヒドロポリシラザン層の表面に、プラズマイオン注入装置を用いて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入し、プラズマイオン注入したペルヒドロポリシラザン層（以下、「バリア層（１ａ）」という。）を形成した。
バリア層（１ａ）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）をバーコート法により大気圧下で塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍの有機中間層（１ａ）を形成した。
有機中間層（１ａ）上に、ペルヒドロポリシラザン含有液（ＡＺＮＬ１１０−２０、エレクトロニックマテリアルズ社製）をスピンコート法により塗布し、得られた塗膜を１２０℃で２分間加熱して、厚み１５０ｎｍのペルヒドロポリシラザン層を形成した。その後、ペルヒドロポリシラザン層の表面に、プラズマイオン注入装置を用いて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入し、プラズマイオン注入したペルヒドロポリシラザン層（以下、「バリア層（２ａ）」という。）を形成し、積層体（Ｉ）を得た。

なお、バリア層（１ａ）及びバリア層（２ａ）を形成する際のプラズマイオン注入は、下記の装置を用い、下記の条件で行った。
〈プラズマイオン注入装置〉
ＲＦ電源：型番号「ＲＦ」５６０００、日本電子社製
高電圧パルス電源：「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」、栗田製作所社製
〈プラズマイオン注入の条件〉
・プラズマ生成ガス：Ａｒ
・ガス流量：１００ｓｃｃｍ
・Ｄｕｔｙ比：０．５％
・繰り返し周波数：１０００Ｈｚ
・印加電圧：−１０ｋＶ
・ＲＦ電源：周波 １３．５６ＭＨｚ、印加電力 １０００Ｗ
・チャンバー内圧：０．２Ｐａ
・パルス幅：５μｓｅｃ
・処理時間（イオン注入時間）：５分間
・搬送速度：０．２ｍ／分

（比較例８）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例２で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｂ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＩＩ）を得た。

（比較例９）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例３で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｃ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＩＩＩ）を得た。

（比較例１０）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例４で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｄ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＩＶ）を得た。

（比較例１１）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例５で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｅ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（Ｖ）を得た。

（比較例１２）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例６で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｆ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＶＩ）を得た。

（比較例１３）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例７で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｇ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＶＩＩ）を得た。

（実施例８）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例８で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｈ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＶＩＩＩ）を得た。

（比較例１４）
基材としてのＰＥＴフィルム（ＰＥＴ２５ Ｔ−１００、厚み２５μｍ、三菱樹脂社製）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）をバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍのプライマー層を形成した。
プライマー層上に、反応性スパッタ装置を用いて下記条件で反応性スパッタ製膜を行うことで、厚み１５０ｎｍの酸化アルミニウム層（以下、「バリア層（１ｂ）」という。）を形成した。
バリア層（１ｂ）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）を大気圧下でバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍの有機中間層（１ｂ）を形成した。
有機中間層（１ｂ）上に、反応性スパッタ装置を用いて下記条件で反応性スパッタ製膜を行うことで、厚み１５０ｎｍの酸化アルミニウム層（以下、「バリア層（２ｂ）」という。）を形成した。
バリア層（２ｂ）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）を大気圧下でバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍの有機中間層（２ｂ）を形成した。
有機中間層（２ｂ）上に、反応性スパッタ装置を用いて下記条件で反応性スパッタ製膜を行うことで、厚み１５０ｎｍの酸化アルミニウム層（以下、「バリア層（３ｂ）」という。）を形成し、積層体（ＩＸ）を得た。

バリア層（１ｂ）〜（３ｂ）を形成する際の製膜条件は以下のとおりである。
プラズマ生成ガス：酸素
ガス流量：酸素 １００ｓｃｃｍ
ターゲット材料：アルミニウム
電力値：２５００Ｗ
真空槽内圧：０．２Ｐａ

（比較例１５）
比較例７において、形成する有機中間層（１ａ）の厚みを０．５μｍに変えたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（Ｘ）を得た。

（比較例１６）
比較例７において、形成する有機中間層（１ａ）の厚みを２．５μｍに変えたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＩ）を得た。

（比較例１）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例９で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｉ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＩＩ）を得た。

（比較例２）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例１０で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｊ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＩＩＩ）を得た。

（比較例３）
比較例７において、有機中間層（１ａ）を形成する際のエネルギー線硬化性組成物（Ａ）に代えて、製造例（ＸＩＶ）で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｋ）を用いたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＩＶ）を得た。

（比較例４）
基材としてのＰＥＴフィルム（ＰＥＴ２５ Ｔ−１００、厚み２５μｍ、三菱樹脂社製）上に、製造例１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）をバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍのプライマー層を形成した。
プライマー層上に、反応性スパッタ装置を用いて、比較例１４と同様の条件で反応性スパッタ製膜を行うことで、厚み１５０ｎｍの酸化アルミニウム層（以下、「バリア層（１ｃ）」という。）を形成した。
バリア層（１ｃ）上に、製造例９で得たエネルギー線硬化性組成物（Ｉ）を大気圧下でバーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍの有機中間層（１ｃ）を形成した。
有機中間層（１ｃ）上に、反応性スパッタ装置を用いて比較例１４と同様の条件で反応性スパッタ製膜を行うことで、厚み１５０ｎｍの酸化アルミニウム層〔バリア層（２ｃ）〕を形成し、積層体（ＸＶ）を得た。

（比較例５）
比較例７において、形成する有機中間層（１ａ）の厚みを０．３μｍに変えたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＶＩ）を得た。

（比較例６）
比較例７において、形成する有機中間層（１ａ）の厚みを３μｍに変えたこと以外は、比較例７と同様にして積層体（ＸＶＩＩ）を得た。得られた積層体（ＸＶＩＩ）は、カールが大きく、電子デバイス用部材としては適さないものだった。

実施例８及び比較例１〜１６で得られた積層体（Ｉ）〜（ＸＶＩＩ）について、下記の測定を行った。

（有機中間層の弾性率）
ＰＥＴフィルム（ＰＥＴ２５ Ｔ−１００、厚み２５μｍ、三菱樹脂社製）上に、製造例１〜１１で得たエネルギー線硬化性組成物（Ａ）〜（Ｋ）を、それぞれ、バーコート法により塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ光照射ラインを用いてＵＶ光照射を行い（高圧水銀灯、ライン速度、２０ｍ／分、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２、ピーク強度１．４６６Ｗ、パス回数２回）、厚み１μｍの有機中間層を形成し、試験片を得た。
上記試験片について、超微小硬度計（ＤＵＨ−Ｗ２０１−Ｓ、島津製作所社製）を用い、ナノインデンテーション法により、２５℃、６０℃、９０℃における有機中間層の表面における弾性率（ＧＰａ）を測定した。測定結果を第１表及び第２表に示す。

（水蒸気透過度の測定）
水蒸気透過度測定装置（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ、ｍｏｃｏｎ社製）を用い、耐久試験（温度６０℃、相対湿度９０％にて１５０時間放置した。）前後の水蒸気透過度（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）を測定した。試験前後の水蒸気透過度の増加率を下記式により算出し、増加率が１０％以下の場合を耐久性が優れる（○）、１０％超の場合を耐久性に劣る（×）と評価した。結果を第１表及び第２表に示す。
なお、比較例６の得られた積層体は、下記のカール評価が（×）となり、電子デバイス用部材としては適さないものだったため、水蒸気透過度の測定は行わなかった。

（カールの評価）
一辺が１０ｃｍの正方形のサンプルを作成し、四方の端部の浮きの合計が、３ｃｍ以上のものをカール（×）、３ｃｍ以下のものを（○）と評価した。評価結果を第１表及び第２表に示す。

第１表より以下のことが分かる。
実施例８の積層体は、ガスバリア性に優れている。さらに、熱負荷が加わってもガスバリア性が低下しにくく、耐久試験後も水蒸気透過度は、ほとんど変化しておらず、増加率が１０％に抑えられている。
一方、比較例１〜５の積層体は、耐久試験前はガスバリア性に優れているが、耐久試験を経て、水蒸気透過度が著しく増加し、ガスバリア性が大きく低下している。
また、比較例６の積層体は、カールが大きく電子デバイス用部材としては適さないものだった。

１：基材
２ａ、２ｂ、２ｃ：バリア層
３、３ａ、３ｂ：有機中間層
４、４ａ、４ｂ：ガスバリア性ユニット
５：プライマー層
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ：積層体

Claims (10)

1. 基材と、ガスバリア性ユニットとを有する積層体であって、
   前記ガスバリア性ユニットが、第１のバリア層及び第２のバリア層の２つのバリア層と、これらのバリア層に挟まれた、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上である有機中間層とからなり、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下で、かつ、有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下のものであること、及び、
   前記有機中間層が、多官能（メタ）アクリル系化合物と、官能基を有するシリカ微粒子とを含有するエネルギー線硬化性組成物の硬化物からなるものであることを特徴とする積層体。
2. 前記有機中間層が、エネルギー線硬化性組成物を、第１のバリア層上に塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して、硬化させたものである、請求項１に記載の積層体。
3. 前記多官能（メタ）アクリル系化合物が、（メタ）アクリル基の数が３以上の化合物である、請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記多官能（メタ）アクリル系化合物が、分子量が３５０〜５０００の化合物である、請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 有機中間層の厚み（Ｘ）が、３００ｎｍ以上、３μｍ以下、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）が１０〜４００ｎｍ、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）が１０〜４００ｎｍ、第１のバリア層と第２のバリア層の厚みの合計（Ｙ）が、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
6. 基材、バリア層、有機中間層、バリア層がこの順に積層されてなる、請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
7. 基材、バリア層、有機中間層、バリア層、有機中間層、バリア層がこの順に積層されてなる、請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の積層体からなる電子デバイス用部材。
9. 請求項８に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。
10. 請求項１〜５のいずれかに記載の積層体の製造方法であって、
    基材と、ガスバリア性ユニットとを有する積層体の製造方法であって、
    基材上に、直接又はその他の層を介して、第１のバリア層を形成する工程と、
    第１のバリア層上に、大気圧下で前記エネルギー線硬化性組成物を塗工して硬化性塗膜を形成し、得られた硬化性塗膜にエネルギー線を照射して硬化させ、９０℃における弾性率が１．５ＧＰａ以上の有機中間層を、この有機中間層の厚み（Ｘ）と、第１のバリア層の厚み（Ｙ１）の比（Ｘ／Ｙ１）が、３以上１８以下になるように形成する工程と、
    前記有機中間層上に、第２のバリア層を、前記有機中間層の厚み（Ｘ）と、第２のバリア層の厚み（Ｙ２）の比（Ｘ／Ｙ２）が、３以上１８以下になるように形成する工程と、を有することを特徴とする積層体の製造方法。

Images