JP6400438B2 - 単結晶製造方法及び単結晶製造装置 - Google Patents
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Description
まず、図1を参照して、単結晶製造装置の第1形態を説明する。第1形態に係る単結晶製造装置100は、育成坩堝1の底部に設けたノズル4から単結晶材料の融液5を連続的に引き下げて単結晶7を育成する単結晶製造装置において、育成坩堝1内で溶融している融液5の液面8に接する第1空間10を囲む壁11cと、第1空間10とノズル4の出口4aよりも下方の第2空間27との間のガスの行き来を阻害する仕切壁12と、第1空間10内にガスを供給して、第1空間10の圧力を高める第1加圧ガス供給部13と、を有する。
次に図4を参照して第2形態の単結晶製造装置について説明する。図1に示した第1形態の単結晶製造装置と第2形態の単結晶製造装置とでは、主として、坩堝の構造及び第1空間の領域が異なり、相違点を中心に説明する。坩堝44は、溶融坩堝と育成坩堝とを兼ねた坩堝(以後、兼用坩堝ともいう。)である。坩堝44の底には、育成坩堝1と同様に、ノズル4が一体に形成されている。坩堝44には、坩堝の蓋43が被せられており、蓋のされた坩堝によってできる空間が第1空間10となる。坩堝の蓋43には、原料投入ライン42と第1加圧ガス供給部40とが繋げられている。ここで、第1加圧ガス供給部40は第1形態における第1加圧ガス供給部13に相当する。第1加圧ガス供給部40によって、第1空間10内に加圧ガスが供給され、第1空間10を陽圧にすることができる。そして、上部チャンバ11の蓋11bの上方には原料投入ボックス41が配置されており、原料投入ボックス41に入っている単結晶の原料が原料投入ライン42を通じて坩堝44に供給される。坩堝44内には、単結晶原料の融液5があり、加圧ガスによって、融液5の液面8が加圧される。また、第1加圧ガス供給部40と坩堝の蓋43とをつなぐ配管と、第1排気部14と蓋11bとをつなぐ配管とをつなぐバイパス配管45が設けられている。バイパス配管45にはストップバルブがつけられている。第1空間10及び第1空間10を除く上部チャンバ11の内部空間を排気する場合には、バイパス配管45のストップバルブを開、第1加圧ガス供給部40のバルブを閉、としたうえで、第1排気部14を作動(バルブを開とする)する。一方、第1空間10を加圧するとき(このときは第1空間10を除く上部チャンバ11の内部空間は加圧しない)には、バイパス配管45のストップバルブを閉、第1排気部14を非作動(バルブを閉)とする。さらに、坩堝44の下であって、断熱材20の内側には、イリジウム製のIrチューブ29が配置されており、加熱コイル26によってIrチューブ29を誘導加熱する。Irチューブ29が加熱されることよって、その放射熱によってノズル4が加熱される。すなわち、Irチューブ29と加熱コイル26とがノズルヒーターの役割をなしている。加熱コイル26は、Irチューブ29の周りの部分と坩堝44の周りの部分とに分割して、それぞれ独立に温度制御できることが好ましい。Irチューブ29の下には、チューブ状の断熱材30は配置されており、これに囲まれた部分は誘導加熱されない。Irチューブ29とチューブ状の断熱材30とが坩堝44を支持している。なお、第1形態の装置のノズルヒーターを図4の装置に適用してもよい。また、第2形態の装置のノズルヒーターを図1の装置に適用してもよい。また、チャンバ本体11aを石英管で形成する場合には、誘導加熱のための加熱コイル26は、石英管の外側で巻き回すことが好ましい。
次に図1を参照して本実施形態に係る単結晶製造方法について説明する。なお、図4の第2形態の単結晶製造装置を用いた場合についても、第1空間10の領域が異なるものの、同様に単結晶を製造することができる。本実施形態に係る単結晶製造方法は、坩堝の底部に設けたノズルから単結晶材料の融液を連続的に引き下げて単結晶を育成する、いわゆるマイクロ引き下げ法である。ここで、育成坩堝1内で溶融している融液5の液面8に接する第1空間10と、ノズル4の出口4aよりも下方の第2空間27との間に圧力差を設けることによって、ノズル4を通過する融液5の流量を制御する。
第1空間10の圧力(内圧)から第2空間27の圧力(内圧)を差し引いた圧力差を圧力差Aとする。圧力差Aが大きければ大きいほど、融液5の液面8が陽圧により押されてノズル4を通過する融液5の流量が、圧力差Aがゼロの場合と比較して大きくなる。圧力差Aがゼロの場合の具体例としては、第1空間10と第2空間27のいずれも大気解放されている場合である。一方、圧力差Aが負となると融液5の液面8が陰圧により吸引されてノズル4を通過する融液5の流量が、圧力差Aがゼロの場合と比較して小さくなる。さらに圧力差Aがマイナス方向に大きくなると、融液5の流量がゼロとなり、さらに圧力差Aがマイナス方向に大きくなると、ノズル4を通過する融液が逆流する。なお、本実施形態に係る単結晶製造方法では、融液の逆流は避けるべきである。このように圧力差Aによって、融液5の流量を制御することができる。また、融液は温度によって粘性が変化するので、融液の温度が変われば、圧力差Aがゼロのときの融液5の流量は変化する。しかし、融液の温度が変わっても圧力差Aによって融液5の流量を制御できるので、より精密な流量制御ができる。さらに、融液の温度‐粘度特性は融液の種類によって変化するため、圧力差Aを具体的にどの程度に決定すべきかの判断が難しい場合がある。このようなときには、観察部25を用いれば、単結晶成長界面を観察して最適条件の圧力差Aを決定できるので、融液の流量と単結晶の製造速度を容易に制御することができる。
(1)第1加圧ガス供給部13から供給された加圧ガスによって、第1空間10の内圧を高める。このようにすることで圧力差Aをプラスの値として、ノズル4を通過する融液5の流量を、第1空間10の加圧をしないときよりも大きくする。
(2)第1加圧ガス供給部13から供給された加圧ガスによって、第1空間10の内圧を高め、かつ、第2排気部15によって第2空間27を大気圧未満にする。このようにすることで圧力差Aをプラスの値として、ノズル4を通過する融液5の流量を、第1空間10の加圧及び第2空間27の減圧をしないときよりも大きくする。
(3)第2排気部15によって第2空間27を大気圧未満にすることによって第2空間27を大気圧未満にする。このようにすることで圧力差Aをプラスの値として、ノズル4を通過する融液の流量を、第2空間27の減圧をしないときよりも大きくする。
(1)〜(3)のいずれにおいても第1空間の圧力から第2空間の圧力を差し引いた圧力差をゼロよりも大きくでき、融液の流量を安定して制御することができる。圧力差Aは、例えば、1×10〜1×104Paであり、好ましくは5×10〜5×102Paである。
2 溶融坩堝
3 坩堝
44 坩堝(兼用坩堝)
4 ノズル
4a ノズルの出口
5,6 融液
7 単結晶
8 融液の液面
10 第1空間
11 上部チャンバ
11a チャンバ本体
11b 蓋
11c 第1空間を囲む壁
12 仕切壁
13,40 第1加圧ガス供給部
31 第2加圧ガス供給部
14 第1排気部
15 第2排気部
16 下部チャンバ
16a 下部チャンバの壁
18 ノズルヒーター(抵抗加熱ヒーター)
19 溶融坩堝の底の孔
20,30 断熱材
21 結晶切断機構
22 制震・防震機構
23 位置決め調整機構
24 回転クランプ
25 観察部
26 加熱コイル
27 第2空間
28,42 原料投入ライン
29 Irチューブ
41 原料投入ボックス
43 坩堝の蓋
45 バイパス配管
46 線材
47 枠体
100,200 単結晶製造装置
Claims (12)
- 溶融坩堝で単結晶用原料を溶融して単結晶材料の融液とし、該融液を育成坩堝に移し、該育成坩堝の底部に設けたノズルから前記融液を連続的に引き下げて単結晶を育成するか、又は、溶融坩堝と育成坩堝を兼ねた兼用坩堝で単結晶用原料を溶融して単結晶材料の融液とし、該兼用坩堝の底部に設けたノズルから前記融液を連続的に引き下げて単結晶を育成する単結晶製造方法において、
前記溶融坩堝及び前記育成坩堝の中で溶融している融液の液面に接する又は前記兼用坩堝の中で溶融している融液の液面に接する第1空間と前記ノズルの出口よりも下方の第2空間の両方を大気圧未満として、前記溶融坩堝及び前記育成坩堝の中で溶融している融液又は前記兼用坩堝の中で溶融している融液に含まれる気泡を脱泡する工程と、
前記第1空間と、前記第2空間との間に圧力差を設けることによって、前記ノズルを通過する融液の流量を制御する工程と、を有することを特徴とする単結晶製造方法。 - 前記ノズルを通過する融液の流量を制御する工程において、
(1)前記第1空間を加圧することによって前記圧力差を設けて、前記ノズルを通過する融液の流量を、加圧しないときよりも大きくする、
(2)前記第1空間を加圧し、かつ、前記第2空間を大気圧未満にすることによって前記圧力差を設けて、前記ノズルを通過する融液の流量を、加圧及び減圧をしないときよりも大きくする、
(3)前記第2空間を大気圧未満にすることによって前記圧力差を設けて、前記ノズルを通過する融液の流量を、減圧をしないときよりも大きくする、
の少なくともいずれか一つを行ない、かつ、前記(1)〜(3)のいずれにおいても第1空間の圧力から第2空間の圧力を差し引いた圧力差をゼロよりも大きくして、前記ノズルを通過する融液の流量を制御することを特徴とする請求項1に記載の単結晶製造方法。 - 前記ノズルの温度を、ノズルヒーターを用いて前記単結晶材料の融点よりも上の温度に制御することによって、前記ノズルを通過する融液を流す又は前記ノズルの温度を、前記ノズルヒーターを用いて前記単結晶材料の融点よりも下の温度に制御することによって、前記ノズルを通過する融液を止める、の制御を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の単結晶製造方法。
- 前記ノズルを通過する融液の流量をゼロとしているときに、育成した単結晶の切断を行う工程を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の単結晶製造方法。
- 単結晶育成装置のうち、前記融液と接触する部分がイリジウム又はイリジウム合金で形成されており、前記単結晶材料が酸化物単結晶材料であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の単結晶製造方法。
- 前記気泡を脱泡する工程は、前記単結晶用原料を前記溶融坩堝で熔解しているとき、及び、前記溶融坩堝から前記育成坩堝に前記融液を移すときに行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の単結晶製造方法。
- 単結晶用原料を溶融して単結晶材料の融液とするための溶融坩堝と該溶融坩堝から前記融液を受け入れて溶融状態を保持する育成坩堝とを有し、該育成坩堝の底部に設けたノズルから前記融液を連続的に引き下げて単結晶を育成する単結晶製造装置において、
前記溶融坩堝及び前記育成坩堝の中で溶融している融液の液面に接する第1空間を囲む壁と、
前記第1空間と前記ノズルの出口よりも下方の第2空間との間のガスの行き来を阻害する仕切壁と、
前記第1空間内にガスを供給して、前記第1空間の圧力を高める第1加圧ガス供給部と、
前記第1空間内のガスを排気する第1排気部と、
前記第2空間を囲む壁と、
前記第2空間内のガスを排気する第2排気部と、を有することを特徴とする単結晶製造装置。 - 前記育成坩堝の容量が前記溶融坩堝の容量よりも大きいことを特徴とする請求項7に記載の単結晶製造装置。
- 単結晶用原料を溶融して単結晶材料の融液とし、かつ、該融液の溶融状態を保持する溶融坩堝と育成坩堝を兼ねた兼用坩堝を有し、該兼用坩堝の底部に設けたノズルから前記融液を連続的に引き下げて単結晶を育成する単結晶製造装置において、
前記兼用坩堝の中で溶融している融液の液面に接する第1空間を囲む壁と、
前記第1空間と前記ノズルの出口よりも下方の第2空間との間のガスの行き来を阻害する仕切壁と、
前記第1空間内にガスを供給して、前記第1空間の圧力を高める第1加圧ガス供給部と、
前記第1空間内のガスを排気する第1排気部と、
前記第2空間を囲む壁と、
前記第2空間内のガスを排気する第2排気部と、を有することを特徴とする単結晶製造装置。 - 前記兼用坩堝の蓋と、
前記単結晶用原料を供給する原料投入ボックスと、
該原料投入ボックスと前記蓋とをつなぎ、前記単結晶用原料を前記兼用坩堝の中に送り込む原料投入ラインと、をさらに有し、
前記第1空間は、前記蓋がされた前記兼用坩堝の内部空間であり、
前記第1加圧ガス供給部及び前記第1排気部は、前記蓋につなげられていることを特徴とする請求項9に記載の単結晶製造装置。 - 前記ノズルの温度を制御するノズルヒーターをさらに有することを特徴とする請求項7〜10のいずれか一つに記載の単結晶製造装置。
- 前記第2空間内にガスを供給する第2加圧ガス供給部を有することを特徴とする請求項7〜11のいずれか一つに記載の単結晶製造装置。
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