JP6394396B2 - 耐食性部材、静電チャック装置 - Google Patents
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Description
本願は、2013年10月15日に、日本に出願された特願2013−214637号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
そこで、従来、静電チャック部材に用いられる耐食性材料として、希土類金属元素酸化物、立方晶系ガーネット型の酸化イットリウムアルミニウム(イットリウムアルミニウムガーネット:5Al2O3・3Y2O3、YAG)やイットリウム以外の希土類金属酸化物を添加したYAGを焼結したものが使用されている(例えば、特許文献1、2参照)。
一方、REAlO3(REは希土類金属元素)は、ペロブスカイト相として構造を制御することができれば、高い誘電率を有することを期待できる。REAlO3は、RE2O3とAl2O3の等モル混合物を加熱処理して合成されるが、得られたREAlO3粒子の表面は、欠陥が多く、誘電損失が高くなる。そのため、REAlO3焼結体を静電チャック部材の誘電層に適用した場合、残留吸着力が高くなるという問題があった。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
本実施形態の耐食性部材は、アルミニウムと、サマリウムと、サマリウムを除く希土類金属元素とを含む複合酸化物焼結体からなり、サマリウムを除く希土類金属元素は、イオン半径が0.88×10−10m以上のものである。
これにより、複合酸化物の結晶相は、斜方晶系ペロブスカイト相をなしている。
まず、出発原料である、純度99%以上かつ一次粒子の平均粒径が0.01μm 〜5μmの酸化アルミニウム(Al2O3)粉末、純度99%以上かつ一次粒子の平均粒径が0.01μm 〜5μmの酸化サマリウム(Sm2O3)粉末、酸化サマリウム(Sm2O3)以外の希土類金属酸化物(RE2O3)粉末、それぞれを所定の比率で混合する。
なお、結晶相の生成量は、原料粉末の混合比率の他、混合条件、焼成条件等によっても変動するので、これらの条件を予め予備実験にて求めておくことが望ましい。
この混合粉末は、仮焼せずにそのまま成形・焼成しても焼結体を得ることができるが、混合粉末の組成にずれが生じるおそれがあり、また、仮焼しない混合粉末を直接、本焼成すると、酸化アルミニウム(Al2O3)粉末中のアルミニウム(Al)が蒸発して所望の組成の焼結体が得られないおそれがある。
したがって、所望の組成の焼結体を安定して得るためには、上記の混合粉末を800℃〜1800℃の温度にて仮焼した後、1μm以下の粒径に粉砕した仮焼粉末を利用することが望ましい。
次いで、この仮焼粉末あるいは造粒粉末を、周知の成形手段により所定形状に成形する。
その後、この成形体を、大気中、真空中または不活性ガス雰囲気中、50〜300℃にて脱脂した後、大気中、真空中または不活性ガス雰囲気中、1400℃〜1800℃、好ましくは1550℃〜1750℃にて1〜10時間焼成することにより、98%以上の焼結密度を有する緻密な焼結体(複合酸化物焼結体)を作製することができる。得られた複合酸化物焼結体が、本実施形態の耐食性部材である。
焼成方法としては、常圧焼成法でもよいが、緻密な焼結体を得るためにはホットプレス、熱間静水圧プレス(HIP)等の加圧焼成法が好ましい。加圧焼成時の加圧力は特に制限はないが、通常、10〜40MPa程度である。
図1は、本実施形態の静電チャック装置の一例を示す概略断面図である。
本実施形態の静電チャック装置10は、円板状の静電チャック部11と、この静電チャック部11を所望の温度に調整する厚みのある円板状の冷却ベース部12と、冷却ベース部12の上面12aに接着剤13を介して接着された絶縁部材14と、静電チャック部11の下面(他の主面)側で、かつ、絶縁部材14の上面14aに所定のパターンに設けられたヒータエレメント(加熱部材)15と、静電チャック部11と冷却ベース部12上のヒータエレメント15とを対向させた状態でこれらを接着一体化する有機系接着剤層16とから概略構成されている。
絶縁部材20は、接着剤19を介して、静電吸着用内部電極18の周囲(静電吸着用内部電極18における載置板17と接している面以外の面)を覆っている。これにより、載置板17と静電吸着用内部電極18が一体化されている。
載置板17の載置面(上面(一主面))17aには、突起部17cが所定の間隔を隔てて、複数個設けられている。これらの突起部17cが、半導体ウエハ等の板状試料を支える構成になっている。
静電吸着用内部電極18は、酸化アルミニウム−炭化タンタル(Al2O3−Ta4C5)導電性複合焼結体、酸化アルミニウム−タングステン(Al2O3−W)導電性複合焼結体、酸化アルミニウム−炭化ケイ素(Al2O3−SiC)導電性複合焼結体、窒化アルミニウム−タングステン(AlN−W)導電性複合焼結体、窒化アルミニウム−タンタル(AlN−Ta)導電性複合焼結体、酸化イットリウム−モリブデン(Y2O3−Mo)導電性複合焼結体等の導電性セラミックス、あるいは、タングステン(W)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)等の高融点金属、あるいは、銀(Ag)や炭素等の導電性の物質が含まれた樹脂により形成されている。
接着剤19としては、例えば、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の耐熱性および絶縁性を有するシート状またはフィルム状の接着性樹脂が用いられる。
絶縁部材20は、耐熱性および絶縁性を有し、かつ、腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐久性に優れるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリイミドシートからなるものが用いられる。
柱状の電極22の材料としては、耐熱性に優れた導電性材料であれば特に限定されるものではないが、熱膨張係数が静電吸着用内部電極18の熱膨張係数に近似したものが好ましく、例えば、静電吸着用内部電極18を構成している耐食性部材、あるいは、タングステン(W)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、コバール合金等の金属材料が好適に用いられる。
また、柱状の電極22は、導電性接着剤24を介して、静電吸着用内部電極18に接続されている。
そして、給電用端子21は、絶縁部材20に接合一体化されて静電チャック部11を構成している。
冷却ベース部12としては、例えば、その内部に水を循環させる流路(図示略)が形成された水冷ベース等が好適である。
冷却ベース部12を構成する材料としては、熱伝導性、導電性、加工性に優れた金属、またはこれらの金属を含む複合材であれば特に制限はなく、例えば、アルミニウム(Al)、アルミニウム合金、銅(Cu)、銅合金、ステンレス鋼(SUS) 等が好適に用いられる。冷却ベース部12の表面は、アルマイト処理が施されているか、あるいはアルミナ等の絶縁膜が成膜されていることが好ましい。
電極25は、絶縁性を有する碍子26により冷却ベース部12に対して絶縁されている。電極25と碍子26との間は、シリコン樹脂のような低弾性接着剤で充填されていてもよく、さらに、その低弾性接着剤が、無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物からなるフィラーを含有してもよい。該フィラーは、窒化アルミニウム(AlN)粒子の表面に酸化ケイ素(SiO2)からなる被覆層が形成された表面被覆窒化アルミニウム(AlN)粒子や酸化アルミニウム(Al2O3)粒子であることが好ましい。
接着剤13としては、例えば、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の耐熱性および絶縁性を有するシート状またはフィルム状の接着性樹脂が用いられる。
絶縁部材14は、絶縁性および耐電圧性を有し、かつ、腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐久性に優れるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリイミドシートからなるものが用いられる。
ここで、熱伝導率が0.1W/mk未満であると、静電チャック部11から冷却ベース部12への絶縁部材14を介しての熱伝達が難しくなり、冷却速度が低下するので好ましくなく、一方、熱伝導率が1W/mkを超えると、ヒータ部から冷却ベース部12への絶縁部材14を介しての熱伝達が増加し、昇温速度が低下するので好ましくない。
ヒータエレメント15は、例えば、幅の狭い帯状の金属材料を蛇行させたパターンを、軸を中心として、この軸の回りに繰り返し配置し、かつ隣接するパターン同士を接続することで、1つの連続した帯状のヒーターパターンとなっている。
また、一定の厚みの非磁性金属薄板を用いてヒータエレメント15を形成すると、ヒータエレメント15の厚みが加熱面全域で一定となり、さらに発熱量も加熱面全域で一定となるので、静電チャック部11の載置面(載置板17の上面17a)における温度分布を均一化することができる。
シリコーン系樹脂組成物は、耐熱性、弾性に優れた樹脂であり、シロキサン結合(Si−O−Si)を有するケイ素化合物である。このシリコーン系樹脂組成物は、例えば、下記の式(1)または式(2)の化学式で表すことができる。
である。
ここで、熱硬化温度が70℃を下回ると、静電チャック部11と冷却ベース部12上のヒータエレメント15とを対向させた状態でこれらを接合する際に、接合過程で硬化が始まってしまい、作業性に劣ることとなるので好ましくない。一方、熱硬化温度が140℃を超えると、静電チャック部11の絶縁部材20と、冷却ベース部12および絶縁部材14との熱膨張差が大きく、静電チャック部11の絶縁部材20と、冷却ベース部12および絶縁部材14との間の応力が増加し、これらの間で剥離が生じるおそれがあるので好ましくない。
この表面被覆窒化アルミニウム(AlN)粒子は、シリコーン樹脂の熱伝導性を改善するために混入されたもので、その混入率を調整することにより、有機系接着剤層16の熱伝達率を制御することができる。
また、窒化アルミニウム(AlN)粒子の表面に酸化ケイ素(SiO2)からなる被覆層が形成されているので、表面被覆が施されていない単なる窒化アルミニウム(AlN)粒子と比較して優れた耐水性を有している。したがって、シリコーン系樹脂組成物を主成分とする有機系接着剤層16の耐久性を確保することができ、その結果、静電チャック装置1の耐久性を飛躍的に向上させることができる。
なお、この表面被覆窒化アルミニウム(AlN)粒子は、半導体ウエハ等の板状試料への汚染源となるおそれもなく、この点からも好ましいフィラーということができる。
ここで、この表面被覆窒化アルミニウム(AlN)粒子の平均粒径が1μmを下回ると、粒子同士の接触が不十分となり、結果的に熱伝達率が低下する虞があり、また、粒径が細か過ぎると、取扱等の作業性の低下を招くこととなり、好ましくない。一方、平均粒径が10μmを超えると、接着層の厚みにばらつきが生じ易くなるので好ましくない。
いずれも純度99.9%かつ一次粒子の平均粒径が1.0μmの、市販の酸化アルミニウム(Al2O3)粉末と、市販の酸化サマリウム(Sm2O3)粉末と、市販の酸化イットリウム(Y2O3)粉末と、を用い、これらの粉末を表1に示す組成となるように秤量、調整し、その後、エタノールを溶媒として遊星型ボールミルにて湿式混合した後、スプレードライ法により造立して、混合粉末(No.1〜3)とした。
次いで、得られた成形体を真空中にて脱脂し、次いで、ホットプレスを用いて、大気中、1600℃にて2時間、加圧焼成して、複合酸化物焼結体を作製した。この際の加圧力を200kg/cm2とした。
いずれも純度99.9%かつ一次粒子の平均粒径が1.0μmの、市販の酸化アルミニウム(Al2O3)粉末と、市販の酸化サマリウム(Sm2O3)粉末と、市販の酸化イットリウム(Y2O3)粉末、市販の酸化ランタン(La2O3)粉末、市販の酸化ランタン(La2O3)粉末、市販の酸化プラセオジム(Pr2O3)粉末、市販の酸化ネオジウム(Nd2O3)粉末、市販の酸化ユウロピウム(Eu2O3)粉末、市販の酸化ガドリニウム(Gd2O3)粉末、市販の酸化テルビウム(Tb2O3)粉末、市販の酸化ジスプロジウム(Dy2O3)粉末、市販の酸化ホルミウム(Ho2O3)粉末、市販の酸化エルビウム(Er2O3)粉末、および、市販の酸化ツリウム(Tm2O3)粉末の群から選択される1種と、を用い、これらの粉末を表1に示す組成となるように秤量、調整し、その後、エタノールを溶媒として遊星型ボールミルにて湿式混合した後、スプレードライ法により造立して、混合粉末(No.4〜14)とした。
次いで、得られた成形体を真空中にて脱脂し、次いで、ホットプレスを用いて、大気中、1600℃にて2時間、加圧焼成して、複合酸化物焼結体を作製した。この際の加圧力を200kg/cm2とした。
いずれも純度99.9%かつ一次粒子の平均粒径が1.0μmの、市販の酸化アルミニウム(Al2O3)粉末と、市販の酸化サマリウム(Sm2O3)粉末と、市販の酸化イットリウム(Y2O3)粉末、市販の酸化スカンジウム(Sc2O3)粉末、および、市販の酸化セリウム(Ce2O3)粉末の群から選択される1種と、を用い、これらの粉末を表1に示す組成となるように秤量、調整し、その後、エタノールを溶媒として遊星型ボールミルにて湿式混合した後、スプレードライ法により造立して、混合粉末(No.15〜20)とした。
次いで、得られた成形体を真空中にて脱脂し、次いで、ホットプレスを用いて、大気中、1600℃にて2時間、加圧焼成して、複合酸化物焼結体を作製した。 この際の加圧力を200kg/cm2とした。
上記実施例1〜14および比較例1〜6の各焼結体を評価した。評価結果を表1に示す。
なお、評価項目および評価方法は次のとおりである。
(1)誘電率、誘電損失
実施例1〜14および比較例1〜6の各焼結体の40Hzから1MHzの周波数領域における誘電率を、誘電体測定装置(商品名:Agilent 4294A プレシジョン・インピーダンス・アナライザー、Agilent社製)を用いて測定した。
焼結体としては、縦60mm×横60mm×厚み2mmに加工したものを用いた。
抵抗率計 ロレスタGP(三菱化学アナリテック社製)を用いて、四端子法により、測定電圧を10Vとして測定した。
焼結体の真密度(d0)をアルキメデス法により測定し、この真密度(d0)の理論密度(dt)に対する比(d0/dt)を百分率で表し、体積密度(相対密度、%)とした。
焼結体を厚み1mmに加工し、アルミナセラミックス/電極/焼結体の順に接着、積層し、焼結体の載置面の温度を25℃に設定し、焼結体の載置面に1.5kVの直流電圧を60秒間印加し、真空中(<0.5Pa)の条件で、1インチのシリコンウエハに対する吸着力を測定した。
吸着力の測定は、ロードセルを用いて、電圧の印加を中に焼結体の載置面からリコンウエハを引き剥がすことにより行い、そのときの最大引き剥がし応力を吸着力とした。
焼結体を厚み1mmに加工し、アルミナセラミックス/電極/焼結体の順に接着、積層し、真空中(<0.5Pa)、焼結体の載置面の温度を25℃に設定し、焼結体の載置面に5.0kVの直流電圧を60秒間印加した後、電圧の印加を解除した直後における、1インチのシリコンウエハに対する吸着力を測定した。
残留吸着力の測定は、ロードセルを用いて、電圧の印加を解除した直後に、焼結体の載置面からリコンウエハを引き剥がすことにより行い、そのときの最大引き剥がし応力を残留吸着力とした。
粉末X線回折装置(商品名:X´ Pert PRO MPD,PANalytial社製)を用い、粉末X線回折法により結晶相の同定を行った。
表1中、Oは斜方晶系ペロブスカイト相、Yはイットリウムアルミニウムガーネット(5Al2O3・3Y2O3)結晶相、REはサマリウム(Sm)を除く希土類金属元素、Mは単斜晶、Gはガーネット型結晶相である。
試料から、10mm×10mm×5mmの板状体を切り出し、一方の面を鏡面研磨し、この研磨面を試験面とする試験片を作製した。次いで、この試験片をアセトン洗浄した後、その重量を測定し、プラズマエッチング装置のチャンバー内に設置した。次いで、このチャンバー内にCF4ガス及びマイクロ波(100W)を導入してCF4プラズマを発生させ、このCF4プラズマに各試験片を暴露させた。その後、この試験片の暴露後の重量を測定し、暴露前後の重量変化から消耗速度(エッチングレート)を算出し、耐食性の評価とした。
なお、暴露条件は、雰囲気圧:11torr、暴露時間:10分、暴露温度:900℃である。
11・・・静電チャック部、
12・・・冷却ベース部、
13・・・接着剤、
14・・・絶縁部材、
15・・・ヒータエレメント(加熱部材)、
16・・・有機系接着剤層、
17・・・載置板、
18・・・静電吸着用内部電極、
19・・・接着剤、
20・・・絶縁部材、
21・・・給電用端子、
22・・・電極、
23・・・碍子、
24・・・導電性接着剤、
25・・・電極、
26・・・碍子。
Claims (5)
- アルミニウムと、サマリウムと、サマリウムを除く希土類金属元素とからなる複合酸化物焼結体からなり、
前記サマリウムを除く希土類金属元素は、イットリウム、ランタン、プラセオジム、ネオジウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロジウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウムの群から選択される1種または2種以上、かつイオン半径が0.88×10−10m以上のものであり、
前記複合酸化物焼結体の主な結晶相は、斜方晶系ペロブスカイト相であることを特徴とする耐食性部材。 - 前記複合酸化物におけるサマリウムの原子数(NSM)とサマリウムを除く希土類金属元素の原子数(NRE)の和(NSM+NRE)に対する、サマリウムを除く希土類金属元素の原子数(NRE)の比(NRE/(NSM+NRE))は、0.01以上かつ0.5以下であることを特徴とする請求項1に記載の耐食性部材。
- 1MHz以下の周波数における誘電率が13以上、1MHz以下の周波数における誘電損失が0.2以下、体積抵抗率が1×1014Ω・cm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の耐食性部材。
- 一主面が試料を載置する載置面であるセラミックス板状体と、該セラミックス板状体の他の主面に設けられた静電吸着用内部電極と、を備え、
前記セラミックス板状体は、請求項1から3のいずれか1項に記載の耐食性部材からなることを特徴とする静電チャック装置。 - 前記セラミックス板状体および前記静電吸着用内部電極を冷却する冷却ベース部と、前記静電吸着用内部電極と前記冷却ベース部の間に設けられた加熱部材と、を備えたことを特徴とする請求項4に記載の静電チャック装置。
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