JP2003277051A - イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法 - Google Patents
イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法Info
- Publication number
- JP2003277051A JP2003277051A JP2002080031A JP2002080031A JP2003277051A JP 2003277051 A JP2003277051 A JP 2003277051A JP 2002080031 A JP2002080031 A JP 2002080031A JP 2002080031 A JP2002080031 A JP 2002080031A JP 2003277051 A JP2003277051 A JP 2003277051A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yttria
- alumina
- composite oxide
- oxide film
- alumina composite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00241—Physical properties of the materials not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/0025—Compositions or ingredients of the compositions characterised by the crystal structure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Abstract
(57)【要約】
【課題】膜の基体からの剥離が抑制されたイットリア−
アルミナ複合酸化物膜を提供する。 【解決手段】アルミナとイットリア−アルミナ複合酸化
物との少なくとも一方を主成分とする基体の上に、中間
層を形成する。中間層において、イットリアのｍｏｌ比
Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．１以上、０．９以下である。この中間層上にイット
リア−アルミナ複合酸化物膜を形成する。イットリア−
アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によって得られる
ガーネット相の（４２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２
０）を、これ以外の結晶相の最大ピーク強度Ｍによって
除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以上である。
アルミナ複合酸化物膜を提供する。 【解決手段】アルミナとイットリア−アルミナ複合酸化
物との少なくとも一方を主成分とする基体の上に、中間
層を形成する。中間層において、イットリアのｍｏｌ比
Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．１以上、０．９以下である。この中間層上にイット
リア−アルミナ複合酸化物膜を形成する。イットリア−
アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によって得られる
ガーネット相の（４２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２
０）を、これ以外の結晶相の最大ピーク強度Ｍによって
除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以上である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イットリア−アル
ミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミ
ナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリ
ア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法に関するものであ
る。
ミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミ
ナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリ
ア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】スーパークリーン状態を必要とする半導
体製造装置では、デポジション用ガス、エッチング用ガ
ス、及びクリーニング用ガスとして、塩素系ガス、及び
フッ素系ガスなどのハロゲン系腐食性ガスが使用されて
いる。例えば、熱ＣＶＤ装置などの半導体製造装置にお
いては、デポジション後にＣｌＦ３、ＮＦ ３、ＣＦ４、
ＨＦ、及びＨＣｌなどのハロゲン系腐食性ガスからなる
半導体クリーニングガスを用いている。また、デポジシ
ョンの段階でも、ＷＦ６、ＳｉＨ２Ｃｌ２などのハロゲ
ン系腐食性ガスを成膜用ガスとして使用している。
体製造装置では、デポジション用ガス、エッチング用ガ
ス、及びクリーニング用ガスとして、塩素系ガス、及び
フッ素系ガスなどのハロゲン系腐食性ガスが使用されて
いる。例えば、熱ＣＶＤ装置などの半導体製造装置にお
いては、デポジション後にＣｌＦ３、ＮＦ ３、ＣＦ４、
ＨＦ、及びＨＣｌなどのハロゲン系腐食性ガスからなる
半導体クリーニングガスを用いている。また、デポジシ
ョンの段階でも、ＷＦ６、ＳｉＨ２Ｃｌ２などのハロゲ
ン系腐食性ガスを成膜用ガスとして使用している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、半導体製造装
置用部材、例えば装置内に収容する部材や、チャンバー
の内壁面には、ハロゲンガスやそのプラズマに対する耐
蝕性が高く、長期間にわたって安定した被膜を形成する
ことが望まれる。
置用部材、例えば装置内に収容する部材や、チャンバー
の内壁面には、ハロゲンガスやそのプラズマに対する耐
蝕性が高く、長期間にわたって安定した被膜を形成する
ことが望まれる。
【０００４】本出願人は、特願２００１−１１０１３６
号明細書において、基体表面にイットリア−アルミナガ
ーネット膜を溶射法によって形成することで、ハロゲン
ガスのプラズマに対して高い耐蝕性を付与しており、パ
ーティクルの発生を抑制できることを開示した。しか
し、この膜にも次の問題点が生ずる場合があった。即
ち、溶射時の条件によっては、熱処理後に膜が基体から
剥離し、パーティクルを発生させ易くなり、また腐食性
物質に対する耐蝕性が低下することがあった。この場合
には製品としては望ましくないために、歩留り低下の原
因となる。
号明細書において、基体表面にイットリア−アルミナガ
ーネット膜を溶射法によって形成することで、ハロゲン
ガスのプラズマに対して高い耐蝕性を付与しており、パ
ーティクルの発生を抑制できることを開示した。しか
し、この膜にも次の問題点が生ずる場合があった。即
ち、溶射時の条件によっては、熱処理後に膜が基体から
剥離し、パーティクルを発生させ易くなり、また腐食性
物質に対する耐蝕性が低下することがあった。この場合
には製品としては望ましくないために、歩留り低下の原
因となる。
【０００５】本発明の課題は、膜の基体からの剥離を抑
制できるようなイットリア−アルミナ複合酸化物膜を提
供することである。
制できるようなイットリア−アルミナ複合酸化物膜を提
供することである。
【０００６】また、本発明の課題は、こうしたイットリ
ア−アルミナ複合酸化物膜を利用して、高い耐蝕性を有
し、長期間にわたって安定して使用可能な耐蝕性部材を
提供することである。
ア−アルミナ複合酸化物膜を利用して、高い耐蝕性を有
し、長期間にわたって安定して使用可能な耐蝕性部材を
提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、アルミナとイ
ットリア−アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を
主成分とする基体、この基体上に形成されているイット
リア−アルミナ複合酸化物膜および基体とイットリア−
アルミナ複合酸化物膜との間に介在する中間層を備えて
いる積層体であって、イットリア−アルミナ複合酸化物
膜のＸ線回折測定によって得られるガーネット相の（４
２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の
結晶相の最大ピーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４
２０）／Ｍが２．５以上であり、中間層におけるイット
リアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除し
た値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であることを特徴
とする
ットリア−アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を
主成分とする基体、この基体上に形成されているイット
リア−アルミナ複合酸化物膜および基体とイットリア−
アルミナ複合酸化物膜との間に介在する中間層を備えて
いる積層体であって、イットリア−アルミナ複合酸化物
膜のＸ線回折測定によって得られるガーネット相の（４
２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の
結晶相の最大ピーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４
２０）／Ｍが２．５以上であり、中間層におけるイット
リアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除し
た値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であることを特徴
とする
【０００８】また、本発明は、アルミナとイットリア−
アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を主成分とす
る基体上に形成されているイットリア−アルミナ複合酸
化物膜であって，基体とイットリア−アルミナ複合酸化
物膜との間に中間層が介在しており、この中間層におい
てイットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによ
って除した値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であり、
イットリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によ
って得られるガーネット相の（４２０）面のピーク強度
ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピーク強
度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以
上であることを特徴とする。
アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を主成分とす
る基体上に形成されているイットリア−アルミナ複合酸
化物膜であって，基体とイットリア−アルミナ複合酸化
物膜との間に中間層が介在しており、この中間層におい
てイットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによ
って除した値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であり、
イットリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によ
って得られるガーネット相の（４２０）面のピーク強度
ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピーク強
度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以
上であることを特徴とする。
【０００９】また、本発明は、アルミナとイットリア−
アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を主成分とす
る基体上にイットリア−アルミナ複合酸化物膜を製造す
る方法であって、基体上に中間層を設け、この中間層に
おいてイットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａ
によって除した値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であ
り、この中間層上に溶射膜を形成し、この溶射膜を熱処
理することによってイットリア−アルミナ複合酸化物膜
を得、イットリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測
定によって得られるガーネット相の（４２０）面のピー
ク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピ
ーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが
２．５以上であることを特徴とする。
アルミナ複合酸化物膜との少なくとも一方を主成分とす
る基体上にイットリア−アルミナ複合酸化物膜を製造す
る方法であって、基体上に中間層を設け、この中間層に
おいてイットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａ
によって除した値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であ
り、この中間層上に溶射膜を形成し、この溶射膜を熱処
理することによってイットリア−アルミナ複合酸化物膜
を得、イットリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測
定によって得られるガーネット相の（４２０）面のピー
ク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピ
ーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが
２．５以上であることを特徴とする。
【００１０】また、本発明は、上記の方法によって得ら
れたことを特徴とする、イットリア−アルミナ複合酸化
物膜に係るものである。
れたことを特徴とする、イットリア−アルミナ複合酸化
物膜に係るものである。
【００１１】本発明者は、例えばアルミナ基体の表面に
イットリア膜を形成し、この上にイットリア−アルミナ
複合酸化物からなる膜を溶射法によって成膜することを
検討してきた。この場合、溶射条件および熱処理条件に
よっては、特に１５００℃以上、更には１５５０℃以上
の熱処理条件を採用した場合には、基体とイットリア−
アルミナ複合酸化物膜とが部分的に剥離する場合があっ
た。
イットリア膜を形成し、この上にイットリア−アルミナ
複合酸化物からなる膜を溶射法によって成膜することを
検討してきた。この場合、溶射条件および熱処理条件に
よっては、特に１５００℃以上、更には１５５０℃以上
の熱処理条件を採用した場合には、基体とイットリア−
アルミナ複合酸化物膜とが部分的に剥離する場合があっ
た。
【００１２】この理由について検討したところ、次の知
見を得た。即ち、溶射膜の中にはガーネット相とペロブ
スカイト相とが共存することがあり、その比率は溶射時
の条件に依存している。ここで、ある程度高温で熱処理
を行うと、溶射膜中のペロブスカイト相がガーネット相
に相変態し、この相変態に伴って体積膨張が発生し、膜
の基体からの剥離が生ずることが分かった。
見を得た。即ち、溶射膜の中にはガーネット相とペロブ
スカイト相とが共存することがあり、その比率は溶射時
の条件に依存している。ここで、ある程度高温で熱処理
を行うと、溶射膜中のペロブスカイト相がガーネット相
に相変態し、この相変態に伴って体積膨張が発生し、膜
の基体からの剥離が生ずることが分かった。
【００１３】本発明者は、基体上の中間層において、イ
ットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって
除した値Ｙ／Ａを０．１以上、０．９以下とすることを
想到した。この結果、イットリア−アルミナ複合酸化物
膜において、ペロブスカイト相からガーネット相への相
変態が生じた場合にも、中間層からの剥離が生じにくく
なった。
ットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって
除した値Ｙ／Ａを０．１以上、０．９以下とすることを
想到した。この結果、イットリア−アルミナ複合酸化物
膜において、ペロブスカイト相からガーネット相への相
変態が生じた場合にも、中間層からの剥離が生じにくく
なった。
【００１４】こうして得られたイットリア−アルミナ複
合酸化物膜には、熱処理後にも顕著なクラックが見られ
ず、基体からの剥離が少なく、腐食性物質に接触したと
きにも剥離やパーティクルの発生を生じにくいものであ
った。
合酸化物膜には、熱処理後にも顕著なクラックが見られ
ず、基体からの剥離が少なく、腐食性物質に接触したと
きにも剥離やパーティクルの発生を生じにくいものであ
った。
【００１５】
【発明の実施の形態】基体の材質は、アルミナとイット
リア−アルミナ複合酸化物との少なくとも一方を主成分
とする。具体的には、アルミナ、イットリア−アルミナ
複合酸化物、およびアルミナとイットリア−アルミナ複
合酸化物との混合物を含む。
リア−アルミナ複合酸化物との少なくとも一方を主成分
とする。具体的には、アルミナ、イットリア−アルミナ
複合酸化物、およびアルミナとイットリア−アルミナ複
合酸化物との混合物を含む。
【００１６】基体の材質は、アルミナとイットリア−ア
ルミナ複合酸化物との少なくとも一方を主成分としてい
るが、他の添加成分や不純物を排除しない。しかし、前
記主成分以外の成分の割合は１０重量％以下であること
が好ましい。さらに、膜材料であるイットリア−アルミ
ナ複合酸化物の熱膨張係数に基体の材質の熱膨張係数を
近づけるために、基体の材質は、アルミナ、イットリア
−アルミナ複合酸化物、およびアルミナとイットリア−
アルミナ複合酸化物との混合物に対して第三の物質を含
有させることが好ましい。含有物としてはスピネル型化
合物、ジルコニウム化合物等の物質を例示できる。但
し、これらの物質の多量の含有は熱伝導および材質強度
の低下を招くため、含有量は合計で１０重量％以下が好
ましく、３重量％から７重量％がさらに好ましい。
ルミナ複合酸化物との少なくとも一方を主成分としてい
るが、他の添加成分や不純物を排除しない。しかし、前
記主成分以外の成分の割合は１０重量％以下であること
が好ましい。さらに、膜材料であるイットリア−アルミ
ナ複合酸化物の熱膨張係数に基体の材質の熱膨張係数を
近づけるために、基体の材質は、アルミナ、イットリア
−アルミナ複合酸化物、およびアルミナとイットリア−
アルミナ複合酸化物との混合物に対して第三の物質を含
有させることが好ましい。含有物としてはスピネル型化
合物、ジルコニウム化合物等の物質を例示できる。但
し、これらの物質の多量の含有は熱伝導および材質強度
の低下を招くため、含有量は合計で１０重量％以下が好
ましく、３重量％から７重量％がさらに好ましい。
【００１７】前記イットリア−アルミナ複合酸化物とし
ては、以下のものが好ましい。 （１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２（ＹＡＧ：３Ｙ２Ｏ３・５Ａｌ
２Ｏ３） イットリアとアルミナとを３：５の割合で含有し、ガー
ネット結晶構造を有する。 （２）ＹＡｌＯ３（ＹＡＬ：Ｙ２Ｏ３・Ａｌ２Ｏ３）。
ペロブスカイト結晶構造。 （３）Ｙ４Ａｌ２Ｏ９（ＹＡＭ：２Ｙ２Ｏ３・Ａｌ２Ｏ
３）。単斜晶系。
ては、以下のものが好ましい。 （１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２（ＹＡＧ：３Ｙ２Ｏ３・５Ａｌ
２Ｏ３） イットリアとアルミナとを３：５の割合で含有し、ガー
ネット結晶構造を有する。 （２）ＹＡｌＯ３（ＹＡＬ：Ｙ２Ｏ３・Ａｌ２Ｏ３）。
ペロブスカイト結晶構造。 （３）Ｙ４Ａｌ２Ｏ９（ＹＡＭ：２Ｙ２Ｏ３・Ａｌ２Ｏ
３）。単斜晶系。
【００１８】基体は多孔質であってよく、緻密質であっ
てよい。また、基体の表面の中心線平均表面粗さＲａは
限定されないが、例えば１μｍ以上であってよく、更に
は１．２μｍ以上であってよい。これによって膜の下地
への接着性を高め、膜の剥離によるパーティクル発生を
抑制できる。
てよい。また、基体の表面の中心線平均表面粗さＲａは
限定されないが、例えば１μｍ以上であってよく、更に
は１．２μｍ以上であってよい。これによって膜の下地
への接着性を高め、膜の剥離によるパーティクル発生を
抑制できる。
【００１９】本発明において、中間層、イットリア−ア
ルミナ複合酸化物膜は、それぞれ、基体の表面に連続的
に存在していてよい。しかし、基体の所定面に全面にわ
たって連続的に形成されていることは必須ではない。例
えば、基体の表面において不連続的に生成しており、島
状の層状物を複数形成している場合も含む。また、膜
が、基体の所定面に点在ないし散在している場合も含
む。
ルミナ複合酸化物膜は、それぞれ、基体の表面に連続的
に存在していてよい。しかし、基体の所定面に全面にわ
たって連続的に形成されていることは必須ではない。例
えば、基体の表面において不連続的に生成しており、島
状の層状物を複数形成している場合も含む。また、膜
が、基体の所定面に点在ないし散在している場合も含
む。
【００２０】前記中間層においては、イットリアのｍｏ
ｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａ
を０．１以上、０．９以下とする必要がある。即ち、ア
ルミナのｍｏｌ比がイットリアのｍｏｌ比よりも少し大
きいことが必要である。
ｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａ
を０．１以上、０．９以下とする必要がある。即ち、ア
ルミナのｍｏｌ比がイットリアのｍｏｌ比よりも少し大
きいことが必要である。
【００２１】中間層の材質は特に限定されないが、以下
のものが好ましい。 （ａ） イットリア−アルミナ複合酸化物： これは、
前記（１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ １２単独であってよく、（１）
Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２と（２）ＹＡｌＯ３との混合物であっ
てよく、（１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２と（３）Ｙ４Ａｌ２Ｏ
９との混合物であってよく、（１）〜（３）の混合物で
あってよい。 （ｂ） アルミナと（ａ）イットリア−アルミナ複合酸
化物との混合物 （ｃ） （ａ）イットリア−アルミナ複合酸化物とイッ
トリアとの混合物 （ｄ） （ａ）イットリア−アルミナ複合酸化物とアル
ミナとイットリアとの混合物 （ｅ） アルミナとイットリアとの混合物
のものが好ましい。 （ａ） イットリア−アルミナ複合酸化物： これは、
前記（１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ １２単独であってよく、（１）
Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２と（２）ＹＡｌＯ３との混合物であっ
てよく、（１）Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２と（３）Ｙ４Ａｌ２Ｏ
９との混合物であってよく、（１）〜（３）の混合物で
あってよい。 （ｂ） アルミナと（ａ）イットリア−アルミナ複合酸
化物との混合物 （ｃ） （ａ）イットリア−アルミナ複合酸化物とイッ
トリアとの混合物 （ｄ） （ａ）イットリア−アルミナ複合酸化物とアル
ミナとイットリアとの混合物 （ｅ） アルミナとイットリアとの混合物
【００２２】中間層上のイットリア−アルミナ複合酸化
物膜は、ガーネット相を主体とするものであり、具体的
には、Ｘ線回折測定によって得られるガーネット相の
（４２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以
外の結晶相の最大ピーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ
（４２０）／Ｍが２．５以上である。前記ガーネット相
以外の結晶相の種類は限定されず、前記（２）（３）で
あってよいが、典型的にはペロブスカイト相である。
物膜は、ガーネット相を主体とするものであり、具体的
には、Ｘ線回折測定によって得られるガーネット相の
（４２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以
外の結晶相の最大ピーク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ
（４２０）／Ｍが２．５以上である。前記ガーネット相
以外の結晶相の種類は限定されず、前記（２）（３）で
あってよいが、典型的にはペロブスカイト相である。
【００２３】ＹＡＧ（４２０）／Ｍは、４．９以上であ
ることが好ましく、７．４以上であることが更に好まし
い。また、ＹＡＧ（４２０）／Ｍの上限は特になく、実
質的にガーネット相のみからなっていてよい。
ることが好ましく、７．４以上であることが更に好まし
い。また、ＹＡＧ（４２０）／Ｍの上限は特になく、実
質的にガーネット相のみからなっていてよい。
【００２４】中間層上のイットリア−アルミナ複合酸化
物膜の組成は限定されないが、膜内においてガーネット
相が優勢となるような組成比率である必要がある。具体
的には、イットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比
Ａによって除した値Ｙ／Ａを０．５〜０．７とすること
が好ましく、０．５５〜０．６５とすることが更に好ま
しい。
物膜の組成は限定されないが、膜内においてガーネット
相が優勢となるような組成比率である必要がある。具体
的には、イットリアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比
Ａによって除した値Ｙ／Ａを０．５〜０．７とすること
が好ましく、０．５５〜０．６５とすることが更に好ま
しい。
【００２５】本発明のイットリア−アルミナ複合酸化物
膜を製造する好適方法を例示する。基体表面に、イット
リア粉末とアルミナ粉末との混合粉末および／またはイ
ットリア−アルミナ複合酸化物の粉末を溶射することに
よって、中間層を形成する。この中間層の溶射原料は、
前記した組成となるようにする。次いで、中間層上に、
イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末および／ま
たはイットリア−アルミナ複合酸化物の粉末を溶射し、
溶射膜を形成する。
膜を製造する好適方法を例示する。基体表面に、イット
リア粉末とアルミナ粉末との混合粉末および／またはイ
ットリア−アルミナ複合酸化物の粉末を溶射することに
よって、中間層を形成する。この中間層の溶射原料は、
前記した組成となるようにする。次いで、中間層上に、
イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末および／ま
たはイットリア−アルミナ複合酸化物の粉末を溶射し、
溶射膜を形成する。
【００２６】好適な実施形態においては、イットリア粉
末とアルミナ粉末との混合粉末を溶射し、中間層および
中間層上のイットリア−アルミナ複合酸化物膜を成膜
し、次いで熱処理する。
末とアルミナ粉末との混合粉末を溶射し、中間層および
中間層上のイットリア−アルミナ複合酸化物膜を成膜
し、次いで熱処理する。
【００２７】この際、好ましくは、イットリア粉末の５
０％平均粒子径を０．１μｍ以上、１００μｍ以下とす
る。これによって、膜内のクラックを一層抑制でき、か
つ腐食性物質、例えばハロゲン系ガスのプラズマに対す
る耐蝕性が一層改善される。
０％平均粒子径を０．１μｍ以上、１００μｍ以下とす
る。これによって、膜内のクラックを一層抑制でき、か
つ腐食性物質、例えばハロゲン系ガスのプラズマに対す
る耐蝕性が一層改善される。
【００２８】更に、膜の基体への接着力を一層向上させ
るという観点からは、イットリア粉末の５０％平均粒径
を０．５μｍ以上とすることが更に好ましく、３μｍ以
上とすることが一層好ましい。また、膜の基体への接着
力を一層向上させるという観点からは、イットリア粉末
の５０％平均粒径を８０μｍ以下とすることが更に好ま
しく、５０μｍ以下とすることが一層好ましく、１０μ
ｍ以下とすることが特に好ましい。
るという観点からは、イットリア粉末の５０％平均粒径
を０．５μｍ以上とすることが更に好ましく、３μｍ以
上とすることが一層好ましい。また、膜の基体への接着
力を一層向上させるという観点からは、イットリア粉末
の５０％平均粒径を８０μｍ以下とすることが更に好ま
しく、５０μｍ以下とすることが一層好ましく、１０μ
ｍ以下とすることが特に好ましい。
【００２９】好適な実施形態においては、アルミナ粉末
の５０％平均粒子径が０．１μｍ以上、１００μｍ以下
である。これによって、クラックを一層抑制でき、かつ
腐食性物質、例えばハロゲン系ガスのプラズマに対する
耐蝕性が一層改善される。
の５０％平均粒子径が０．１μｍ以上、１００μｍ以下
である。これによって、クラックを一層抑制でき、かつ
腐食性物質、例えばハロゲン系ガスのプラズマに対する
耐蝕性が一層改善される。
【００３０】更に、膜の基体への接着力を一層向上させ
るという観点からは、アルミナ粉末の５０％平均粒径を
０．３μｍ以上とすることが更に好ましく、３μｍ以上
とすることが一層好ましい。また、膜の基体への接着力
を一層向上させるという観点からは、アルミナ粉末の５
０％平均粒径を８０μｍ以下とすることが更に好まし
く、５０μｍ以下とすることが一層好ましく、１０μｍ
以下とすることが特に好ましい。
るという観点からは、アルミナ粉末の５０％平均粒径を
０．３μｍ以上とすることが更に好ましく、３μｍ以上
とすることが一層好ましい。また、膜の基体への接着力
を一層向上させるという観点からは、アルミナ粉末の５
０％平均粒径を８０μｍ以下とすることが更に好まし
く、５０μｍ以下とすることが一層好ましく、１０μｍ
以下とすることが特に好ましい。
【００３１】イットリア粉末、アルミナ粉末ともに、５
０％平均粒子径（Ｄ５０）は、２次粒子が存在しない場
合には１次粒子の粒径であり、２次粒子が存在する場合
には２次粒子の粒径である。
０％平均粒子径（Ｄ５０）は、２次粒子が存在しない場
合には１次粒子の粒径であり、２次粒子が存在する場合
には２次粒子の粒径である。
【００３２】中間層、中間層上のイットリア−アルミナ
複合酸化物膜のいずれにおいても、前記した混合粉末
は、イットリア粉末およびアルミナ粉末以外の第三成分
の粉末を含んでいてもよい。ただし、こうした第三成分
は、ガーネット相に対して悪影響を与えないものである
ことが好ましく、ガーネット相においてイットリアまた
はアルミナを置換するような成分であることが好まし
い。こうした成分としては、以下を例示できる。 Ｌａ２Ｏ３、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅ
ｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ
２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌａ２
Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｚｒ２、ＣｅＯ２、Ｓ
ｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３
複合酸化物膜のいずれにおいても、前記した混合粉末
は、イットリア粉末およびアルミナ粉末以外の第三成分
の粉末を含んでいてもよい。ただし、こうした第三成分
は、ガーネット相に対して悪影響を与えないものである
ことが好ましく、ガーネット相においてイットリアまた
はアルミナを置換するような成分であることが好まし
い。こうした成分としては、以下を例示できる。 Ｌａ２Ｏ３、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅ
ｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ
２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌａ２
Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｚｒ２、ＣｅＯ２、Ｓ
ｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３
【００３３】溶射用の粉末、好ましくは前記混合粉末を
溶射する際には、混合粉末をそのまま溶射することもで
きる。あるいは、混合粉末に対してバインダーと溶剤と
を添加して噴霧乾燥法によって造粒し、造粒粉末を溶射
することもできる。
溶射する際には、混合粉末をそのまま溶射することもで
きる。あるいは、混合粉末に対してバインダーと溶剤と
を添加して噴霧乾燥法によって造粒し、造粒粉末を溶射
することもできる。
【００３４】溶射の際には、低圧状態で溶射することが
好ましく、この圧力は１００Ｔｏｒｒ以下が好ましい。
これによって、溶射膜の気孔を更に減少させ、最終的な
膜の耐蝕性を一層向上させることができる。
好ましく、この圧力は１００Ｔｏｒｒ以下が好ましい。
これによって、溶射膜の気孔を更に減少させ、最終的な
膜の耐蝕性を一層向上させることができる。
【００３５】好適な実施形態においては、溶射膜を熱処
理することができ、これによって膜の基体に対する剥離
強度を一層向上させることができる。
理することができ、これによって膜の基体に対する剥離
強度を一層向上させることができる。
【００３６】この熱処理温度は１４００℃以上が好まし
く、１５００℃以上が更に好ましく、１５５０℃以上が
更に好ましい。熱処理温度を高くすることによって、中
間層上のイットリア−アルミナ複合酸化物膜内で反応が
進み、ガーネット相が生成しやすくなり、この結果、膜
の耐蝕性が向上するものと思われる。
く、１５００℃以上が更に好ましく、１５５０℃以上が
更に好ましい。熱処理温度を高くすることによって、中
間層上のイットリア−アルミナ複合酸化物膜内で反応が
進み、ガーネット相が生成しやすくなり、この結果、膜
の耐蝕性が向上するものと思われる。
【００３７】熱処理温度の上限は特になく、部材本体が
変質しない温度であればよく、この観点からは２０００
℃以下であることが好ましい。溶射膜の熱処理温度が高
くなり、１８００℃に接近してくると、いったん生成し
た反応層の近辺におけるアルミニウム元素の移動、拡散
が生じ、かえって耐蝕膜の剥離強度が低下することがあ
った。この観点からは、熱処理温度は１８００℃以下が
好ましい。
変質しない温度であればよく、この観点からは２０００
℃以下であることが好ましい。溶射膜の熱処理温度が高
くなり、１８００℃に接近してくると、いったん生成し
た反応層の近辺におけるアルミニウム元素の移動、拡散
が生じ、かえって耐蝕膜の剥離強度が低下することがあ
った。この観点からは、熱処理温度は１８００℃以下が
好ましい。
【００３８】本発明のイットリア−アルミナ複合酸化物
膜は、積層体の表面層であることが好ましいが、このイ
ットリア−アルミナ複合酸化物膜上に更に他の膜を形成
することも可能である。
膜は、積層体の表面層であることが好ましいが、このイ
ットリア−アルミナ複合酸化物膜上に更に他の膜を形成
することも可能である。
【００３９】本発明のイットリア−アルミナ複合酸化物
膜および積層体は、優れた耐蝕性を有しており、特にハ
ロゲン系ガスおよびハロゲン系ガスのプラズマに対して
高い耐蝕性を有している。
膜および積層体は、優れた耐蝕性を有しており、特にハ
ロゲン系ガスおよびハロゲン系ガスのプラズマに対して
高い耐蝕性を有している。
【００４０】本発明の耐蝕性部材が耐蝕性を発揮する対
象としては、熱ＣＶＤ装置などの半導体製造装置があ
る。こうした半導体製造装置では、ハロゲン系腐食性ガ
スからなる半導体クリーンガスを用いる。本発明の耐蝕
性部材は、ハロゲンガスプラズマ中だけでなく、ハロゲ
ンガスと酸素ガスを混合した気体のプラズマ雰囲気中に
おいても、耐蝕性をもつ。ハロゲンガスとしては、Ｃｌ
Ｆ３、ＮＦ３、ＣＦ４、ＷＦ６、Ｃｌ２、ＢＣｌ３を例
示できる。
象としては、熱ＣＶＤ装置などの半導体製造装置があ
る。こうした半導体製造装置では、ハロゲン系腐食性ガ
スからなる半導体クリーンガスを用いる。本発明の耐蝕
性部材は、ハロゲンガスプラズマ中だけでなく、ハロゲ
ンガスと酸素ガスを混合した気体のプラズマ雰囲気中に
おいても、耐蝕性をもつ。ハロゲンガスとしては、Ｃｌ
Ｆ３、ＮＦ３、ＣＦ４、ＷＦ６、Ｃｌ２、ＢＣｌ３を例
示できる。
【００４１】
【実施例】（実験Ａ）表１、表２に示す各積層体を製造
した。アルミナ粉末（平均粒径0.2μｍ、純度９９．７
％）を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレス成形して平板状
の成形体を得、この成形体を２トン／ｃｍ２でコールド
アイソスタティックプレス成形して成形体を得、この成
形体を１６００℃で焼成して焼結体を得た。この焼結体
を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ５ｍｍの
平板状の基体を得た。
した。アルミナ粉末（平均粒径0.2μｍ、純度９９．７
％）を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレス成形して平板状
の成形体を得、この成形体を２トン／ｃｍ２でコールド
アイソスタティックプレス成形して成形体を得、この成
形体を１６００℃で焼成して焼結体を得た。この焼結体
を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ５ｍｍの
平板状の基体を得た。
【００４２】この基体にプラズマ溶射法によって中間層
と中間層上の表面層とを成膜した。具体的には、平均粒
径２０μｍのアルミナ粉末と平均粒径２０μｍのイット
リア粉末とを準備した。アルミナ粉末とイットリア粉末
とを、表１、表２において「中間層」の項目に示すモル
比率で混合し、基体上に溶射した。溶射膜厚は表１、表
２に示す。次いで、アルミナ粉末とイットリア粉末と
を、表１、表２において「表面層」の項目に示すモル比
率で混合し、中間層上に溶射した。溶射膜厚は表１、表
２に示す。溶射時には、スルーザーメテコ社製のプラズ
マ溶射機を用い、アルゴンを４０リットル／分の流量で
流し、水素を１２リットル／分の流量で流した。溶射出
力は４０ｋＷとし、溶射距離は１２０ｍｍとした。
と中間層上の表面層とを成膜した。具体的には、平均粒
径２０μｍのアルミナ粉末と平均粒径２０μｍのイット
リア粉末とを準備した。アルミナ粉末とイットリア粉末
とを、表１、表２において「中間層」の項目に示すモル
比率で混合し、基体上に溶射した。溶射膜厚は表１、表
２に示す。次いで、アルミナ粉末とイットリア粉末と
を、表１、表２において「表面層」の項目に示すモル比
率で混合し、中間層上に溶射した。溶射膜厚は表１、表
２に示す。溶射時には、スルーザーメテコ社製のプラズ
マ溶射機を用い、アルゴンを４０リットル／分の流量で
流し、水素を１２リットル／分の流量で流した。溶射出
力は４０ｋＷとし、溶射距離は１２０ｍｍとした。
【００４３】次いで、得られた各積層体を１７００℃で
３時間保持し、熱処理した。得られた各積層体につい
て、次のようにして結晶相の同定、剥離数および耐蝕性
の測定を行った。測定結果を表１、表２に示す。
３時間保持し、熱処理した。得られた各積層体につい
て、次のようにして結晶相の同定、剥離数および耐蝕性
の測定を行った。測定結果を表１、表２に示す。
【００４４】（結晶相の同定）Ｘ線回折装置により結晶
相を同定した。そして、ＹＡＧ（４２０）／他の最大ピ
ークの強度を算出した。測定条件は以下のとおりであ
る。 ＣｕＫα、50kV、300mA 、2 θ＝２０〜７０° 使用装置：回転対陰極型Ｘ線回折装置「理学電機製「Ｒ
ＩＮＴ」」
相を同定した。そして、ＹＡＧ（４２０）／他の最大ピ
ークの強度を算出した。測定条件は以下のとおりであ
る。 ＣｕＫα、50kV、300mA 、2 θ＝２０〜７０° 使用装置：回転対陰極型Ｘ線回折装置「理学電機製「Ｒ
ＩＮＴ」」
【００４５】（剥離の有無）各例について１０個の試料
を作製し、剥離の有無を観測し、剥離の見られた試料の
個数を表に示した。剥離の有無は、次のようにして観測
した。 （１） 目視にて観察 （２） （１）にて剥離が観察されなかった試料におい
ては、金槌にて膜面とは逆側の面から基材に衝撃を与
え、破壊した時、破断部に膜と基材からなる界面が1mm
以上露出したものは剥離が有るものと定義した。
を作製し、剥離の有無を観測し、剥離の見られた試料の
個数を表に示した。剥離の有無は、次のようにして観測
した。 （１） 目視にて観察 （２） （１）にて剥離が観察されなかった試料におい
ては、金槌にて膜面とは逆側の面から基材に衝撃を与
え、破壊した時、破断部に膜と基材からなる界面が1mm
以上露出したものは剥離が有るものと定義した。
【００４６】（耐蝕試験）耐食試験装置内に各例の試料
をセットし、次の条件で実施した。Ｃｌ２ガス中（ヒー
ターオフ）で各試料を２時間保持した。Ｃｌ２ガスの流
量は３００ｓｃｃｍであり、キャリアガス（アルゴンガ
ス）の流量は１００ｓｃｃｍであった。ガス圧力を０．
１ｔｏｒｒとし、ＲＦ８００Ｗ、バイアス電圧３１０Ｗ
の出力を印加した。各試料について、１時間当たりに進
行した腐食の深さを測定した。
をセットし、次の条件で実施した。Ｃｌ２ガス中（ヒー
ターオフ）で各試料を２時間保持した。Ｃｌ２ガスの流
量は３００ｓｃｃｍであり、キャリアガス（アルゴンガ
ス）の流量は１００ｓｃｃｍであった。ガス圧力を０．
１ｔｏｒｒとし、ＲＦ８００Ｗ、バイアス電圧３１０Ｗ
の出力を印加した。各試料について、１時間当たりに進
行した腐食の深さを測定した。
【００４７】（剥離強度試験）剥離強度は、いわゆるセ
バスチャン試験を行って測定した。具体的には以下のと
おりである。 １．試料を10mm×10mm×2mm の厚さに切断する。 ２．切断した試料をアセトンにて5 分超音波洗浄する。 ３．エポキシ系接着剤付きAlスタットピン（フォトテク
ニカ（株）製）を用意する。この接着領域は、直径φ
５．２ｍｍの円形をなしている。 ４．成膜面側にピンを接着する。 ５．試料を接着したピンを治具に取り付け、オートグラ
フにて、膜が剥がれるまで引き上げ、膜がはがれたとき
の荷重および接着面積から接着強度を計算する（剥離強
度＝剥離荷重／ピンの接着面積）。この時、接着剤の部
位ではがれた試料の値については、測定値としない。
バスチャン試験を行って測定した。具体的には以下のと
おりである。 １．試料を10mm×10mm×2mm の厚さに切断する。 ２．切断した試料をアセトンにて5 分超音波洗浄する。 ３．エポキシ系接着剤付きAlスタットピン（フォトテク
ニカ（株）製）を用意する。この接着領域は、直径φ
５．２ｍｍの円形をなしている。 ４．成膜面側にピンを接着する。 ５．試料を接着したピンを治具に取り付け、オートグラ
フにて、膜が剥がれるまで引き上げ、膜がはがれたとき
の荷重および接着面積から接着強度を計算する（剥離強
度＝剥離荷重／ピンの接着面積）。この時、接着剤の部
位ではがれた試料の値については、測定値としない。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【００５０】試験番号１においては、中間層がアルミナ
からなっているが、全数剥離した。番号２〜１２におい
ては剥離は見られなかった。しかし、番号６、７におい
ては、表面層におけるガーネット相の比率が低く、この
ために耐蝕性が低下した。番号１３〜１８においても、
剥離は見られず、あるいは剥離数が少なく、表面層の耐
蝕性も良好であった。番号１９〜２３においては、剥離
数が多かった。剥離が３０％より多く発生した試料の非
剥離部の剥離強度は５MPａ以下であった。
からなっているが、全数剥離した。番号２〜１２におい
ては剥離は見られなかった。しかし、番号６、７におい
ては、表面層におけるガーネット相の比率が低く、この
ために耐蝕性が低下した。番号１３〜１８においても、
剥離は見られず、あるいは剥離数が少なく、表面層の耐
蝕性も良好であった。番号１９〜２３においては、剥離
数が多かった。剥離が３０％より多く発生した試料の非
剥離部の剥離強度は５MPａ以下であった。
【００５１】（実験Ｂ）実験Ａと同様にして、表３に示
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、表面層の膜厚を４００〜１５００μｍとした。
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、表面層の膜厚を４００〜１５００μｍとした。
【００５２】
【表３】
【００５３】試験番号２５〜３１においては、いずれも
良好な耐蝕性が得られた。また、番号２４においては、
アルミナからなる中間層を使用しているが，剥離数が多
かった。剥離が３０％より多く発生した試料の非剥離部
の剥離強度は２MPａ以下であった。番号２５〜３６にお
いては、中間層におけるイットリアのｍｏｌ比を徐々に
増大させている。この結果、イットリアのアルミナに対
するｍｏｌ比率は，０．９以下とすることが必要であ
り、０．６以下とすることが最も好適であることが判明
した。このように、本発明により、厚さ１５００μｍも
のイットリウム−アルミニウムガーネット膜を形成可能
となった。
良好な耐蝕性が得られた。また、番号２４においては、
アルミナからなる中間層を使用しているが，剥離数が多
かった。剥離が３０％より多く発生した試料の非剥離部
の剥離強度は２MPａ以下であった。番号２５〜３６にお
いては、中間層におけるイットリアのｍｏｌ比を徐々に
増大させている。この結果、イットリアのアルミナに対
するｍｏｌ比率は，０．９以下とすることが必要であ
り、０．６以下とすることが最も好適であることが判明
した。このように、本発明により、厚さ１５００μｍも
のイットリウム−アルミニウムガーネット膜を形成可能
となった。
【００５４】（実験Ｃ）実験Ａと同様にして、表４に示
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、アルミナとイットリウム−アルミニウムガーネッ
ト（ＹＡＧ）との混合物からなる基体を使用した。具体
的には、アルミナ粉末（平均粒径０．２μｍ、純度９
９．７％）とイットリア粉末（平均粒径０．６μｍ、純
度９９．９％）とを乾式混合し、混合粉末を得た。アル
ミナとイットリアとのｍｏｌ比率は、３：７とした。こ
の混合粉末を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレス成形して
平板状の成形体を得、この成形体を２トン／ｃｍ２でコ
ールドアイソスタティックプレス成形して成形体を得、
この成形体を１６００℃で焼成して焼結体を得た。この
焼結体を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ５
ｍｍの平板状の基体を得た。
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、アルミナとイットリウム−アルミニウムガーネッ
ト（ＹＡＧ）との混合物からなる基体を使用した。具体
的には、アルミナ粉末（平均粒径０．２μｍ、純度９
９．７％）とイットリア粉末（平均粒径０．６μｍ、純
度９９．９％）とを乾式混合し、混合粉末を得た。アル
ミナとイットリアとのｍｏｌ比率は、３：７とした。こ
の混合粉末を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレス成形して
平板状の成形体を得、この成形体を２トン／ｃｍ２でコ
ールドアイソスタティックプレス成形して成形体を得、
この成形体を１６００℃で焼成して焼結体を得た。この
焼結体を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ５
ｍｍの平板状の基体を得た。
【００５５】
【表４】
【００５６】試験番号３７においては、中間層にイット
リアが含有されていないが、剥離数が多かった。番号３
８〜４２においては、剥離がないか、あるいは少なく、
耐蝕性も良好であった。番号４３、４４においては、剥
離数が多かった。剥離が３０％より多く発生した試料の
剥離強度は剥離強度測定サンプル作成中に剥離が発生し
たため測定できなかった。
リアが含有されていないが、剥離数が多かった。番号３
８〜４２においては、剥離がないか、あるいは少なく、
耐蝕性も良好であった。番号４３、４４においては、剥
離数が多かった。剥離が３０％より多く発生した試料の
剥離強度は剥離強度測定サンプル作成中に剥離が発生し
たため測定できなかった。
【００５７】（実験Ｄ）実験Ａと同様にして、表５に示
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、アルミナとイットリウム−アルミニウムガーネッ
ト（ＹＡＧ）とイットリアとアルミナとのペロブスカイ
ト構造酸化物（ＹＡＬ）との混合物からなる基体を使用
した。具体的には、アルミナ粉末（平均粒径０．２μ
ｍ、純度９９．７％）とイットリア粉末（平均粒径０．
６μｍ、純度９９．９％）とを乾式混合し、混合粉末を
得た。アルミナとイットリアとのｍｏｌ比率は、１：１
とした。この混合粉末を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレ
ス成形して平板状の成形体を得、この成形体を２トン／
ｃｍ２でコールドアイソスタティックプレス成形して成
形体を得、この成形体を１６００℃で焼成して焼結体を
得た。この焼結体を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍ
ｍ、厚さ５ｍｍの平板状の基体を得た。
す各積層体を製造し、評価した。ただし、実験Ａとは異
なり、アルミナとイットリウム−アルミニウムガーネッ
ト（ＹＡＧ）とイットリアとアルミナとのペロブスカイ
ト構造酸化物（ＹＡＬ）との混合物からなる基体を使用
した。具体的には、アルミナ粉末（平均粒径０．２μ
ｍ、純度９９．７％）とイットリア粉末（平均粒径０．
６μｍ、純度９９．９％）とを乾式混合し、混合粉末を
得た。アルミナとイットリアとのｍｏｌ比率は、１：１
とした。この混合粉末を０．２トン／ｃｍ２で乾式プレ
ス成形して平板状の成形体を得、この成形体を２トン／
ｃｍ２でコールドアイソスタティックプレス成形して成
形体を得、この成形体を１６００℃で焼成して焼結体を
得た。この焼結体を加工し、縦１００ｍｍ、横１００ｍ
ｍ、厚さ５ｍｍの平板状の基体を得た。
【００５８】
【表５】
【００５９】試験番号４５においては、中間層にイット
リアが含有されていないが、剥離数が多かった。番号４
６〜５１においては、中間層におけるイットリアの割合
を変更した。この結果、中間層におけるイットリアのア
ルミナに対するｍｏｌ比率を０．９以下、更に好ましく
は０．６以下とすることによって、剥離数が激減し、耐
蝕性が良好な表面層が得られることを確認した。剥離が
３０％より多く発生した試料の非剥離部の剥離強度は測
定できなかった。
リアが含有されていないが、剥離数が多かった。番号４
６〜５１においては、中間層におけるイットリアの割合
を変更した。この結果、中間層におけるイットリアのア
ルミナに対するｍｏｌ比率を０．９以下、更に好ましく
は０．６以下とすることによって、剥離数が激減し、耐
蝕性が良好な表面層が得られることを確認した。剥離が
３０％より多く発生した試料の非剥離部の剥離強度は測
定できなかった。
【００６０】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、基
体からの剥離の抑制されたイットリア−アルミナ複合酸
化物膜を提供することができる。
体からの剥離の抑制されたイットリア−アルミナ複合酸
化物膜を提供することができる。
Claims (21)
- 【請求項１】アルミナとイットリア−アルミナ複合酸化
物との少なくとも一方を主成分とする基体、この基体上
に形成されているイットリア−アルミナ複合酸化物膜お
よび前記基体と前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜
との間に介在する中間層を備えている積層体であって、 前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定
によって得られるガーネット相の（４２０）面のピーク
強度ＹＡＧ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピー
ク強度Ｍによって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．
５以上であり、前記中間層におけるイットリアのｍｏｌ
比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．１以上、０．９以下であることを特徴とする、積層
体。 - 【請求項２】前記中間層におけるイットリアのｍｏｌ比
Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．６以下であることを特徴とする、請求項１記載の積
層体。 - 【請求項３】前記中間層の膜厚が１μｍ以上、５０μｍ
以下であることを特徴とする、請求項１または２記載の
積層体。 - 【請求項４】前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜の
膜厚が５０μｍ以上であることを特徴とする、請求項１
〜３のいずれか一つの請求項に記載の積層体。 - 【請求項５】前記基体が、スピネル型化合物、又はジル
コニウム化合物、又はスピネル型化合物とジルコニウム
化合物との両方を合計で１０重量％以下含有しているこ
とを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つの請求項
に記載の積層体。 - 【請求項６】前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜
が、イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末を溶射
することによって得られた溶射膜の熱処理によって形成
されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか
一つの請求項に記載の積層体。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれか一つの請求項に記
載の積層体を含むことを特徴とする、耐蝕性部材。 - 【請求項８】ハロゲンガスまたはハロゲンガスのプラズ
マに曝露されるべき耐蝕性部材であることを特徴とす
る、請求項７記載の耐蝕性部材。 - 【請求項９】アルミナとイットリア−アルミナ複合酸化
物との少なくとも一方を主成分とする基体上に形成され
ているイットリア−アルミナ複合酸化物膜であって、 前記基体と前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜との
間に中間層が介在しており、この中間層におけるイット
リアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除し
た値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であり、前記イッ
トリア−アルミナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によって
得られるガーネット相の（４２０）面のピーク強度ＹＡ
Ｇ（４２０）を、これ以外の結晶相の最大ピーク強度Ｍ
によって除した値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以上で
あることを特徴とする、イットリア−アルミナ複合酸化
物膜。 - 【請求項１０】前記中間層におけるイットリアのｍｏｌ
比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．６以下であることを特徴とする、請求項９記載のイ
ットリア−アルミナ複合酸化物膜。 - 【請求項１１】前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜
の膜厚が５０μｍ以上であることを特徴とする、請求項
９または１０記載のイットリア−アルミナ複合酸化物
膜。 - 【請求項１２】前記基体が、スピネル型化合物、又はジ
ルコニウム化合物、又はスピネル型化合物とジルコニウ
ム化合物との両方を合計で１０重量％以下含有している
ことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一つの請求
項に記載のイットリア−アルミナ複合酸化物膜。 - 【請求項１３】前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜
が、イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末を溶射
することによって得られた溶射膜の熱処理によって形成
されていることを特徴とする、請求項９〜１２のいずれ
か一つの請求項に記載のイットリア−アルミナ複合酸化
物膜。 - 【請求項１４】アルミナとイットリア−アルミナ複合酸
化物との少なくとも一方を主成分とする基体上にイット
リア−アルミナ複合酸化物膜を製造する方法であって、 前記基体上に中間層を設け、この中間層においてイット
リアのｍｏｌ比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除し
た値Ｙ／Ａが０．１以上、０．９以下であり、前記中間
層上の溶射膜を熱処理することによって前記イットリア
−アルミナ複合酸化物膜を得、このイットリア−アルミ
ナ複合酸化物膜のＸ線回折測定によって得られるガーネ
ット相の（４２０）面のピーク強度ＹＡＧ（４２０）
を、これ以外の結晶相の最大ピーク強度Ｍによって除し
た値ＹＡＧ（４２０）／Ｍが２．５以上であることを特
徴とする、イットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方
法。 - 【請求項１５】前記中間層におけるイットリアのｍｏｌ
比Ｙをアルミナのｍｏｌ比Ａによって除した値Ｙ／Ａが
０．６以下であることを特徴とする、請求項１４記載の
方法。 - 【請求項１６】前記中間層の膜厚が１μｍ以上、５０μ
ｍ以下であることを特徴とする、請求項１４または１５
記載の方法。 - 【請求項１７】前記イットリア−アルミナ複合酸化物膜
の膜厚が５０μｍ以上であることを特徴とする、請求項
１４〜１６のいずれか一つの請求項に記載の方法。 - 【請求項１８】前記基体が、スピネル型化合物、又はジ
ルコニウム化合物、又はスピネル型化合物とジルコニウ
ム化合物との両方を合計で１０重量％以下含有すること
を特徴とする請求項１４〜１７のいずれか一つの請求項
に記載の方法。 - 【請求項１９】イットリア粉末とアルミナ粉末との混合
粉末を前記中間層上に溶射することによって前記溶射膜
を得ることを特徴とする、請求項１４〜１８のいずれか
一つの請求項に記載の方法。 - 【請求項２０】請求項１４〜１９のいずれか一つの請求
項に記載の方法によって得られたことを特徴とする、イ
ットリア−アルミナ複合酸化物膜。 - 【請求項２１】請求項２０記載のイットリア−アルミナ
複合酸化物膜からなることを特徴とする、耐蝕性膜。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002080031A JP2003277051A (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法 |
| US10/377,357 US6858332B2 (en) | 2002-03-22 | 2003-02-28 | Yttria-alumina composite oxide films, laminated bodies having the same, a method for producing the same, and corrosion resistant members and films |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002080031A JP2003277051A (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003277051A true JP2003277051A (ja) | 2003-10-02 |
Family
ID=28449083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002080031A Withdrawn JP2003277051A (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6858332B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003277051A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013111811A1 (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | エム・テクニック株式会社 | ガーネット前駆体微粒子及びガーネット構造の微粒子の製造方法 |
| US9309413B2 (en) | 2012-06-13 | 2016-04-12 | Korea Institute Of Science And Technology | Multi-component thermal spray coating material and production method and coating method thereof |
| WO2020217552A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 日本イットリウム株式会社 | 成膜用又は焼結用粉末 |
| CN116867752A (zh) * | 2020-12-18 | 2023-10-10 | 贺利氏科纳米北美有限责任公司 | 多层烧结陶瓷体 |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4277973B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2009-06-10 | 日本碍子株式会社 | イットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法、イットリア−アルミナ複合酸化物膜および耐蝕性部材 |
| JP4208580B2 (ja) * | 2003-01-15 | 2009-01-14 | 日本碍子株式会社 | 複合焼結体およびその製造方法 |
| JP2005026593A (ja) * | 2003-05-08 | 2005-01-27 | Ngk Insulators Ltd | セラミック製品、耐蝕性部材およびセラミック製品の製造方法 |
| JP2005041746A (ja) * | 2003-07-24 | 2005-02-17 | Ngk Insulators Ltd | セラミック焼結体 |
| US7220497B2 (en) * | 2003-12-18 | 2007-05-22 | Lam Research Corporation | Yttria-coated ceramic components of semiconductor material processing apparatuses and methods of manufacturing the components |
| CN101076614A (zh) * | 2004-07-07 | 2007-11-21 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 基底上的保护涂层及其制备方法 |
| JP2008520712A (ja) * | 2004-11-19 | 2008-06-19 | シンタ ファーマシューティカルズ コーポレーション | ピリミジン化合物及びその使用 |
| US10242888B2 (en) | 2007-04-27 | 2019-03-26 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing apparatus with a ceramic-comprising surface which exhibits fracture toughness and halogen plasma resistance |
| US10622194B2 (en) | 2007-04-27 | 2020-04-14 | Applied Materials, Inc. | Bulk sintered solid solution ceramic which exhibits fracture toughness and halogen plasma resistance |
| US9034199B2 (en) | 2012-02-21 | 2015-05-19 | Applied Materials, Inc. | Ceramic article with reduced surface defect density and process for producing a ceramic article |
| US9212099B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-12-15 | Applied Materials, Inc. | Heat treated ceramic substrate having ceramic coating and heat treatment for coated ceramics |
| US9865434B2 (en) | 2013-06-05 | 2018-01-09 | Applied Materials, Inc. | Rare-earth oxide based erosion resistant coatings for semiconductor application |
| US9850568B2 (en) | 2013-06-20 | 2017-12-26 | Applied Materials, Inc. | Plasma erosion resistant rare-earth oxide based thin film coatings |
| US9711334B2 (en) | 2013-07-19 | 2017-07-18 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition for rare-earth oxide based thin film coatings on process rings |
| US9583369B2 (en) | 2013-07-20 | 2017-02-28 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition for rare-earth oxide based coatings on lids and nozzles |
| US9440886B2 (en) | 2013-11-12 | 2016-09-13 | Applied Materials, Inc. | Rare-earth oxide based monolithic chamber material |
| US9725799B2 (en) | 2013-12-06 | 2017-08-08 | Applied Materials, Inc. | Ion beam sputtering with ion assisted deposition for coatings on chamber components |
| US9869013B2 (en) | 2014-04-25 | 2018-01-16 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition top coat of rare-earth oxide |
| US11326253B2 (en) | 2016-04-27 | 2022-05-10 | Applied Materials, Inc. | Atomic layer deposition of protective coatings for semiconductor process chamber components |
| US9850573B1 (en) | 2016-06-23 | 2017-12-26 | Applied Materials, Inc. | Non-line of sight deposition of erbium based plasma resistant ceramic coating |
| US20180016678A1 (en) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | Applied Materials, Inc. | Multi-layer coating with diffusion barrier layer and erosion resistant layer |
| US10186400B2 (en) | 2017-01-20 | 2019-01-22 | Applied Materials, Inc. | Multi-layer plasma resistant coating by atomic layer deposition |
| US10755900B2 (en) | 2017-05-10 | 2020-08-25 | Applied Materials, Inc. | Multi-layer plasma erosion protection for chamber components |
| US11279656B2 (en) | 2017-10-27 | 2022-03-22 | Applied Materials, Inc. | Nanopowders, nanoceramic materials and methods of making and use thereof |
| US10443126B1 (en) | 2018-04-06 | 2019-10-15 | Applied Materials, Inc. | Zone-controlled rare-earth oxide ALD and CVD coatings |
| US11667575B2 (en) | 2018-07-18 | 2023-06-06 | Applied Materials, Inc. | Erosion resistant metal oxide coatings |
| US11180847B2 (en) | 2018-12-06 | 2021-11-23 | Applied Materials, Inc. | Atomic layer deposition coatings for high temperature ceramic components |
| US10858741B2 (en) | 2019-03-11 | 2020-12-08 | Applied Materials, Inc. | Plasma resistant multi-layer architecture for high aspect ratio parts |
| CN110698811B (zh) * | 2019-09-04 | 2022-08-05 | 深圳嘉会生物科技有限公司 | 一种能促进植物生长的光转化膜及其制备方法和应用 |
| WO2022081700A1 (en) * | 2020-10-15 | 2022-04-21 | Heraeus Conamic North America Llc | Multilayer sintered ceramic body and method of making |
| US20240101486A1 (en) * | 2020-12-18 | 2024-03-28 | Heraeus Conamic North America Llc | Multilayer sintered ceramic body |
| EP4032701A1 (en) * | 2021-01-21 | 2022-07-27 | Heraeus Conamic North America LLC | Multilayer sintered ceramic body |
| EP4215360A1 (en) * | 2022-01-24 | 2023-07-26 | Heraeus Conamic North America LLC | Multilayer sintered ceramic body and method of making |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110136A (ja) | 1999-10-12 | 2001-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | データ保護システム |
| JP3510993B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2004-03-29 | トーカロ株式会社 | プラズマ処理容器内部材およびその製造方法 |
| TW503449B (en) * | 2000-04-18 | 2002-09-21 | Ngk Insulators Ltd | Halogen gas plasma-resistive members and method for producing the same, laminates, and corrosion-resistant members |
| JP4277973B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2009-06-10 | 日本碍子株式会社 | イットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法、イットリア−アルミナ複合酸化物膜および耐蝕性部材 |
-
2002
- 2002-03-22 JP JP2002080031A patent/JP2003277051A/ja not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-02-28 US US10/377,357 patent/US6858332B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013111811A1 (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | エム・テクニック株式会社 | ガーネット前駆体微粒子及びガーネット構造の微粒子の製造方法 |
| JPWO2013111811A1 (ja) * | 2012-01-25 | 2015-05-11 | エム・テクニック株式会社 | ガーネット前駆体微粒子及びガーネット構造の微粒子の製造方法 |
| US9260315B2 (en) | 2012-01-25 | 2016-02-16 | M. Technique Co., Ltd. | Methods for producing garnet precursor microparticles and microparticles having garnet structure |
| US9309413B2 (en) | 2012-06-13 | 2016-04-12 | Korea Institute Of Science And Technology | Multi-component thermal spray coating material and production method and coating method thereof |
| WO2020217552A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 日本イットリウム株式会社 | 成膜用又は焼結用粉末 |
| JP2020183576A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-12 | 日本イットリウム株式会社 | 成膜用又は焼結用粉末 |
| CN113727946A (zh) * | 2019-04-26 | 2021-11-30 | 日本钇股份有限公司 | 成膜用或烧结用粉末 |
| JP7069469B2 (ja) | 2019-04-26 | 2022-05-18 | 日本イットリウム株式会社 | 成膜用又は焼結用粉末 |
| CN113727946B (zh) * | 2019-04-26 | 2024-01-02 | 日本钇股份有限公司 | 成膜用或烧结用粉末 |
| CN116867752A (zh) * | 2020-12-18 | 2023-10-10 | 贺利氏科纳米北美有限责任公司 | 多层烧结陶瓷体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6858332B2 (en) | 2005-02-22 |
| US20030186034A1 (en) | 2003-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003277051A (ja) | イットリア−アルミナ複合酸化物膜を有する積層体、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、耐蝕性部材、耐蝕性膜およびイットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法 | |
| US6783875B2 (en) | Halogen gas plasma-resistive members and method for producing the same, laminates, and corrosion-resistant members | |
| US6641941B2 (en) | Film of yttria-alumina complex oxide, a method of producing the same, a sprayed film, a corrosion resistant member, and a member effective for reducing particle generation | |
| KR100848165B1 (ko) | 내플라즈마성 부재 | |
| JP4540221B2 (ja) | 積層体、耐蝕性部材および耐ハロゲンガスプラズマ用部材 | |
| US20030215643A1 (en) | Plasma-resistant articles and production method thereof | |
| TW201504044A (zh) | 稀土氧化物系抗電漿腐蝕薄膜塗層 | |
| JP2010248054A (ja) | 窒化アルミニウム基複合材料、その製造方法及び半導体製造装置用部材 | |
| JP2002249864A (ja) | 耐ハロゲンガスプラズマ用部材およびその製造方法 | |
| JP6394396B2 (ja) | 耐食性部材、静電チャック装置 | |
| JP2014058418A (ja) | 積層構造体、半導体製造装置用部材及び積層構造体の製造方法 | |
| JP4651166B2 (ja) | 耐食性部材 | |
| JP4601160B2 (ja) | 耐食性部材 | |
| JP2003119087A (ja) | 複合コーティング材料、積層体、耐蝕性部材、耐ハロゲンガスプラズマ用部材および複合コーティング材料の製造方法 | |
| JP2004107718A (ja) | 積層体、溶射膜および積層体の製造方法 | |
| WO2011100527A1 (en) | Method for texturing ceramic components | |
| JP4601136B2 (ja) | 耐食性部材 | |
| JP3784180B2 (ja) | 耐食性部材 | |
| JP2004315308A (ja) | 耐食性部材 | |
| JP2004059397A (ja) | 耐プラズマ性部材 | |
| JP2002293630A (ja) | 耐プラズマ性部材およびその製造方法 | |
| JP2002037660A (ja) | 耐プラズマ性アルミナセラミックスおよびその製造方法 | |
| JP2001294492A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法 | |
| JPH03228874A (ja) | セラミック基板の製造方法 | |
| JPH08283006A (ja) | 超電導複合体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |